JPH0593272A - 真空容器の給気装置及び給気方法 - Google Patents
真空容器の給気装置及び給気方法Info
- Publication number
- JPH0593272A JPH0593272A JP27833391A JP27833391A JPH0593272A JP H0593272 A JPH0593272 A JP H0593272A JP 27833391 A JP27833391 A JP 27833391A JP 27833391 A JP27833391 A JP 27833391A JP H0593272 A JPH0593272 A JP H0593272A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flow rate
- stop valve
- controller
- rate controller
- vacuum container
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】真空容器の給気に於いて、発塵を抑制し、且信
頼性の高い真空容器の給気装置を提供する。 【構成】真空容器1に該真空容器側より、流量制御器
7、ストップバルブ4を接続し、該流量制御器、ストッ
プバルブを介して給気する様構成し、又前記真空容器へ
の給気は、前記流量制御器を少なくとも給気開始時に前
記流量制御器のオリフィス開度が0である様にし、給気
時のガス給気流量を0から徐々に増大してゆく。
頼性の高い真空容器の給気装置を提供する。 【構成】真空容器1に該真空容器側より、流量制御器
7、ストップバルブ4を接続し、該流量制御器、ストッ
プバルブを介して給気する様構成し、又前記真空容器へ
の給気は、前記流量制御器を少なくとも給気開始時に前
記流量制御器のオリフィス開度が0である様にし、給気
時のガス給気流量を0から徐々に増大してゆく。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置等真空雰囲
気で各種処理を行う装置に於いて、真空容器が真空状態
から常圧に復帰する際の給気装置及び給気方法に関する
ものである。
気で各種処理を行う装置に於いて、真空容器が真空状態
から常圧に復帰する際の給気装置及び給気方法に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】半導体素子を製造する場合、ウェーハを
真空雰囲気でCVD処理、エッチングを行うが、処理完
了後のウェーハの搬送、搬入は、大気中で行われる。
真空雰囲気でCVD処理、エッチングを行うが、処理完
了後のウェーハの搬送、搬入は、大気中で行われる。
【0003】この為、処理開始、処理完了の度に真空引
き、大気復帰が繰り返し行われる。この大気復帰は真空
室に窒素ガスを給気し、常圧となったところで真空室が
解放されている。
き、大気復帰が繰り返し行われる。この大気復帰は真空
室に窒素ガスを給気し、常圧となったところで真空室が
解放されている。
【0004】従来の真空容器の給気装置を図3によって
説明する。
説明する。
【0005】図中、1は真空容器であり、該真空容器1
にフィルタ2を介してニードルバルブ3を接続し、更に
該ニードルバルブ3はストップバルブ4を介して窒素ガ
ス源5に接続されている。又、6は排気管である。
にフィルタ2を介してニードルバルブ3を接続し、更に
該ニードルバルブ3はストップバルブ4を介して窒素ガ
ス源5に接続されている。又、6は排気管である。
【0006】上記従来の真空容器の給気装置で真空状態
から大気へ復帰する場合、前記ストップバルブ4を開い
て、前記窒素ガス源5から窒素ガスを前記真空容器1に
導入して常圧迄昇圧する。
から大気へ復帰する場合、前記ストップバルブ4を開い
て、前記窒素ガス源5から窒素ガスを前記真空容器1に
導入して常圧迄昇圧する。
【0007】ここで、前記ストップバルブ4は、前記窒
素ガス源5から窒素ガスが急激に前記真空容器1に流入
しない様に、流量を制限している。
素ガス源5から窒素ガスが急激に前記真空容器1に流入
しない様に、流量を制限している。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記した従
来の真空容器の給気装置では、前記ニードルバルブ3と
ストップバルブ4との間に空気溜まりが生じており、該
ストップバルブ4を開くと、この溜り分が1度に流入
し、発塵の原因になっている。更に、前記ニードルバル
ブ3が再現性に乏しく、給気動作の度に流入量にばらつ
きがあり、発塵を誘起している。
来の真空容器の給気装置では、前記ニードルバルブ3と
ストップバルブ4との間に空気溜まりが生じており、該
ストップバルブ4を開くと、この溜り分が1度に流入
し、発塵の原因になっている。更に、前記ニードルバル
ブ3が再現性に乏しく、給気動作の度に流入量にばらつ
きがあり、発塵を誘起している。
【0009】本発明は、斯かる実情に鑑み発塵を抑制
し、且信頼性の高い真空容器の給気装置を提供しようと
するものである。
し、且信頼性の高い真空容器の給気装置を提供しようと
するものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、真空容器に該
真空容器側より、流量制御器、ストップバルブを接続
し、該流量制御器、ストップバルブを介して給気する様
構成し、又前記真空容器への給気は、前記流量制御器を
少なくとも給気開始時に前記流量制御器のオリフィス開
度が0である様にしたことを特徴とするものである。
真空容器側より、流量制御器、ストップバルブを接続
し、該流量制御器、ストップバルブを介して給気する様
構成し、又前記真空容器への給気は、前記流量制御器を
少なくとも給気開始時に前記流量制御器のオリフィス開
度が0である様にしたことを特徴とするものである。
【0011】
【作用】給気時のガス給気流量を流量制御器で設定する
ので、安定性、再現性が高く、又給気は0から徐々に増
大して設定値に達するので、発塵が抑制される。
ので、安定性、再現性が高く、又給気は0から徐々に増
大して設定値に達するので、発塵が抑制される。
【0012】
【実施例】以下、図面に基づき本発明の一実施例を説明
する。
する。
【0013】尚、図1中、図3中で示したものと同一の
ものには同符号を付してある。
ものには同符号を付してある。
【0014】真空容器1にフィルタ2を介して流量制御
器7を接続し、更に該流量制御器7にストップバルブ4
を介して窒素ガス源5を接続する。又、前記ストップバ
ルブ4、流量制御器7は制御装置8によって開閉する。
器7を接続し、更に該流量制御器7にストップバルブ4
を介して窒素ガス源5を接続する。又、前記ストップバ
ルブ4、流量制御器7は制御装置8によって開閉する。
【0015】該流量制御器7の流量設定は、前記制御装
置8によって設定する様にしてもよいが、簡便には実験
等で得たデータを基に手動で設定する様にし、シーケン
ス動作を簡略化する。
置8によって設定する様にしてもよいが、簡便には実験
等で得たデータを基に手動で設定する様にし、シーケン
ス動作を簡略化する。
【0016】本実施例による大気圧復帰作動を、図2を
参照して説明する。
参照して説明する。
【0017】図2中、(A)はストップバルブ4の開閉
信号、(B)は流量制御器7の開閉信号を表しており、
(C)は流量制御器7の流量状態を示し、又(D)は該
流量制御器7のオリフィス開度の状態を示している。
信号、(B)は流量制御器7の開閉信号を表しており、
(C)は流量制御器7の流量状態を示し、又(D)は該
流量制御器7のオリフィス開度の状態を示している。
【0018】大気圧に復帰させる場合、先ず前記流量制
御器7に閉信号を入力し、該流量制御器7を一定時間閉
として、次に前記ストップバルブ4に開信号を入力し
て、前記流量制御器7を経て前記真空容器1に窒素ガス
を導入する。ここで前記流量制御器7への閉信号終了時
期は、前記ストップバルブ4への開信号入力時期と一致
させるか、或は流量制御器7の閉状態とストップバルブ
4の開状態が若干オーバラップするものとする。
御器7に閉信号を入力し、該流量制御器7を一定時間閉
として、次に前記ストップバルブ4に開信号を入力し
て、前記流量制御器7を経て前記真空容器1に窒素ガス
を導入する。ここで前記流量制御器7への閉信号終了時
期は、前記ストップバルブ4への開信号入力時期と一致
させるか、或は流量制御器7の閉状態とストップバルブ
4の開状態が若干オーバラップするものとする。
【0019】前記流量制御器7が閉の状態から前記窒素
ガスが流れ始めるので、流量制御器7を流れる窒素ガス
の流量は、(C)の様になだらかに増大して設定値に達
する。
ガスが流れ始めるので、流量制御器7を流れる窒素ガス
の流量は、(C)の様になだらかに増大して設定値に達
する。
【0020】ここで、前記流量制御器7を閉の状態から
開始するようにしたのは、流量制御器7で閉状態を強制
しないと、流量0の場合流量制御器7は全開状態となっ
ており、この全開状態から開始すると流量制御器7のオ
リフィス開度が設定流量に見合った開度になる迄の時間
遅れを生じ、その間オーバシュートが起こって急激に窒
素ガスが流入し、発塵の原因となるからである。
開始するようにしたのは、流量制御器7で閉状態を強制
しないと、流量0の場合流量制御器7は全開状態となっ
ており、この全開状態から開始すると流量制御器7のオ
リフィス開度が設定流量に見合った開度になる迄の時間
遅れを生じ、その間オーバシュートが起こって急激に窒
素ガスが流入し、発塵の原因となるからである。
【0021】又、流量制御器7のオリフィス開度は、開
始時点より徐々に増大し、設定値に達し、前記ストップ
バルブ4が閉となり、流量が0となった時点で全開とな
る。
始時点より徐々に増大し、設定値に達し、前記ストップ
バルブ4が閉となり、流量が0となった時点で全開とな
る。
【0022】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、流量設
定を流量制御器で行うので、再現性、信頼性が高く、而
も大気復帰時に置換ガスが0の状態から増加していくの
で、発塵を防止することができる。
定を流量制御器で行うので、再現性、信頼性が高く、而
も大気復帰時に置換ガスが0の状態から増加していくの
で、発塵を防止することができる。
【図1】本発明の一実施例を示すブロック図である。
【図2】本実施例の作動タイミング線図であり、(A)
はストップバルブの開閉信号、(B)は流量制御器の開
閉信号、(C)は流量制御器の流量状態、又(D)は該
流量制御器のオリフィス開度の状態をそれぞれ示してい
る。
はストップバルブの開閉信号、(B)は流量制御器の開
閉信号、(C)は流量制御器の流量状態、又(D)は該
流量制御器のオリフィス開度の状態をそれぞれ示してい
る。
【図3】従来例を示すブロック図である。
1 真空容器 2 フィルタ 3 ニードルバルブ 4 ストップバルブ 5 窒素ガス源 6 排気管 7 流量制御器 8 制御装置
Claims (2)
- 【請求項1】 真空容器に該真空容器側より、流量制御
器、ストップバルブを接続し、該流量制御器、ストップ
バルブを介して給気する様構成したことを特徴とする真
空容器の給気装置。 - 【請求項2】 真空容器に該真空容器側より、流量制御
器、ストップバルブを接続し、該流量制御器、ストップ
バルブを介して給気する様にし、前記真空容器への給気
は、前記流量制御器を少なくとも給気開始時に前記流量
制御器のオリフィス開度が0である様にしたことを特徴
とする真空容器の給気方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27833391A JPH0593272A (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | 真空容器の給気装置及び給気方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27833391A JPH0593272A (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | 真空容器の給気装置及び給気方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0593272A true JPH0593272A (ja) | 1993-04-16 |
Family
ID=17595871
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27833391A Pending JPH0593272A (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | 真空容器の給気装置及び給気方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0593272A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017112159A (ja) * | 2015-12-15 | 2017-06-22 | Ckd株式会社 | ガス流量監視方法及びガス流量監視装置 |
-
1991
- 1991-09-30 JP JP27833391A patent/JPH0593272A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017112159A (ja) * | 2015-12-15 | 2017-06-22 | Ckd株式会社 | ガス流量監視方法及びガス流量監視装置 |
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