JPS61217572A

JPS61217572A - 真空装置による処理方法

Info

Publication number: JPS61217572A
Application number: JP6573286A
Authority: JP
Inventors: Kenichi Ikeda; 健一池田; Yasushi Asami; 康浅見
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1986-03-26
Filing date: 1986-03-26
Publication date: 1986-09-27

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】本発明は真空装置の処理室である蒸着室内の異物巻き上
がりを抑えながら処理室内の被処理物を処理する方法に
関するものである。

周知のように真空装置例えば真空蒸着装置を用いて、た
とえば半導体ウェーハの表面に金属蒸着膜を形成する処
理方法が行なわれている。

そして、この蒸着を行なう際には、まず装置の蒸着室内
を高真空にしてお（必要があり、また蒸着終了後におい
ては蒸着室内の圧力を大気圧にもどす必要がある。

従来、真空蒸着装置２１は第３図に示すように蒸着室２
２を中程において、この蒸着室２２の一方に粗引き用ロ
ータリーポンプ２４をつなぎ、これらの間に粗引きバル
ブ２３を介在させ、これにより真空排気のうちの粗引き
を行ない、次いで蒸着室２２の下部に拡散ポンプ３４お
よび補助用ロータリーポンプ３６をつないで本引きを行
なっている。さらＫ、蒸着室２２の他方にベントパルプ
３０をつないで、これにより蒸着室２２への大気導入を
行なう構造のものでありた。

ところが、このような構造のものにおいては、真空排気
時および大気導入時に気体の流れが乱れ、蒸着室２２内
の異物が巻き上がりウエーノ・表面に付着し、ウェーハ
の蒸着による歩留り低下をきたしていた。

と（に、前記巻き上がり現象が問題となるのは蒸着室２
２内の気体の状態が粘性流領域、たとえば大気圧〜５ｘ
：１Ｏ−３Ｔｏｒｒまでの範囲で問題が生ずる。

本発明はこのような従来の真空装置による処理方法の欠
点を解消するものであって、その目的とするところは真
空装置の処理室内での異物巻き上がりを抑え清浄な処理
室内で半導体ウェーハを処理することができる真空装置
による被処理物の処理法を提供するにある。

以下、添付図面に関連し本発明の実施例について説明す
る。

＠１図は本発明の一実施例に用いられる真空蒸着装置の
系統図である。同図において、この真空蒸着装置１は中
程に蒸着室２を有しており、この蒸着室２０片側には、
真空排気部の一部を構成するところの真空排気用配管３
を取付け、この先端に粗引き用ポンプとし゛（のロータ
リーポンプ４を設けると同時に、このロータリーポンプ
４と蒸着室２を結ぶ配管３０間には、粗引きバルブ５を
介在させている。

さらに、粗引きバルブ５をまたぐようにスａ　−排気用
バイパス６をつないで、このバイパス６に流量制御手段
としての流量コントロールバルブ７とスロー排気バルブ
８を蒸着室２側から順次取り付けている。

また、蒸着室２の反対側には、大気導入部の一部を構成
する大気導入用配管９をつないで、この配管９の中途に
ベントバルブ１０を介在させている。

そして、このベントバルブ１０をまたいで配管９にスロ
ーベント用バイパス１１をつないで、これに流量制御手
段としてのスローベントバルブ１２と流量コントロール
バルブ１３を蒸着室２から遠い位置から順次差べて設け
ている。

また、蒸着室２の下部には本引き用ポンプとしての拡散
ポンプ１４を設け、これを配管１５を介して補助ポンプ
としてのロータリーポンプ１６につないでいる。

つぎＫ、このような真空蒸着装置１による被処理物の処
理法について第１図と第２図（ａ）　、　（ｂ）をつか
って説明する。

まず、（ａ）に示すよ５に蒸着室２を大気圧から適当な
真空度にもっていくためには、真空排気動作を行なわせ
なければならない。

これをするには、最初に流量コントロールバルブ７で大
まかに流量をしぼったあと、つぎのスロー排気バルブ８
にて、気体の粘性流領域での流量を気体が乱れない程度
にしぼって粗引き用のロータリーポンプ４で引（。

ついで、粗引きバルブ５を開いて前記スロー排気バルブ
８での粗引きよりも大なる粗引きを同じ（ロータリーポ
ンプ４で引いて図る。

ここまでは、気体の粘性流領域を対象として真空排気で
あるが、これに引き続いて粘性流領域以外たとえば分子
流領域を対象とした本引き動作に　４入る。

この本引きは、言うに及ばず拡散ポンプ１４と、これに
つないだロータリーポンプ１６とくより行ない、高真空
状態を得る。

この状態において、蒸着室２内で被処理物の処理、すな
わちウェーハの表面に対する金属蒸着膜の形成を行なっ
たあと、前述した大気導入動作を行なわせる。

この大気導入動作は、蒸着室２内の圧力（高真空）を大
気圧にもどすためのもので、これは（ｂｌに示すように
、まずスローベントバルブ１２で取り込む大気の粘性流
領域での流量を気体が乱れない程度にしぼって、これを
さらに流量コントロール・バルブ７で調節して蒸着室２
に導入している。

このあと、ベントバルブ１０を開いてスローベント・バ
ルブ１２による導入量よりも大なる流量で大気を蒸着室
２内にとり込むことにより、蒸着室２の圧力を高真空状
態から大気圧状態にまでもどすことができる。

なお、前記実施例において、大気導入部側におけるスロ
ーベント・バルブ１２と流量コントロール・バルブ１３
の配列順序は第１図に示す通りの配列が最も好ましく、
これらを入れかえた配置にすると、スローベント・バル
ブ１２を開いた直後Ｋ、流ｉｔコントロール・バルブ１
３とスローベント・バルブ１２との間に存在する気体が
流入し、急激な圧力上昇を生ずるため避けなければなら
ない。

同様なことは、真空排気部側における流量コントロール
・バルブ７とスロー換気バルブ８についても生ずること
から第１図に示す配置が望ましい。

ただし、この場合においてはスロー排気バルブ８前後の
圧力差がスローベント・バルブ１２の場合よりも小さい
ために逆の配置にしても、その影響は少ない。

以上の説明から明らかなように本発明によれば、真空装
置の真空排気部と大気導入部の双方にそれぞれ、気体の
粘性流領域での流量を制御するための手段を設けて、真
空排気工程の初期および大気導入工程の初期において、
気体の流量をしぼり極力、気体の流れに乱れを生じさせ
ないようにしているから、従来のように処理室内の異物
の巻き上げがなく、ウェーハなと被処理物に対して清浄
な状態で処理を行なうことができる。

今回面の簡単な説明Ｉ！１図は本発明に用いる真空蒸着装置の排気系統図、
第２図（ａ）　、　（ｂ）は真空排気および大気導入動
作過程を示すブロック図、第３図は従来の真空蒸着装置
の排気系統図である。

１・・・真空蒸着装置、２・・・蒸着室、３・・・真空
排気用配管、４・・・ロータリーポンプ、５・・・粗引
きバルブ、６・・・スロー排気用バイパス、７・・・流
量コントロー　＃−バルブ、８・・・スロー排気バルブ
、９・・・大気導入用配管、１０・・・ベントバルブ、
１１・・・スローベント・バイパス、１２・・・スロー
ベント・バルブ、１３・・・流量コントロールバルブ、
１４・・・拡散ポンプ、１５・・・配管、１６・・・ロ
ータリーポンプ、２１・・・真空蒸着装置、２２・・・
蒸着室、２３・・・粗引きバルブ、２４・・・粗引き用
ロータリ・ポンプ、３０・・・ベントバルブ、３４・・
・拡散ポンプ、３６・・・補助用ロータリーポンプ。

第　　１　　図第　　２　　因第　　３　　図

Claims

【特許請求の範囲】

１、処理室を真空状態にするための真空排気部と、上記
処理室を大気圧にするための大気導入部とを有する真空
装置により被処理物を処理する方法において、上記真空
排気部又は大気導入部に上記処理室における気体の乱れ
を生じさせないための流量調整手段を設けこの流量調整
手段により処理室内で気体の乱れが生じないようにし、
このような処理室を用いて被処理物を処理することを特
徴とする真空装置による処理方法。