JPS5913587B2 - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPS5913587B2 JPS5913587B2 JP594177A JP594177A JPS5913587B2 JP S5913587 B2 JPS5913587 B2 JP S5913587B2 JP 594177 A JP594177 A JP 594177A JP 594177 A JP594177 A JP 594177A JP S5913587 B2 JPS5913587 B2 JP S5913587B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- deposition chamber
- valve
- evacuation
- flow rate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
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- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は蒸着室内の異物巻き上がりを抑え得る真空蒸着
装置に関するものである。
装置に関するものである。
周知のように真空蒸着装置は、たとえば半導体ウェーハ
の表面に金属蒸着膜を形成する場合に用いる。
の表面に金属蒸着膜を形成する場合に用いる。
そして、この蒸着を行なう際には、まず装置の蒸着室内
を高真空にしておく必要があり、また蒸着終了陵におい
ては蒸着室内の圧力を大気圧にもどす必要がある。
を高真空にしておく必要があり、また蒸着終了陵におい
ては蒸着室内の圧力を大気圧にもどす必要がある。
従来、真空蒸着装置２１は第３図に示すように蒸着室２
２を中程において、この蒸着室２２の一方に粗引き用ロ
ータリーポンプ２４をつなぎ、これらの間に粗引きバル
ブ２３を介在させ、これに５ より真空排気のうちの粗
引きを行ない、次いで蒸着室２２の下部に拡散ポンプ３
４および補助用０−タリポンプ３６をつないで本引きを
行なつている。
２を中程において、この蒸着室２２の一方に粗引き用ロ
ータリーポンプ２４をつなぎ、これらの間に粗引きバル
ブ２３を介在させ、これに５ より真空排気のうちの粗
引きを行ない、次いで蒸着室２２の下部に拡散ポンプ３
４および補助用０−タリポンプ３６をつないで本引きを
行なつている。
さらに、蒸着室２２の他方にベントバルブ３０をつない
で、これにより蒸着室２２への大気導入を１０行なう構
造のものであつた。ところが、このような構造のものに
おいては、真空排気時および大気導入時に気体の流れが
乱れ、蒸着室２２内の異物が巻き上がりウェーハ表面に
付着し、ウェーハの蒸着による歩留り低下をきた１５し
ていた。
で、これにより蒸着室２２への大気導入を１０行なう構
造のものであつた。ところが、このような構造のものに
おいては、真空排気時および大気導入時に気体の流れが
乱れ、蒸着室２２内の異物が巻き上がりウェーハ表面に
付着し、ウェーハの蒸着による歩留り低下をきた１５し
ていた。
とくに、前記巻き上がり現象が問題となるのは蒸着室２
２内の気体の状態が粘性流領域、たとえば大気圧〜５×
１０１ｏ−ｒｒまでの範囲で問題が生ずる。
２内の気体の状態が粘性流領域、たとえば大気圧〜５×
１０１ｏ−ｒｒまでの範囲で問題が生ずる。
本発明はこのような従来の真空蒸着装置の欠点２０を解
消するものであつて、その目的とするところは蒸着室内
の異物巻き上がりを抑え清浄な蒸着膜の形成が図れる真
空蒸着装置を提供するにある。このような目的を達成す
るための本発明の要旨は、真空排気部と大気導入部の双
方に粘性流領域２５での流量制御手段を設けた真空蒸着
装置にある。以下、添付図面に関連し本発明の実施例に
ついて説明する。第１図は実施例の真空蒸着装置の系統
図である。
消するものであつて、その目的とするところは蒸着室内
の異物巻き上がりを抑え清浄な蒸着膜の形成が図れる真
空蒸着装置を提供するにある。このような目的を達成す
るための本発明の要旨は、真空排気部と大気導入部の双
方に粘性流領域２５での流量制御手段を設けた真空蒸着
装置にある。以下、添付図面に関連し本発明の実施例に
ついて説明する。第１図は実施例の真空蒸着装置の系統
図である。
同図において、この真空蒸着装置１は中程に蒸着３０室
２を有しており、この蒸着室２の片側には、真空排気部
の一部を構成するところの真空排気用配管３を取付け、
この先端に粗引き用ポンプとしてのロータリポンプ４を
設けると同時に、このロータリポンプ４と蒸着室２を結
ぶ配管３の間には、３５粗引きバルブ５を介在させてい
る。さらに、粗引きバルブ５をまたぐようにスロー排気
用バイパス６をつないで、このバイパス６にＩｑ【−流
量制御手段としての流量コントロールバルブ７とスロ一
排気バルブ８を蒸着室２側から順次取り付けている。
２を有しており、この蒸着室２の片側には、真空排気部
の一部を構成するところの真空排気用配管３を取付け、
この先端に粗引き用ポンプとしてのロータリポンプ４を
設けると同時に、このロータリポンプ４と蒸着室２を結
ぶ配管３の間には、３５粗引きバルブ５を介在させてい
る。さらに、粗引きバルブ５をまたぐようにスロー排気
用バイパス６をつないで、このバイパス６にＩｑ【−流
量制御手段としての流量コントロールバルブ７とスロ一
排気バルブ８を蒸着室２側から順次取り付けている。
また、蒸着室２の反対側には、大気導入部の一部を構成
する大気導入用配管９をつないで、この配管９の中途に
ベントバルブ１０を介在させている。
する大気導入用配管９をつないで、この配管９の中途に
ベントバルブ１０を介在させている。
そして、このベントバルブ１０をまたいで配管９にスロ
ーベント用バイパス１１をつないで、これに流量制御手
段としてのスローベントバルブ１２と流量コントロール
バルブ１３を蒸着室２から遠い位置から順次並べて設け
ている。また、蒸着室２の下部には本引き用ポンプとし
ての拡散ポンプ１４を設け、これを配管１５を介して補
助ポンプとしてのロータリポンプ１６につないでいる。
ーベント用バイパス１１をつないで、これに流量制御手
段としてのスローベントバルブ１２と流量コントロール
バルブ１３を蒸着室２から遠い位置から順次並べて設け
ている。また、蒸着室２の下部には本引き用ポンプとし
ての拡散ポンプ１４を設け、これを配管１５を介して補
助ポンプとしてのロータリポンプ１６につないでいる。
つぎに、このように構成した真空蒸看装置１における真
空排気動作および大気導入動作について第１図と第２図
Ａ，ｂをつかつて説明する。
空排気動作および大気導入動作について第１図と第２図
Ａ，ｂをつかつて説明する。
まず、ａに示すように蒸着室２を大気圧から適当な真空
度にもつていくためには、真空排気動作を行なわせなけ
ればならない。これをするには、最初に流量コントロー
ルバルブ７で大まかに流量をしぼつたあと、つぎのスロ
一排気バルブ８にて、気体の粘性流領域での流量を気体
が乱れない程度にしぼつて粗引き用のロータリポンプ４
で引く。
度にもつていくためには、真空排気動作を行なわせなけ
ればならない。これをするには、最初に流量コントロー
ルバルブ７で大まかに流量をしぼつたあと、つぎのスロ
一排気バルブ８にて、気体の粘性流領域での流量を気体
が乱れない程度にしぼつて粗引き用のロータリポンプ４
で引く。
ついで、粗引きバルブ５を開いて前記スロ一排気バルブ
８での粗引きよりも大なる粗引きを同じくロータリポン
プ４で引いて図る。
８での粗引きよりも大なる粗引きを同じくロータリポン
プ４で引いて図る。
ここまでは、気体の粘性流領域を対象として真空排気で
あるが、これに引き続いて粘性流領域以外たとえば分子
流領域を対象とした本引き動作に入る。
あるが、これに引き続いて粘性流領域以外たとえば分子
流領域を対象とした本引き動作に入る。
この本引きは、言うに及ばず拡散ポンプ１４と、これに
つないだロータリーポンプ１６とにより行ない、高真空
状態を得る。
つないだロータリーポンプ１６とにより行ない、高真空
状態を得る。
この状態において、蒸着室２内で所定の蒸着、すなわち
ウエーハの表面に対する金属蒸着膜の形成を行なつたあ
と、前述した大気導入動作を行なわせる。
ウエーハの表面に対する金属蒸着膜の形成を行なつたあ
と、前述した大気導入動作を行なわせる。
この大気導入動作は、蒸着室２内の圧力（高真空）を大
気圧にもどすためのもので、これはｂに示すように、ま
ずスローベントバルブ１２で取り込む大気の粘性流領域
での流量を気体が乱れない程度にしぼつて、これをさら
に流量コントロール・バルブ７で調節して蒸着室２に導
入している。
気圧にもどすためのもので、これはｂに示すように、ま
ずスローベントバルブ１２で取り込む大気の粘性流領域
での流量を気体が乱れない程度にしぼつて、これをさら
に流量コントロール・バルブ７で調節して蒸着室２に導
入している。
このあと、ベントバルブ１０を開いてスローベント・バ
ルブ１２による導入量よりも大なる流量で大気を蒸看室
２内にとり込むことにより、蒸着室２の圧力を高真空状
態から大気圧状態にまでもどすことができる。なお、前
記実施例において、大気導入部側におけるスローベント
・バルブ１２と流量コントロール・バルブ１３の配列順
序は第１図に示す通りの配列が最も好ましく、これらを
入れかえた配置にすると、スローベントバルブ１２を開
いた直後に、流量コントロール・バルブ１３とスローベ
ント・バルブ１２との間に存在する気体が流入し、急激
な圧力上昇を生ずるため避けなければならない。
ルブ１２による導入量よりも大なる流量で大気を蒸看室
２内にとり込むことにより、蒸着室２の圧力を高真空状
態から大気圧状態にまでもどすことができる。なお、前
記実施例において、大気導入部側におけるスローベント
・バルブ１２と流量コントロール・バルブ１３の配列順
序は第１図に示す通りの配列が最も好ましく、これらを
入れかえた配置にすると、スローベントバルブ１２を開
いた直後に、流量コントロール・バルブ１３とスローベ
ント・バルブ１２との間に存在する気体が流入し、急激
な圧力上昇を生ずるため避けなければならない。
同様なことは、真空排気部側における流量コントロール
・バルブ７とスロ一排気バルブ８についても生ずること
から第１図に示す配置が望ましい。ただし、この場合に
おいてはスロ一排気バルブ８前後の圧力差がスローベン
ド・バルブ１２の場合よりも小さいために逆の配置にし
ても、その影響は少ない。以上の説明から明らかなよう
に本発明による真空蒸着装置によれば、真空蒸着装置の
真空排気部と大気導入部の双方にそれぞれ、気体の粘性
流領域での流量を制御するための手段を設けて、真空排
気工程の初期および大気導入工程の初期において、気体
の流量をしぼり極力、気体の流れに乱れを生じさせない
ようにしているから、従来のように蒸着室内の異物の巻
き上げがなく、ウエーハなど対象物に対して清浄な蒸看
膜の形成が図れる。
・バルブ７とスロ一排気バルブ８についても生ずること
から第１図に示す配置が望ましい。ただし、この場合に
おいてはスロ一排気バルブ８前後の圧力差がスローベン
ド・バルブ１２の場合よりも小さいために逆の配置にし
ても、その影響は少ない。以上の説明から明らかなよう
に本発明による真空蒸着装置によれば、真空蒸着装置の
真空排気部と大気導入部の双方にそれぞれ、気体の粘性
流領域での流量を制御するための手段を設けて、真空排
気工程の初期および大気導入工程の初期において、気体
の流量をしぼり極力、気体の流れに乱れを生じさせない
ようにしているから、従来のように蒸着室内の異物の巻
き上げがなく、ウエーハなど対象物に対して清浄な蒸看
膜の形成が図れる。
第１図は本発明の真空蒸着装置の排気系統図、第２図Ａ
，ｂは真空排気および大気導入動作過程を示すプロツク
図、第３図は従来の真空蒸着装置の排気系統図である。 １・・・・・・真空蒸看装置、２・・・・・・蒸着室、
３・・・・・・真空排気用配管、４・・・・・・ロータ
リポンプ、５・・・・・・粗引きバルブ、６・・・・・
・スロ一排気用バイパス、７・・・・・・流量コントロ
ール・パルプ（ ８・・・・・・スロ一排気バルブ、９
・・・・・・大気導入用配管、１０・・・・・・ベント
バルブ、１１・・・・・・スローベント・バイパス、１
２・・・・・・スローベント・パルプζ １３゛゜゜゜
゛゜流量コントロールバルブ、１４・・・・・・拡散ポ
ンプ、１５・・・・・・配管、１６・・・・・・ロータ
リポンプ、２１・・・・・・真空蒸着装置、２２・・・
・・・蒸着室、２３・・・・・・粗引きバルブ、２４・
・・・・・粗引き用ロータリ・ポンプ、３０・・・・・
・ベントバルブ、３４・・・・・・拡散ポンプ、３６・
・・・・・補助用ロータリポンプ。
，ｂは真空排気および大気導入動作過程を示すプロツク
図、第３図は従来の真空蒸着装置の排気系統図である。 １・・・・・・真空蒸看装置、２・・・・・・蒸着室、
３・・・・・・真空排気用配管、４・・・・・・ロータ
リポンプ、５・・・・・・粗引きバルブ、６・・・・・
・スロ一排気用バイパス、７・・・・・・流量コントロ
ール・パルプ（ ８・・・・・・スロ一排気バルブ、９
・・・・・・大気導入用配管、１０・・・・・・ベント
バルブ、１１・・・・・・スローベント・バイパス、１
２・・・・・・スローベント・パルプζ １３゛゜゜゜
゛゜流量コントロールバルブ、１４・・・・・・拡散ポ
ンプ、１５・・・・・・配管、１６・・・・・・ロータ
リポンプ、２１・・・・・・真空蒸着装置、２２・・・
・・・蒸着室、２３・・・・・・粗引きバルブ、２４・
・・・・・粗引き用ロータリ・ポンプ、３０・・・・・
・ベントバルブ、３４・・・・・・拡散ポンプ、３６・
・・・・・補助用ロータリポンプ。
Claims (1)
- １ 蒸着室を真空状態にするための真空排気部と、この
真空排気部により真空になつた蒸着室の圧力を大気圧に
するための大気導入部を具備した真空蒸着装置において
、前記真空排気部と大気導入部の双方に粘性流領域での
気体の乱れを生じさせないための流量調節手段を設けた
ことを特徴とする真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP594177A JPS5913587B2 (ja) | 1977-01-24 | 1977-01-24 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP594177A JPS5913587B2 (ja) | 1977-01-24 | 1977-01-24 | 真空蒸着装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22202383A Division JPS59133365A (ja) | 1983-11-28 | 1983-11-28 | 真空装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5391081A JPS5391081A (en) | 1978-08-10 |
| JPS5913587B2 true JPS5913587B2 (ja) | 1984-03-30 |
Family
ID=11624917
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP594177A Expired JPS5913587B2 (ja) | 1977-01-24 | 1977-01-24 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5913587B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59232269A (ja) * | 1983-06-14 | 1984-12-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 真空装置 |
| JPS59232268A (ja) * | 1983-06-14 | 1984-12-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 真空装置 |
-
1977
- 1977-01-24 JP JP594177A patent/JPS5913587B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5391081A (en) | 1978-08-10 |
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