JP4137267B2 - オリフィス内蔵弁 - Google Patents

オリフィス内蔵弁 Download PDF

Info

Publication number
JP4137267B2
JP4137267B2 JP02025699A JP2025699A JP4137267B2 JP 4137267 B2 JP4137267 B2 JP 4137267B2 JP 02025699 A JP02025699 A JP 02025699A JP 2025699 A JP2025699 A JP 2025699A JP 4137267 B2 JP4137267 B2 JP 4137267B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
orifice
valve
valve seat
seat body
outflow passage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP02025699A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2000213667A (ja
Inventor
忠弘 大見
英二 出田
亮介 土肥
功二 西野
信一 池田
隆 廣瀬
道雄 山路
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujikin Inc
Original Assignee
Fujikin Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujikin Inc filed Critical Fujikin Inc
Priority to JP02025699A priority Critical patent/JP4137267B2/ja
Priority to TW90211979U priority patent/TW471583U/zh
Publication of JP2000213667A publication Critical patent/JP2000213667A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4137267B2 publication Critical patent/JP4137267B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Details Of Valves (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば半導体製造装置や化学品製造設備その他に於て使用される圧力式流量制御装置を備えたガス供給設備等に用いられるオリフィス内蔵弁の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体製造装置や化学品製造設備その他に於て使用される圧力式流量制御装置を備えたガス供給設備としては、例えば本出願人が先に出願した特願平10−150049号に記載されたものがある。
これは、オリフィスの上流側圧力をオリフィスの下流側圧力の約2倍以上に保持した状態でガスの流量制御を行ないつつオリフィス対応弁を通してプロセスへガスを供給するようにした圧力式流量制御装置を備えたガス供給設備に於て、ガス供給源からガスを受け入れるコントロール弁と、コントロール弁の下流側に設けたオリフィス対応弁と、前記コントロール弁とオリフィス対応弁との間に設けた圧力検出器と、オリフィス対応弁の弁機構部の下流側に設けたオリフィスと、前記圧力検出器の検出圧力P1 から流量をQc=KP1 (但しKは定数)として演算すると共に、流量指令信号Qsと演算流量Qcとの差を制御信号Qyとしてコントロール弁の駆動部へ出力する演算制御装置とからガス供給設備を構成し、コントロール弁の開閉を制御して圧力P1 を調整することにより供給ガス流量を制御する様にしたものである。
【0003】
而して、オリフィス内蔵弁としては、例えば前記圧力式流量制御装置を備えたガス供給設備に用いられるオリフィス対応弁がある。
当該オリフィス内蔵弁50は、図9に示す如く、弁室51とこれに連通するガス流入路52とガス流出路53が形成された弁本体54と、弁本体54の弁室51内に設けられて弁本体54のガス流出路53に連通するガス流出路55と弁座56が形成された合成樹脂製の弁座体57と、弁座体57のガス流出路55に弁座体57とは一体に形成されてガス流出路55を絞るオリフィス58とを具備している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、この様なものは、オリフィスが合成樹脂製の弁座体を切削加工する事に依り形成されていたので、熱に依る変形が大きく、精度の高い流量特性が得られないという難点があった。
本発明は、叙上の問題点に鑑み、これを解消する為に創案されたもので、その課題とする処は、熱的な変形を小さくして精度の高い流量特性を得る事ができるオリフィス内蔵弁を提供するにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明のオリフィス内蔵弁は、基本的には、弁室とこれに連通するガス流入路とガス流出路が形成された弁本体と、弁本体の弁室内に設けられて弁本体のガス流出路に連通するガス流出路と弁座が形成された合成樹脂製の弁座体と、弁座体のガス流出路に弁座体とは別体に着脱可能に設けられた耐熱材料製のオリフィス体と、オリフィス体に形成されて弁座体のガス流出路を絞るオリフィスとを具備した事に特徴が存する。
【0006】
弁座体のガス流出路に弁座体とは別体の耐熱材料製のオリフィス体を着脱可能に設けると共に、該オリフィス体に弁座体のガス流出路を絞るオリフィスを形成したので、熱的な変形が小さくなる。
【0007】
オリフィス体は、弁座体に形成した窪所に収容されて弁座体と弁本体との間に挾持される板状を呈し、オリフィスは、オリフィス体に形成されていても良い。
【0008】
オリフィス体は、弁座体のガス流出路に嵌挿される栓部と、弁座体に形成した窪所に収容されて弁座体と弁本体との間に挾持される鍔部とを備えた鍔付栓状を呈し、オリフィスは、オリフィス体の栓部に形成されていても良い。
【0009】
オリフィス体は、弁座体のガス流出路に螺着される栓状を呈し、オリフィスは、オリフィス体に形成されていても良い。
【0010】
オリフィス体は、弁座体に形成した窪所に収容されて弁座体と弁本体との間に挾持されると共に弁座体のガス流出路に連通する通孔を備えた環状を呈するホルダと、ホルダに固定されて板状を呈するプレートとから成り、オリフィスは、オリフィス体のプレートに形成されていても良い。
【0011】
オリフィス体は、弁座体のガス流出路に嵌挿される栓部と,弁座体に形成した窪所に収容されて弁座体と弁本体との間に挾持される鍔部と,弁座体のガス流出路に連通する通孔とを備えた鍔付筒状を呈するホルダと、ホルダに固定されて板状を呈するプレートとから成り、オリフィスは、オリフィス体のプレートに形成されていても良い。
【0012】
オリフィス体は、弁座体に形成した窪所に収容されて弁座体のガス流出路に連通する通孔を備えた環状を呈するホルダと、ホルダと弁座体との間に挾持される板状を呈するプレートとから成り、オリフィスは、オリフィス体のプレートに形成されていても良い。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を、図面に基づいて説明する。図1は、本発明の基本例に係るオリフィス内蔵弁を示す要部縦断側面図。図2は、オリフィス体及びオリフィスを示す平面図。図3は、図2の拡大縦断側面図である。
【0014】
オリフィス内蔵弁1は、弁本体2、弁座体3、オリフィス体4、オリフィス5とからその主要部が構成されて居り、この例では、圧力式流量制御装置を備えたガス供給設備に用いられるオリフィス対応弁にしてあり、ダイレクトタッチ型のメタルダイヤフラム式バルブにしてある。
【0015】
弁本体2は、弁室6とこれに連通するガス流入路7とガス流出路8が形成されたもので、この例では、上方が開放した弁室6が形成されていると共に、下部外周には弁室6に連通するガス流入路7が、下部中央には弁室6に連通するガス流出路8が夫々形成されている。
【0016】
弁本体2の弁室6には、インナディスク9が嵌挿されている。
インナディスク9は、外周部には弁本体2のガス流入路7に連通するガス流入路10が、中央部には弁座体3を嵌着する為の挿着孔11が夫々形成されている。
【0017】
弁座体3は、弁本体2の弁室6内に設けられて弁本体2のガス流出路8に連通するガス流出路12と弁座13が形成された合成樹脂製のもので、この例では、PCTFE等の合成樹脂に依り作製されてインナディスク9の挿着孔11に気密状に挿着されて居り、上面には環状の弁座13が突設されていると共に、下部にはオリフィス体4を収容する窪所14と環状の突条15が形成されている。
【0018】
オリフィス体4は、弁座体3のガス流出路12に弁座体3とは別体に着脱可能に設けられた耐熱材料製のもので、この例では、ステンレス鋼等の金属製のものにしてあり、弁座体3の窪所14に収容されて弁座体3の突条15と弁本体2との間に挾持される円板状を呈して居り、直径がφ3.5mmで厚さが0.05mm(50μm)にしてある。
【0019】
オリフィス5は、オリフィス体4に形成されて弁座体3のガス流出路12を絞るもので、この例では、オリフィス体4の中程を両面エッチング加工する事に依り形成されて居り、最小径がφ0.05mmで最大径がφ0.07mmにしてある。
【0020】
而して、弁座体3とインナディスク9の上方には、ダイヤフラム16、ダイヤフラム押え17、シャフト18、スプリング19、駆動部(図示せず)が設けられている。
ダイヤフラム16は、弁座体3の上方にこれに当座すべく設けられて外周部がボンネットインサート20を介してボンネット21に依りインナディスク9との間で挾持される金属製のもので、所謂弁体を為すものである。
ダイヤフラム押え17は、ダイヤフラム16の中程上方に設けられてこれを押圧するものである。
シャフト18は、ダイヤフラム押え17に設けられてこれを昇降させるもので、所謂弁棒を為すものである。
スプリング19は、シャフト18を常時下方に付勢してダイヤフラム16を弁座体3の弁座13に当座させるものである。
駆動部は、弁本体2の上部に設けられてシャフト18を昇降させるもので、高飽和磁束密度を持つパーメンジュール又はFe−Co合金を鉄心とする高速応答型のソレノイドや空気圧を利用したアクチュエータが用いられる。
【0021】
次に、この様な構成に基づいてその作用を述解する。
オリフィス内蔵弁1の駆動部が作動されると、スプリング19に抗してシャフト18及びダイヤフラム押え17が上昇されてダイヤフラム16の中程が弁座体3の弁座13から離座される。そうすると、弁本体2のガス流入路7から流入したガスは、インナディスク9のガス流入路10→弁座体3の弁座13とダイヤフラム16との間→弁座体3のガス流出路12→オリフィス5を経て弁本体2のガス流出路8に流出される。
オリフィス内蔵弁1の駆動部の作動が停止されると、スプリング19に依りシャフト18及びダイヤフラム押え17が下降されてダイヤフラム16の中程が弁座体3の弁座13に当座される。そうすると、弁本体2のガス流入路7から流入したガスは、ダイヤフラム16に依り遮断されて弁本体2のガス流出路8へ流出される事がない。
【0022】
オリフィス5を、合成樹脂製の弁座体3とは別体の金属製のオリフィス体4に設けたので、熱的な変形が小さくなり、従来に比べて1桁小さくできる。
オリフィス体4を板状にして、弁座体3に形成された窪所14に収容した後に弁座体3と弁本体2との間に挾持する様にしたので、弁座体3を弁本体2に取付ける取付手段を利用してオリフィス体4を取付ける事ができ、それだけ構造を簡略化できてコストの低減を図る事ができる。
金属製のオリフィス体4に両面エッチング加工に依りオリフィス5を形成する様にしたので、オリフィス5の直径を小さくでき、例えばφ50μm程度の細穴加工が容易に行なえる。
【0025】
次に、本発明の第例を、図に基づいて説明する。第例は、オリフィス体4が、弁座体3に形成した窪所14に収容されて弁座体3と弁本体2との間に挾持されると共に弁座体3のガス流出路12に連通する通孔29を備えた環状を呈するホルダ30と、ホルダ30に固定されて板状を呈するプレート31とから成り、オリフィス5がオリフィス体4のプレート31に形成されている。つまり、プレート31とオリフィス5とから成るものは、基本例と同様のものとなり、これに環状のホルダ30を付加したものである。具体的には、ホルダ30の上面には、段付窪所32が形成されて居り、この下段部分にオリフィス5を備えたプレート31が収容されてその周囲がレーザー溶接等で固定されている。ホルダ30の通孔29は、弁本体2のガス流出路8と同径にされていると共に、弁座体3のガス流出路12は、ホルダ30の通孔29や弁本体2のガス流出路8より小径にされている。この様なものは、ホルダ30を有しているので、オリフィス5を備えたプレート31の厚みが例えば50μmという様に薄くても、ガス圧力に依り変形する事がなくなる。
【0026】
次に、本発明の第例を、図に基づいて説明する。第例は、オリフィス体4が、弁座体3のガス流出路12に嵌挿される栓部22と,弁座体3に形成した窪所14に収容されて弁座体3と弁本体2との間に挾持される鍔部23と,弁座体3のガス流出路12に連通する通孔29とを備えた鍔付筒状を呈するホルダ30と、ホルダ30に固定されて板状を呈するプレート31とから成り、オリフィス5がオリフィス体4のプレート31に形成されている。つまり、プレート31とオリフィス5とから成るものは、基本例と同様のものとなり、これに鍔付筒状のホルダ30を付加したものである。具体的には、ホルダ30の栓部22の上面には、段付窪所32が形成されて居り、この下段部分にオリフィス5を備えたプレート31が収容されてその周囲がレーザー溶接等で固定されている。ホルダ30の通孔29は、段付窪所32に連通する小径なストレート部と下方に行くに従い漸次拡径するテーパ部とから成っている。この様なものは、第例と同様に、ホルダ30を有しているので、オリフィス5を備えたプレート31の厚みが例えば50μmという様に薄くても、ガス圧力に依り変形する事がなくなる。
【0028】
尚、オリフィス内蔵弁1は、先の例では、圧力式流量制御装置を備えたガス供給設備で用いられるオリフィス対応弁であったが、これに限らず、例えばこれ以外の弁でも良い。
弁座体3は、先の例では、インナディスク9を介して弁本体2に設けられていたが、これに限らず、例えばこれが直接弁本体2に設けられていても良い。
オリフィス体4は、先の例では、金属製であったが、これに限らず、例えばセラミックス製等でも良い。
オリフィス体4は、先の例では、厚さが0.05mmであったが、これに限らず、例えばこれ以外の値でも良い。
オリフィス5は、先の例では、両面エッチング加工に依り形成したが、これに限らず、例えば片面エッチング加工や機械加工や放電加工等に依り形成しても良い。
オリフィス5は、先の例では、直径がφ0.05mmであったが、これに限らず、例えばこれ以外の値でも良い。
【0029】
【発明の効果】
以上、既述した如く、本発明に依れば、次の様な優れた効果を奏する事ができる。
(1) 弁本体、弁座体、オリフィス体、オリフィスとで構成し、とりわけ弁座体とは別体の耐熱材料製のオリフィス体を弁座体のガス流出路に着脱可能に設けて該オリフィス体にオリフィスを形成したので、熱的な変形が小さくなって精度の高い流量特性を得る事ができる。
(2) 弁座体とは別体の耐熱材料製のオリフィス体を弁座体のガス流出路に着脱可能に設けて該オリフィス体にオリフィスを形成したので、弁座体は、細穴部が無くなった分だけ加工性が向上すると共に、オリフィス体は、オリフィスの細穴加工が比較的容易であり、トータルでコストダウンを図る事ができる。
(3) 弁座体とは別体の耐熱材料製のオリフィス体を弁座体のガス流出路に着脱可能に設けて該オリフィス体にオリフィスを形成したので、弁座体を共通部品として使用可能であると共に、大きさの異なるオリフィスを形成した各種のオリフィス体を取り揃えて置けば、これを交換するだけで必要に応じた流量レンジを容易に設定できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の基本例に係るオリフィス内蔵弁を示す要部縦断側面図。
【図2】 オリフィス体及びオリフィスを示す平面図。
【図3】 図2の拡大縦断側面図。
【図4】 本発明の第二例に係るオリフィス内蔵弁を示す拡大要部縦断側面図。
【図5】 本発明の第三例に係るオリフィス内蔵弁を示す拡大要部縦断側面図。
【図】 従来のオリフィス内蔵弁を示す要部縦断側面図。
【符号の説明】
1,50…オリフィス内蔵弁、2,54…弁本体、3,57…弁座体、4…オリフィス体、5,58…オリフィス、6,51…弁室、7,10,52…ガス流入路、8,12,53,55…ガス流出路、9…インナディスク、11…挿着孔、13,56…弁座、14…窪所、15…突条、16…ダイヤフラム、17…ダイヤフラム押え、18…シャフト、19…スプリング、20…ボンネットインサート、21…ボンネット、22…栓部、24…鍔部、24,26…テーパ部、25…ストレート部、27…雌螺子、28…雄螺子、29…通孔、30…ホルダ、31…プレート、32…段付窪所。

Claims (2)

  1. 弁室とこれに連通するガス流入路とガス流出路が形成された弁本体と、弁本体の弁室内に設けられて弁本体のガス流出路に連通するガス流出路と弁座が形成された合成樹脂製の弁座体と、弁座体のガス流出路に弁座体とは別体に着脱可能に設けられた耐熱材料製のオリフィス体と、オリフィス体に形成されて弁座体のガス流出路を絞るオリフィスとを具備し、オリフィス体が、弁座体に形成した窪所に収容されて弁座体と弁本体との間に挾持されると共に弁座体のガス流出路に連通する通孔を備えた環状を呈するホルダと、ホルダに固定されて板状を呈するプレートとから成り、オリフィスは、オリフィス体のプレートに形成されており、更に、ホルダの上面には段付窪所が形成されてこの下段部分にオリフィスを備えたプレートが収容されて固定されている事を特徴とするオリフィス内蔵弁。
  2. 弁室とこれに連通するガス流入路とガス流出路が形成された弁本体と、弁本体の弁室内に設けられて弁本体のガス流出路に連通するガス流出路と弁座が形成された合成樹脂製の弁座体と、弁座体のガス流出路に弁座体とは別体に着脱可能に設けられた耐熱材料製のオリフィス体と、オリフィス体に形成されて弁座体のガス流出路を絞るオリフィスとを具備し、オリフィス体が、弁座体のガス流出路に嵌挿される栓部と、弁座体に形成した窪所に収容されて弁座体と弁本体との間に挾持される鍔部と、弁座体のガス流出路に連通する通孔とを備えた鍔付筒状を呈するホルダと、ホルダに固定されて板状を呈するプレートとから成り、オリフィスは、オリフィス体のプレートに形成されており、更に、ホルダの上面には段付窪所が形成されてこの下段部分にオリフィスを備えたプレートが収容されて固定されている事を特徴とするオリフィス内蔵弁。
JP02025699A 1999-01-28 1999-01-28 オリフィス内蔵弁 Expired - Lifetime JP4137267B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP02025699A JP4137267B2 (ja) 1999-01-28 1999-01-28 オリフィス内蔵弁
TW90211979U TW471583U (en) 1999-01-28 2000-07-06 Orifice built-in valve

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP02025699A JP4137267B2 (ja) 1999-01-28 1999-01-28 オリフィス内蔵弁

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000213667A JP2000213667A (ja) 2000-08-02
JP4137267B2 true JP4137267B2 (ja) 2008-08-20

Family

ID=12022125

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP02025699A Expired - Lifetime JP4137267B2 (ja) 1999-01-28 1999-01-28 オリフィス内蔵弁

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP4137267B2 (ja)
TW (1) TW471583U (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010151698A (ja) * 2008-12-26 2010-07-08 Fujikin Inc ガスケット型オリフィス及びこれを用いた圧力式流量制御装置
US9233347B2 (en) 2010-02-22 2016-01-12 Fujikin Incorporated Mixed gas supply device
KR20160114705A (ko) 2014-07-23 2016-10-05 가부시키가이샤 후지킨 압력식 유량 제어 장치
JP2017223318A (ja) * 2016-06-17 2017-12-21 Ckd株式会社 流体制御弁
WO2018021277A1 (ja) * 2016-07-29 2018-02-01 株式会社フジキン オリフィス内蔵弁および圧力式流量制御装置
KR20180111895A (ko) 2016-07-28 2018-10-11 가부시키가이샤 후지킨 압력식 유량 제어 장치

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3861206B2 (ja) * 2003-12-08 2006-12-20 株式会社フジキン 流体制御器
US7686280B2 (en) * 2005-12-28 2010-03-30 Circor Instrumentation Technologies, Inc. Removable valve seat member for diaphragm valve
DE102009027527A1 (de) * 2009-07-08 2011-01-20 Robert Bosch Gmbh Ventil
JP6321972B2 (ja) 2014-01-21 2018-05-09 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置及びその流量制御開始時のオーバーシュート防止方法
JP6516696B2 (ja) * 2016-03-01 2019-05-22 株式会社鷺宮製作所 容量調整弁
JP6748586B2 (ja) * 2016-07-11 2020-09-02 東京エレクトロン株式会社 ガス供給システム、基板処理システム及びガス供給方法
JP6929098B2 (ja) * 2017-03-30 2021-09-01 株式会社キッツエスシーティー メタルダイヤフラムバルブ
US11231026B2 (en) 2017-10-31 2022-01-25 Fujikin Incorporated Valve device
US11365830B2 (en) 2017-11-30 2022-06-21 Fujikin Incorporated Valve device, fluid control device and semiconductor manufacturing apparatus using the valve device
KR102380863B1 (ko) * 2017-11-30 2022-04-01 가부시키가이샤 후지킨 밸브 장치, 이 밸브 장치를 사용한 유체제어장치 및 반도체 제조 장치
KR20220058536A (ko) 2019-09-05 2022-05-09 가부시키가이샤 호리바 에스텍 유량 제어 밸브 또는 유량 제어 장치
JP7187428B2 (ja) * 2019-11-29 2022-12-12 株式会社鷺宮製作所 ロータリー式切換弁及び冷凍サイクルシステム
WO2023053724A1 (ja) * 2021-09-30 2023-04-06 株式会社フジキン オリフィス内蔵バルブおよび流量制御装置
US11761547B1 (en) * 2022-04-07 2023-09-19 Horiba Stec, Co., Ltd. Valve orifice insert

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010151698A (ja) * 2008-12-26 2010-07-08 Fujikin Inc ガスケット型オリフィス及びこれを用いた圧力式流量制御装置
US9233347B2 (en) 2010-02-22 2016-01-12 Fujikin Incorporated Mixed gas supply device
KR20180108906A (ko) 2014-07-23 2018-10-04 가부시키가이샤 후지킨 압력식 유량 제어 장치
KR20160114705A (ko) 2014-07-23 2016-10-05 가부시키가이샤 후지킨 압력식 유량 제어 장치
US10261522B2 (en) 2014-07-23 2019-04-16 Fujikin Incorporated Pressure-type flow rate control device
JP2017223318A (ja) * 2016-06-17 2017-12-21 Ckd株式会社 流体制御弁
CN109073099A (zh) * 2016-06-17 2018-12-21 Ckd株式会社 流体控制阀
WO2017217179A1 (ja) * 2016-06-17 2017-12-21 Ckd株式会社 流体制御弁
US10724644B2 (en) 2016-06-17 2020-07-28 Ckd Corporation Fluid control valve
CN109073099B (zh) * 2016-06-17 2020-08-04 Ckd株式会社 流体控制阀
KR20180111895A (ko) 2016-07-28 2018-10-11 가부시키가이샤 후지킨 압력식 유량 제어 장치
US10838435B2 (en) 2016-07-28 2020-11-17 Fujikin Incorporated Pressure-type flow rate control device
WO2018021277A1 (ja) * 2016-07-29 2018-02-01 株式会社フジキン オリフィス内蔵弁および圧力式流量制御装置
KR20180114921A (ko) 2016-07-29 2018-10-19 가부시키가이샤 후지킨 오리피스 내장 밸브 및 압력식 유량 제어 장치
US10648572B2 (en) 2016-07-29 2020-05-12 Fujikin Incorporated Valve with built-in orifice, and pressure-type flow rate control device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2000213667A (ja) 2000-08-02
TW471583U (en) 2002-01-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4137267B2 (ja) オリフィス内蔵弁
KR100426709B1 (ko) 오리피스 내장밸브
EP1001326B1 (en) Gas supply equipment with pressure type flow rate control device
JP2004293695A (ja) 流量制御弁
JP2010185496A (ja) パイロット式電磁弁
JP2008045666A (ja) ソレノイド比例制御バルブ
JPS6091075A (ja) 液圧ソレノイド弁
JPH06346983A (ja) パイロット型電磁弁
JPH0550254U (ja) 半導体製造装置材料ガス反応炉に用いるための定流量リーク弁
JPH07253817A (ja) 定流量弁
TW201741634A (zh) 流量控制裝置
JP3599374B2 (ja) 弁頭変位量の精度を向上させた電磁弁
JPH0599354A (ja) 定流量弁
JP2021055725A (ja) バルブおよび流量制御装置
JPS589287Y2 (ja) 電磁式流量制御弁
JP4420695B2 (ja) 圧力調整装置
JP2004110179A (ja) 減圧弁
JP2004110177A (ja) 減圧弁
JP3932520B2 (ja) 定流量電磁弁
JP2009223545A (ja) 減圧弁
JPH11280937A (ja) 定流量電磁弁
JPH10318401A (ja) 流量制御装置用バルブ
JP2841576B2 (ja) 自動開閉弁
JPS61608U (ja) 減圧弁
JPH0727253A (ja) 異常検知機能付き定流量リーク弁及びその異常検知方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050623

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070620

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070704

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070822

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080109

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080214

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20080313

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080514

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080604

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110613

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110613

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120613

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120613

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130613

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term