JPH0250421A - ガス供給装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はガス供給装置に関し、特にパージ機能を有する
ガス供給装置に関する。

〔従来の技術〕

従来、この種の蒸気圧の低いプロセスガスを用いる半導
体製造装置では第２図に示すようにマスフローコントロ
ーラ（以下、ＮＦＣという）３．ガスバルブ４、圧力調
整用バルブ、アイソレージコンバルブ８、真空処理室９
、ターボポンプ１０、ロータリポンプ１１等を有してお
り、　ＭＦＣ３の前後にバルブが設けてあり、ＮＦＣの
前のバルブを閉めることによりＭＦＣａ内を排気したり
、また真空処理室９を通して不活性ガスでパージする作
業を行っていた。

〔発明が解決しようとするｌＫ！！Ｉ）上述したように
従来のガス供給装置では、パージを頻繁に行えないため
、バルブ閉鎖時に残留した気体が徐々にＭＦＣａ内にあ
る流量測定用のセンサ管内で液化し、結果として測定誤
差が増大し、流量制御が行われなくなるという欠点があ
る。

本発明の目的は前記課題を解決したガス供給装置を提供
することにある。

〔発明の従来技術に対する相違点〕

上述した従来のガス供給装置に対し、本発明でのガス供
給装置では、ＮＦＣ直後にパージ用のバイパスを設け、
エツチング処理後、毎回センサ管内に残留するガスを不
活性ガスを用い、−掃することができるという相違点を
有する。

〔課題を解決するための手段〕

前記目的を達成するため、本発明はマスフローコントロ
ーラを用いる半導体製造装置において。

蒸気圧の低いプロセスガスを用いる場合に、装置にプロ
セスガスが流れていない間１分枝したバイパス管を通し
て前記マスフローコントローラを不活性ガスでパージす
る機能を有するものである。

〔実施例〕

以下、本発明の一実施例を図により説明する。

第１図は本発明の一実施例を示すブロック図である。

図において、不活性ガスラインＧいプロセスガスライン
Ｇ２を不活性ガス供給用バルブ１．プロセスガス供給用
バルブ２をそれぞれ介してプロセスガス用ＭＦＣ３の流
入側に接続し、該ＭＦＣ３の流出側をガスバルブ４を介
して真空処理室９に接続する。

一方、真空処理室９には圧力調整用バルブ７、アイソレ
ーションバルブ８を介してターボポンプ１０、ロータリ
ポンプ１１を接続する。

さらに、プロセスガス用ＭＦＣ３の流出側をバイパスバ
ルブ５、不活性ガス用ＭＦＣ６を介してターボポンプ１
０側にバイパスさせる。

半導体製造装置において、処理終了後、バルブ２を閉じ
、真空処理室９を介してポンプ１０．１１で真空に引く
０次にバルブ４と８を閉じ、バルブ１と５を開く。この
とき、ＭＦＣ６で不活性ガスが過大に流れないように流
量を調節する。一定時間不活性ガスを流した後、バルブ
１を閉じ、真空引きを行う０次に、バルブ５を閉じ、バ
ルブ８．バルブ４、バルブ２の順に開くことにより、処
理動作可能とし、再び処理を継続させる。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明は不活性ガスを半導体製造装
置処理終了後、−度ＭＦＣ内のセンサ管に流すことによ
り、従来の方法で多くみられたセンサ管内の目づまりに
よる故障を皆無にすることができる効果を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の不活性ガス供給装置を示すブロック図
、また第２図は従来のガス供給装置を示すブロック図で
ある。 １・・・不活性ガス供給用バルブ ２・・・プロセスガス供給用バルブ ３・・・プロセスガス供給ＭＦＣ４・・・ガスバルブ５
・・・バイパスバルブ　　　　６・・・不活性ガス用Ｍ
ＦＣ７・・・圧力調整用バルブ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）マスフローコントローラを用いる半導体製造装置
   において、蒸気圧の低いプロセスガスを用いる場合に、
   装置にプロセスガスが流れていない間、分枝したバイパ
   ス管を通して前記マスフローコントローラを不活性ガス
   でパージする機能を有することを特徴とするガス供給装
   置。