JP4970950B2 - 3−トリアゾリルフェニルスルフィド誘導体及びそれを有効成分として含有する殺虫・殺ダニ・殺線虫剤 - Google Patents

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Description

本発明は、新規な3−トリアゾリルフェニルスルフィド誘導体及びそれを有効成分とする農園芸用殺虫・殺ダニ・殺線虫剤に関する。
公知の殺虫・殺ダニ・殺線虫剤として、特許文献1には3−トリアゾリルフェニルスルフィド誘導体が既に知られている。本文献に記載の化合物群は植物体に直接散布することによってハダニ類に高い効果を示すことが記載されている。一方、本文献には土壌処理に関する記載はない。本文献に記載の化合物群は、土壌処理では土壌中での移行性及び植物体内への浸透移行性が不十分である。そのため、不均一な薬剤散布や蒸散、光分解、降雨による薬剤の流出等により、十分な効果が得られない場合がある。
現在、実用性のある土壌処理活性を有する公知の殺ダニ剤は極めて少ない。土壌処理が可能な薬剤は就農者にとって、より安全であり、より省力化できる等のメリットがある。そのため、土壌処理活性を有する殺ダニ剤の開発が求められている。
特開2000−198768号公報(特許請求の範囲その他)
本発明の課題は、このような事情の中、従来の殺虫・殺ダニ剤・殺線虫剤が有していた前記の如き問題点を解決し、さらに、安全性、防除効果、残効性等に優れた殺虫・殺ダニ剤・殺線虫剤を提供することにある。
本発明者らは、前記した好ましい特性を有する殺虫・殺ダニ剤・殺線虫剤を開発するために、種々の3−トリアゾリルフェニルスルフィド誘導体を合成し、その生理活性について検討を重ねた。その結果、本発明の下記する新規な3−トリアゾリルフェニルスルフィド誘導体(以下、本発明化合物ともいう)が種々の農園芸用の有害生物、特にナミハダニ、カンザワハダニ、ミカンハダニ等に代表されるハダニ類、コナガ、ニカメイガ、シロイチモジヨトウ等に代表される鱗翅目害虫、トビイロウンカ、ツマグロヨコバイ、ワタアブラムシ等に代表される半翅目害虫、アズキゾウムシ等に代表される鞘翅目害虫及びサツマイモネコブセンチュウ等の線虫類に卓効を示すこと、さらに、安全で省力的施用方法を可能とする土壌処理活性を有することを見いだし、本発明を完成したものである。
即ち、本発明は、下記を特徴とする要旨を有するものである。
(1)一般式[I]で表される3−トリアゾリルフェニルスルフィド誘導体:
Figure 0004970950
式中、Rはトリフルオロエチル基であり、
nは1であり、
は、C〜Cアルキル基(該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C〜Cアルキルチオ基(該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、又はC〜Cアルキルスルフィニル基(該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)であり、
は、−NR基、又は−N(COR)R基であり、R及びRは、互いに独立して、水素原子、又はC〜Cアルキル基(該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)であり、
はハロゲン原子であり、
4はC〜Cアルキル基である。
(2)Rがトリフルオロエチル基であり、
nが1であり、
がC〜Cアルキル基(該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C〜Cアルキルチオ基(該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、又はC〜Cアルキルスルフィニル基(該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)であり、
がアミノ基であり、
がハロゲン原子であり、
がC〜Cアルキル基である
前記(1)記載の3−トリアゾリルフェニルスルフィド誘導体。
(3)Aがトリフルオロメチル基であり、
がメチルアミノ基、トリフルオロアセチルアミノ基である
前記(1)記載の3−トリアゾリルフェニルスルフィド誘導体。
(4)Aがトリフルオロメチル基、トリフルオロメチルチオ基、又は2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル基であり、
がアミノ基である前記(2)記載の3−トリアゾリルフェニルスルフィド誘導体。
(5)前記(1)乃至(4)のいずれかに記載の3−トリアゾリルフェニルスルフィド誘導体の製造中間体である一般式[I−a](式中、Rはトリフルオロエチル基であり、はハロゲン原子であり、BはC〜Cアルキル基である)で表されるアニリン誘導体。
Figure 0004970950
(6)Bがメチル基である前記(5)に記載のアニリン誘導体。
(7)前記(1)1乃至(4)のいずれかに記載の3−トリアゾリルフェニルスルフィド誘導体を有効成分として含有することを特徴とする農園芸用殺虫・殺ダニ剤・殺線虫剤。


本発明化合物は、半翅目害虫、鱗翅目害虫、鞘翅目害虫、双翅目害虫、膜翅目害虫、直翅目害虫、シロアリ目害虫、アザミウマ目害虫、ハダニ類、植物寄生性線虫類等の広範囲の有害生物に対して優れた防除効果を示し、また、抵抗性を帯びた有害生物をも防除できる。
特に本発明化合物は農園芸有害生物であるナミハダニ、カンザワハダニ、ミカンハダニ等に代表されるハダニ類、コナガ、ニカメイガ、シロイチモジヨトウ等に代表される鱗翅目害虫、トビイロウンカ、ツマグロヨコバイ、ワタアブラムシ等に代表される半翅目害虫、アズキゾウムシ等に代表される鞘翅目害虫及びサツマイモネコブセンチュウ等の線虫類に卓効を示し、浸透移行性に優れるため、土壌処理による安全で省力的施用方法が可能である。
本明細書に記載された記号及び用語について説明する。
ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を示す。
〜C等の表記は、これに続く置換基の炭素数が、この場合では1〜6であることを示している。
〜Cアルキル基とは、特に限定しない限り、炭素数が1〜6の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示し、例えばメチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、s−ブチル、i−ブチル、t−ブチル、n−ペンチル、1−メチルブチル、2−メチルブチル、3−メチルブチル、1−エチルプロピル、1,1−ジメチルプロピル、1,2−ジメチルプロピル、ネオペンチル、n−へキシル、1−メチルペンチル、2−メチルペンチル、3−メチルペンチル、4−メチルペンチル、1−エチルブチル、2−エチルブチル、1,1−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチル、1,3−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチル、2,3−ジメチルブチル、3,3−ジメチルブチル、1,1,2−トリメチルプロピル、1,2,2−トリメチルプロピル、1−エチル−1−メチルプロピル、1−エチル−2−メチルプロピル等の基をあげることができる。
〜Cアルキルチオ基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1〜6の(アルキル)−S−基を示し、例えばメチルチオ、エチルチオ、n−プロピルチオ、イソプロピルチオ等をあげることができる。
〜Cアルキルスルフィニル基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1〜6の(アルキル)−SO−基を示し、例えばメチルスルフィニル、エチルスルフィニル、n−プロピルスルフィニル又はi−プロピルスルフィニル等をあげることができる。
前記一般式[I]において、好ましい化合物群としては、Rが2,2,2−トリフルオロエチル基であり、nが1で表される化合物群があげられる。
さらに好ましい化合物群としては、Rが2,2,2−トリフルオロエチル基であり、Bがハロゲン原子であり、Bがアルキル基であり、nが1で表される化合物群があげられる。
次に、一般式[I]で表される本発明化合物の具体例、及びその他の化合物を、表1〜表6に記載する。化合物番号2、6、8、16、18、22、24、28、30、32、40、44、50、60、62、76、98、100、102、106(Aがメチル、n=1)、107、109、111、113、115、117、119、129、131、133、135、137、145、155、157、159、161、167、173、175、177、183、187、190、192、200、212で示される化合物が、本発明化合物の具体例に該当するが、本発明化合物は、これらの化合物に限定されるものではない。また、これらの化合物には光学異性体を含む化合物が含まれる。尚、化合物番号は以後の記載において参照される。
本明細書における表中の次の表記は下記の通りそれぞれ該当する基を表す。
Me :メチル、 Et :エチル、
Pr :n−プロピル、 Pr−i :イソプロピル、
Pr−c :シクロプロピル、 Bu :n−ブチル、
Bu−i :イソブチル、 Bu−s :sec−ブチル、
Bu−t :tert−ブチル、 Bu−c :シクロブチル、
Pen :n−ペンチル、 Pen−i:イソペンチル、
Pen−c:シクロペンチル、 Hex−c:シクロヘキシル、
Ph :フェニル Py :ピリジル
例えばPh−4−Clとは4−クロロフェニル、3−Py−6−Clとは6−クロロ−3−ピリジルを示す。
Figure 0004970950
Figure 0004970950
Figure 0004970950
Figure 0004970950
Figure 0004970950
Figure 0004970950
一般式[I]の本発明化合物は、以下に示す製造法に従って製造することができるが、これらの方法に限定されるものではない。なお、以下に示す製造法は、表1〜表6に記載されたその他の化合物の製造法をも含む。
一般式[I−1]の化合物は下記に例示する反応式からなる方法により製造することができる。
Figure 0004970950
(式中、Lは、ハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基又はSOMを示し、Mはアルカリ金属又はアルカリ土類金属を示し、好ましいアルカリ金属としてはナトリウム又はカリウムがあげられ、A、A、B、B及びRは前記と同じ意味を示す。)
すなわち、一般式[I−1]の3−トリアゾリルフェニルスルフィド誘導体は一般式[II]の化合物と一般式[III]の化合物とを、溶媒中、塩基の存在下又はラジカル開始剤の存在下で反応させることにより製造することができる。
ここで使用する一般式[III]の化合物の使用量は、一般式[I]の化合物1モルに対して1〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.2〜2.0モルである。
本反応で使用できる溶媒は、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の非プロトン性極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、プロピオン酸エチル等のエステル類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン、ピコリン等のピリジン類、水又はこれらの混合溶媒等があげられる。
本反応で使用できる塩基は、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩類等の無機塩基類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルコールの金属塩類又はトリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジン、4−N,N−ジメチルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基類等があげられる。
塩基の使用量は、一般式[II]の化合物1モルに対して0〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは0〜1.2モルである。
本反応で使用できるラジカル開始剤は、例えば亜硫酸、亜硫酸塩、ロンガリット(ナトリウム・ホルムアルデヒド・スルホキシレ−ト)等の亜硫酸付加物等があげられる。また、塩基とラジカル開始剤を併用してもよい。
ラジカル開始剤を使用する場合、その使用量は、化合物[II]1モルに対して0.01〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは0.05〜1.2モルである。
反応温度は−30℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは0℃〜150℃の範囲で行うのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分〜20時間である。
<製造方法2>
一般式[I−1]の化合物の原料は、製造法1で使用した一般式[II]の化合物の酸化的二量体である一般式[IV]の化合物を使用することもできる。
Figure 0004970950
(式中、Lはハロゲン原子又はスルフィン酸塩を示し、A、A、B、B及びRは前記と同じ意味を示す。)
すなわち、目的とする一般式[I−1]の3−トリアゾリルフェニルスルフィド誘導体は一般式[IV]の化合物と一般式[V]の化合物とを、溶媒中、ラジカル開始剤の存在下で反応させることにより製造することができる。
ここで使用する一般式[V]の化合物の使用量は、一般式[IV]の化合物1モルに対して1〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.2〜2.0モルである。
本反応で使用できる溶媒は、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の非プロトン性極性溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、プロピオン酸エチル等のエステル類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン、ピコリン等のピリジン類、水、又はこれらの混合溶媒等があげられる。
本反応で使用できるラジカル開始剤は、例えば亜硫酸、亜硫酸塩、ロンガリット(ナトリウム・ホルムアルデヒド・スルホキシレ−ト)等の亜硫酸付加物等があげられる。
ラジカル開始剤を使用する場合、その使用量は、一般式[II]の化合物1モルに対して0.01〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは0.05〜1.2モルである。
反応温度は−30℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは0℃〜150℃の範囲で行うのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分〜20時間である。
<製造方法3>
般式[I−2]の化合物は下記に例示する反応式からなる方法によって製造することができる。
Figure 0004970950
(式中、Bは、電子吸引性基を示し、A、A、B及びRは前記と同じ意味を示し、Lはハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ基又はフェニルスルホニルオキシ基等の脱離基を示す。電子吸引性基とはシアノ基、ニトロ基等を示す。)
すなわち、一般式[I−2]の化合物は一般式[VI]の化合物と一般式[VII]の化合物とを、溶媒中、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
ここで一般式[VII]の化合物の使用量は、一般式[VI]の化合物1モルに対して1〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0〜1.2モルである。
本反応で使用できる溶媒は、反応を阻害しない溶媒であればよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、ジオキサン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等の非プロトン性極性溶媒、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン、ピコリン等のピリジン類又はこれらの混合溶媒を等があげられる。
本反応で使用できる塩基は、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩類等の無機塩基類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルコールの金属塩類又はトリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジン、4−N,N−ジメチルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基類等があげられる。
塩基の使用量は、一般式[II]の化合物1モルに対して1〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.1〜1.2モルである。
反応温度は−70℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは−20℃〜150℃の範囲で行うのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分〜20時間である。
<製造方法4>
般式[I−2]の化合物は、下記に例示する置換反応からなる方法によっても製造することができる。
Figure 0004970950
(式中、A、A、B、B及びRは前記と同じ意味を示し、Lはハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基、アルキルスルホニル基、フェニルスルホニル基又はニトロ基を示す。)
すなわち、一般式[I−2]の3−トリアゾリルフェニルスルフィド誘導体は一般式[IX]の化合物と一般式[X]の化合物とを、溶媒中、塩基又は酸化銅(I)の存在下で反応させることにより製造することができる。
ここで使用する一般式[X]の化合物の使用量は、一般式[IX]の化合物1モルに対して1〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0〜1.2モルである。
本反応で使用できる溶媒は、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の非プロトン性極性溶媒、メタノール、エタノール、メチルセルソルブ等のアルコール類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン、ピコリン等のピリジン類、水又はこれらの混合溶媒等があげられる。
本反応で使用できる塩基は、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルコールの金属塩類又はトリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジン、4−N,N−ジメチルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基類等があげられる。
塩基及び酸化銅(I)の使用量は、一般式[IX]の化合物1モルに対して1〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0〜1.2モルである。
反応温度は−70℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは0℃〜150℃の範囲で行うのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分〜20時間である。
<製造方法5>
本発明化合物である一般式[I]の化合物は下記に例示する反応式からなる方法によって製造することができる。
Figure 0004970950
(式中、A、A、B、B、R及びnは前記と同じ意味を示す。)
すなわち、一般式[I]で表される本発明化合物は一般式[VI]の化合物と一般式[VIII]の化合物及び無水銅塩とを、溶媒中、有機塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
ここで使用する一般式[VIII]の化合物の使用量は、一般式[VI]の化合物1モルに対して1〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0〜2.0モルである。
本反応で使用できる溶媒は、反応を阻害しない溶媒であればよく、例えばクロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルカン類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、ジオキサン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等の非プロトン性極性溶媒、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン、ピコリン等のピリジン類又はこれらの混合溶媒等があげられる。
本反応で使用できる無水銅塩は、例えば無水酢酸銅等があげられる。無水銅塩の使用量は、一般式[VI]の化合物1モルに対して1〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.2〜2.2モルである。
本反応で使用できる有機塩基は、例えば、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジン、4−N,N−ジメチルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等があげられる。
有機塩基の使用量は、一般式[VI]の化合物1モルに対して1〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.2〜4.4モルである。
反応温度は0℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは10℃〜30℃の範囲で行うのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常8〜48時間である。
<製造方法6>
般式[I−1]の化合物は下記に例示する反応式からなる方法によっても製造することができる。
Figure 0004970950
(式中、A、A、B、B、R及びMは前記と同じ意味を示す。)
すなわち、目的とする一般式[I−1]の3−トリアゾリルフェニルスルフィド誘導体は一般式[XI]の化合物を、溶媒中、常法[鉱酸(塩酸及び硫酸等を例示できる。)と亜硝酸塩もしくは亜硝酸アルキルエステルを用いる方法]にてジアゾニウム塩とした後、一般式[XII]のメルカプタンの塩又は一般式[XIII]のジスルフィド類と反応させることにより製造することができる。
ここで使用する一般式[XII]の化合物及び一般式[XIII]の化合物の使用量は、一般式[XI]の化合物1モルに対して1〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0〜2.0モルである。
本反応で使用できる溶媒は、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、アセト二トリル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の非プロトン性極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、プロピオン酸エチル等のエステル類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン、ピコリン等のピリジン類、水、又はこれらの混合溶媒等があげられる。
反応温度は−30℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは−10℃〜100℃の範囲で行うのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分〜20時間である。
<製造方法7>
本発明化合物である一般式[I]の化合物は下記に例示する反応式からなる方法によっても製造することができる。
Figure 0004970950
[工程1]
すなわち、一般式[I]の本発明化合物は一般式[XIV]の化合物と一般式[XV−1]又は一般式[XV−2]の化合物とを、溶媒中、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
ここで使用する一般式[XV−1]の化合物又は一般式[XV−2]の化合物使用量は、一般式[XIV]の化合物1モルに対して1モルから大過剰の範囲であり、好ましくは1.2〜2.0モルである。
本反応で使用できる溶媒は、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の非プロトン性極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、プロピオン酸エチル等のエステル類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン、ピコリン等のピリジン類、水、又はこれらの混合溶媒等があげられる。
本反応で使用できる塩基は、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルコールの金属塩類又はトリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジン、4−N,N−ジメチルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基類等があげられる。
塩基の使用量は、一般式[XIV]の化合物1モルに対して2〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは2.2〜3.0モルである。
反応温度は0℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは10℃〜150℃の範囲で行うのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常3〜12時間である。
別法として、目的とする一般式[I]の3−トリアゾリルフェニルスルフィド誘導体は一般式[XIV]の化合物とアンモニア水とを反応させることによって一般式[XIV−1]の化合物を製造し(工程2−1)、この化合物と一般式[XV−3]又は一般式[XV−4]の化合物とを、溶媒中、塩基の存在下又は酸触媒の存在下で、反応させること(工程2−2)により製造することができる。
(工程2−1)
本工程で使用するアンモニア水の使用量は、一般式[XIV]の化合物1モルに対して1〜10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは2.0〜5.0モルである。
本工程で使用できる溶媒は、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の非プロトン性極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、プロピオン酸エチル等のエステル類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン、ピコリン等のピリジン類、水、又はこれらの混合溶媒等があげられる。
反応温度は−30℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは−10℃〜100℃の範囲で行うのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分〜20時間である。
(工程2−2)
また、本工程で使用する一般式[XV−3]の化合物及び一般式[XV−4]の化合物の使用量は、一般式[XIV−1]の化合物1モルに対して1モル〜大過剰の範囲であり、好ましくは1.0〜2.0モルである。
本工程で使用できる酸触媒は、例えばメタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等のスルホン酸類、塩酸、硫酸等の無機酸類、酢酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸類等があげられる。
酸触媒の使用量は、一般式[XIV−1]の化合物1モルに対して0.01モルから大過剰の範囲から適宜選択すればよく、好ましくは0.05〜1.0モルである。
本工程で使用できる溶媒は、前記工程1で説明した同様の溶媒があげられる。
本工程で使用できる塩基は、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルコールの金属塩類又はトリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジン、4−N,N−ジメチルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基類等があげられる。
塩基の使用量は、化合物[XIV−1]の化合物1モルに対して1モル〜大過剰の範囲であり、好ましくは1.0〜1.5モルである。
反応温度は−30℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは−10℃〜100℃の範囲で行うのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分〜20時間である。
<製造方法8>
Figure 0004970950
(式中、Yはハロゲン原子、アルコキシ基又はハロゲン置換されてもよいアルキルチオ基を示し、R’、A、A、B、B、R及びnは前記と同じ意味を示す。)
(工程3)
一般式[I]の本発明化合物は一般式[XVI−1]の化合物と酸ハロゲン化物及び酸無水物等から誘導される一般式[XVII−1]の化合物と[XVIII]の化合物とを反応させることにより製造することができる。
一般式[XVII−1]の化合物の使用量は、一般式[XVIII]の化合物1モルに対して1.0〜5.0モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0〜1.5モルである。
本工程で使用できる溶媒は、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の非プロトン性極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、又は水等があげられる。
反応温度は−30℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは−10℃〜100℃の範囲で行うのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分〜20時間である。
(工程4)
また、目的とする一般式[I−3]の3−トリアゾリルフェニルスルフィド誘導体は一般式[XVI−2]の化合物と二硫化炭素とハロゲン化アルキル等から誘導される一般式[XVII−2]の化合物と[XVIII]の化合物を反応させることにより製造することができる。
一般式[XVII−2]の化合物の使用量は、一般式[XVIII]の化合物1モルに対して1.0〜10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0〜1.5モルである。
本工程で使用できる溶媒は、前記工程3で説明した同様の溶媒をあげることができる。
反応温度は−30℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは−10℃〜100℃の範囲で行うのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分〜20時間である。
<製造方法9>
Figure 0004970950
(式中、Yは水素原子又はハロゲン原子を示し、L、A、A、B、B及びRは前記と同じ意味を示す。)
一般式[I−1]の化合物は一般式[XIX]の化合物と金属又は有機金属化合物を反応させた後、一般式[XX]又は一般式[XIII]の化合物とを反応させることにより製造することができる。
ここで使用する一般式[XX]又は一般式[XIII]の化合物の使用量は、一般式[XIX]の化合物1モルに対して1〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0〜2.0モルである。
本反応で使用できる溶媒は、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン、ピコリン等のピリジン類又はこれらの混合溶媒を例示できる。
本反応で使用できる金属はリチウム等のアルカリ金属、マグネシウム等のアルカリ土類金属等があげられ、その使用量は一般式[XIX]の化合物1モルに対して1〜3モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0〜1.1モルである。
本反応で使用できる有機金属化合物はn−ブチルリチウム等のアルキルリチウム等があげられ、その使用量は一般式[XIX]の化合物1モルに対して1〜3モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0〜1.1モルである。
反応温度は−90℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは−78℃〜70℃の範囲で行うのがよく、反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分〜20時間である。
<製造方法10>
Figure 0004970950
(式中、A、A、B、B及びRは前記と同じ意味を示す。)
一般式[I−4]の本発明化合物は一般式[I−1]の化合物と酸化剤とを、触媒存在下又は非存在下で反応させることにより製造することができる。
本反応で使用できる酸化剤は、例えば過酸化水素、m−クロロ過安息香酸、過ヨウ素酸ナトリウム、オキソン(OXONE、イー・アイ・デュポン社商品名;ペルオキソ硫酸水素カリウム含有物)、N−クロロスクシンイミド、N−ブロモスクシンイミド、次亜塩素酸 tert−ブチル、次亜塩素酸ナトリウム等があげられる。
酸化剤の使用量は、一般式[I−1]の化合物1モルに対して1〜6モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0〜1.2モルである。
本反応で使用できる触媒は例えばタングステン酸ナトリウムをあげることができる。
触媒の使用量は一般式[I−1]1モルに対して0〜1モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは0.01〜0.1モルである。
本反応で使用できる溶媒は、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の非プロトン性極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸、水、又はこれらの混合溶媒を例示できる。
反応温度は−30℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは−10℃〜100℃の範囲で行うのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分〜20時間である。
<製造方法11>
一般式[I]の本発明化合物は3−トリアゾリルフェニルスルフィド誘導体を一般的に知られている方法により官能基変換を行うことで製造することができる。
Figure 0004970950
(式中、A、A、B、B、n及びRは前記と同じ意味を示し、Lは水素原子、ハロゲン原子、メチルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基、p−トルエンスルホニル基等を示す。)
(工程A)
一般式[I]の本発明化合物は、一般式[I−3]の本発明化合物と親電子試薬とを、溶媒の存在下又は非存在下、塩基の存在下又は非存在下、酸の存在下又は非存在下、脱水縮合剤の存在下又は非存在下で、反応させることにより製造することができる。
本工程で使用できる親電子試薬は、ハロゲン化アルカン、ハロゲン化アルケン、ハロゲン化アルキン、フェニルアルキルハライド、へテロ環アルキルハライド、ハロゲン化アシル、酸無水物、安息香酸、安息香酸ハライド、ヘテロ環カルボン酸、ヘテロ環カルボン酸ハライド、脂肪族カルボン酸ハライド、イソシアナート類、アルコール類、芳香族ハロゲン化物、ヘテロ環ハロゲン化物、スルホニルハライド類及びスルホン酸無水物、ケトン類及びチオケトン類等があげられる。
本工程で使用できるハロゲン化アルカンとしては、例えば、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、ヨウ化プロピル等があげられる。
本工程で使用できるハロゲン化アルケンとしてはアリルブロマイド、1,1,3−トリクロロプロペン等があげられる。
本工程で使用できるハロゲン化アルキンとしては、例えばプロパルギルブロミド、4−クロロ−2−ブチン等があげられる。
本工程で使用できるフェニルアルキルハライドとしては、例えば、ベンジルブロミド、4−メトキシベンジルクロリド、4−クロロベンジルブロミド等があげられる。
本工程で使用できるヘテロ環アルキルハライドとしては、例えば2−クロロ−5−クロロメチルピリジン等があげられる。
本工程で使用できるハロゲン化アシルとしては、例えば、アセチルクロリド、プロピオニルクロリド、ジフルオロアセチルクロリド、トリフルオロアセチルクロリド、メチルクロロフォルマート、エチルクロロフォルマート、N,N−ジメチルカルバモイルクロリド等があげられる。
本工程で使用できる酸無水物としては、例えば、無水酢酸、無水トリフルオロ酢酸、無水クロロジフルオロ酢酸等があげられる。
本工程で使用できるイソシアナート類としては、例えば、メチルイソシアナート、エチルイソシアナート、クロロスルホニルイソシアナート等があげられる。
本工程で使用できる芳香族ハロゲン化物としては、例えば3,5−ジクロロ−4−フルオロベンゾトリフルオリド等があげられる。
本工程で使用できるヘテロ環ハロゲン化物としては、例えば2,3-ジクロロ−5−トリフルオロメチルピリジン等があげられる。
本工程で使用できるスルホニルハライド類としては、例えばトリフルオロメタンスルホニルフルオリド、トリフルオロメタンスルホニルクロライド、ジフルオロメタンスルホニルクロライド等があげられる。
本工程で使用できるスルホン酸無水物としては、例えば、無水トリフルオロメタンスルホン酸等があげられる。
本工程で使用できるケトン類は例えば、アセトン、4−ヒドロキシ−3−メトキシベンズアルデヒド等があげられる。
本工程で使用できる安息香酸ハライドとしては例えば、安息香酸クロリド等があげられる。
本工程で使用できるヘテロ環カルボン酸としては例えば、3−ピリジンカルボン酸、チオフェンカルボン酸等があげられる。
本工程で使用できるヘテロ環カルボン酸ハライドとしては例えば、3−ピリジンカルボン酸クロリド、チオフェンカルボン酸クロリド等があげられる。
本工程で使用できる脂肪族カルボン酸ハライドとしては例えば、アセチルクロリド、プロピオン酸クロリド等があげられる。
本工程で使用できるアルコール類としては例えば、メタノール、エタノール、ベンジルアルコール等があげられる。
親電子試薬の使用量は、一般式[I−3]の化合物1モルに対して、1〜100モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1〜10モルであり、さらに好ましくは1〜3モルである。
本工程で塩基を使用する場合、使用できる塩基は、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルコールの金属塩類又はトリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジン、4−N,N−ジメチルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基類等があげられる。
塩基を使用する場合、塩基の使用量は、一般式[I−3]の化合物1モルに対して0.01〜3モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは0.1〜2モルであり、さらに好ましくは0.1〜1.2モルである。
本工程で酸を使用する場合、使用できる酸は、ルイス酸であって、例えばメタンスルホン酸又はp−トルエンスルホン酸等のスルホン酸類、塩酸、臭化水素酸又は硫酸等の無機酸類、酢酸又はトリフルオロ酢酸等のカルボン酸類等があげられる。
酸を使用する場合、酸の使用量は、一般式[I−3]の化合物1モルに対して0.001〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは0.01〜2モルであり、さらに好ましくは0.03〜1.0モルである。
本工程で使用できる溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の非プロトン性極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、又はこれらの混合溶媒等があげられる。
本工程で脱水縮合剤を使用する場合、使用できる脱水縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類をあげることができる。
脱水縮合剤を使用する場合、脱水縮合剤の使用量は一般式[I−3]の化合物1モルに対して1〜3モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0〜1.2モルである。
反応温度は−20℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは0℃〜80℃の範囲で行うのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常15分〜24時間である。
(工程B)
一般式[I]の本発明化合物は、一般式[I−5]の化合物と一般式[I−7]で表される化合物とを塩基存在下又は非存在下、溶媒存在下、反応させることにより製造することができる。
本工程で塩基を使用する場合、使用できる塩基は、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルコールの金属塩類又はトリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジン、4−N,N−ジメチルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基類等があげられる。
塩基を使用する場合、塩基の使用量は、一般式[I−5]の化合物1モルに対して1〜10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1〜3モルであり、さらに好ましくは1.0〜1.2モルである。
本工程で使用できる溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の非プロトン性極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類又は水をあげることができ、これらの混合溶媒も使用できる。
反応温度は−20℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは−10℃〜150℃の範囲で行うのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常15分〜12時間である。
(工程C)
一般式[I]で表される本発明化合物は一般式[I−6]の化合物とアミン類、カルボン酸類、アルコール類とを、溶媒存在下又は非存在化、反応させることにより製造することができる。
本工程で使用できるアミン類は、例えばメチルアミン、エチルアミン、ジメチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ヒドラジン、メチルヒドラジン等をあげることができる。
本工程で使用できるカルボン酸類は、例えば酢酸、プロピオン酸、メトキシ酢酸、安息香酸等をあげることができる。
本工程で使用できるアルコール類は、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、アリルアルコール、プロパルギルアルコール、シクロプロパノール等をあげることができる。
アミン類、カルボン酸類又はアルコール類の使用量は一般式[I−6]で表される化合物1モルに対してアミン類、カルボン酸類又はアルコール類を1モルから100モル、好ましくは1モルから30モル、さらに好ましくは1モルから3モルである。
本反応で使用できる溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の非プロトン性極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類又はこれらの混合溶媒をあげることができる。
反応温度は−20℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは−10℃〜150℃の範囲で行うのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常30分〜24時間である。
次に、表1〜表6に記載された本発明化合物及びその他の化合物の製造中間体の合成法について詳細に説明する。
<中間体製造法1>
製造中間体[II]及び[IV]の合成
一般式[II]及び[IV]の化合物は下記のように合成することができる。もちろん、酸化還元反応により相互に変換が可能である。特に一般式[II]の化合物は空気中の酸素によっても容易に酸化され、一般式[IV]の化合物になることもある。
Figure 0004970950
(式中、R’はメチル基又はトリフルオロメチル基を示し、Y、A、A、B及びBは前記と同じ意味を示す。)
(工程5)
すなわち、目的とする一般式[II]又は[IV]で表される化合物は一般式[XXI]の化合物を酸化剤で酸化し、メチルスルホキシドとした後、無水酢酸又は無水トリフルオロ酢酸で処理し、プンメラー転位反応を行い、一般式[XXII]で表されるアシルオキシメチルスルフィドとする。その後、これを加水分解することにより製造することができる。
本工程で使用できる酸化剤は、例えば過酸化水素、m−クロロ過安息香酸、過ヨウ素酸ナトリウム、オキソン(OXONE、イー・アイ・デュポン社商品名;ペルオキソ硫酸水素カリウム含有物)、N−クロロスクシンイミド、N−ブロモスクシンイミド、次亜塩素酸 tert−ブチル、次亜塩素酸ナトリウム等があげられる。
酸化剤の使用量は、一般式[XXI]の化合物1モルに対して1〜3モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0〜1.2モルである。
無水酢酸又は無水トリフルオロ酢酸の使用量は一般式[XXI]の化合物1モルに対して1モルから反応溶媒として利用でき、好ましくは1.0〜3.0モルである。
何れの反応も、反応温度は−10度から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは0℃〜50℃の温度範囲で行うのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常5分〜12時間である。
(工程6)
一般式[II]で表される化合物は一般式[XIX]の化合物を、溶媒中、金属又は有機金属化合物で処理した後、硫黄を反応させることにより製造することができる。
本工程で使用できる溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン、ピコリン等のピリジン類又はこれらの混合溶媒を例示できる。
本工程で使用できる金属はリチウム又はマグネシウム等があげることができる。
金属の使用量は一般式[XIX]の化合物1モルに対して1〜3モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0〜1.2モルである。
本工程で使用できる有機金属化合物はn−ブチルリチウム等があげられる。
有機金属化合物の使用量は一般式[XIX]の化合物1モルに対して1〜3モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0〜1.2モルである。
硫黄の使用量は一般式[XIX]の化合物1モルに対して1〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0〜2.0モルである。
何れの反応も、反応温度は−60℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは−60℃〜室温の温度範囲で行うのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常30分〜12時間である。
(工程7)
一般式[II]で表される化合物は一般式[XI]で表される化合物を前記<製造方法6>と同様に、ジアゾニウム塩とする。その後、キサントゲン酸塩又はチオシアン酸塩と反応させ、アルカリ加水分解することにより製造することができる。
キサントゲン酸塩又はチオシアン酸塩の使用量は一般式[XI]の化合物1モルに対して1〜3モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0〜1.5モルである。
何れの反応も、反応温度は−70℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは−20℃〜100℃の温度範囲で行うのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分〜20時間である。
(工程8)
一般式[II]で表される合成中間体は一般式[XXIII]の化合物をクロロスルホン酸で処理して一般式[XXIV]のスルホニルクロリドとし、これを水素化リチウムアルミニウム、亜鉛と酸、スズと酸もしくは赤りんとヨウ素を用いて還元することにより製造することができる。
本工程で使用するクロロスルホン酸の使用量は一般式[XXIII]の化合物1モルに対して2〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは2.2〜3.0モルである。
酸としては塩酸、硫酸等があげられる。
クロロスルホン酸の使用量は一般式[XXIII]の化合物1モルに対して2〜10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは2.2〜3.5モルである。
水素化リチウムアルミニウム、亜鉛と酸、スズ、酸、赤りん及びヨウ素の使用量は一般式[XXIII]の化合物1モルに対して1〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.5〜2.0モルである。
(工程9)
一般式[IV]で表される化合物は一般式[XXIII]の化合物と二塩化二イオウとを、触媒存在下又は非存在下、反応させることで製造することができる。さらに、一般式[II]で表される化合物は一般式[IV]で表される化合物を常法により還元することで製造することができる。
二塩化イオウの使用量は一般式[XXIII]の化合物1モルに対して1〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.1〜1.5モルである。
本工程で使用できる触媒は例えば塩化アルミニウム、塩化スズ(II)、塩化第二スズ(IV)等のルイス酸触媒を例示できる。
触媒の使用量は一般式[XXIII]の化合物1モルに対して1〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.1〜2.0モルである。
本工程で使用できる溶媒は、例えば塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類等をあげることできる。
反応温度は−30℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは−10℃〜100℃の範囲で行うのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常1〜20時間である。
<中間体製造法2>
さらに、一般式[IX]の化合物で、Bが電子吸引性基であるときは、置換反応により一般式[II−1]の合成中間体を製造することができる。
Figure 0004970950
(式中、L、A、A、B及びBは前記と同じ意味を示す。)
すなわち、目的とする一般式[II−1]で表される3−トリアゾリルフェニルチオール誘導体は一般式[IX]の化合物と一般式[XXV]の化合物とを溶媒中、塩基の存在下で反応させた後、鉱酸等にて中和することにより製造することができる。
ここで使用する一般式[XXV]の化合物の使用量は、一般式[IX]の化合物1モルに対して1〜3モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0〜1.5モルである。
本工程で使用できる溶媒は、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の非プロトン性極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、水等があげられる。
本工程で使用できる塩基は、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルコールの金属塩類又はトリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジン、4−N,N−ジメチルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基類等があげられる。
塩基の使用量は、一般式[IX]の化合物1モルに対して1〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0〜1.2モルである。
鉱酸としては、塩酸、硫酸等があげられる。
鉱酸の使用量は、一般式[IX]の化合物1モルに対して1〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0〜2.0モルである。
反応温度は−30℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは−20℃〜100℃の温度範囲で行うのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分〜20時間である。
<中間体製造法3>
製造中間体[VI]の合成
Figure 0004970950
(式中、A、A、R’、Y、L及びLは前記と同じ意味を示す。)
(工程10)
一般式[VI]で表される合成中間体は製造方法8と同様にして、一般式[XVI]の化合物を一般式[XVII]の化合物に導き、式[XXVI]の抱水ヒドラジン[XXVI]と反応させることにより製造することができる。
ここで使用する抱水ヒドラジン[XXVI]の使用量は、一般式[XVII]の化合物1モルに対して1〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0〜2.0モルである。
(工程11)
また、一般式[VI]で表される合成中間体は製造法7と同様にして、一般式[XXVII]の化合物と一般式[XV−1]の化合物又は一般式[XV−2]の化合物とを反応させることにより製造することができる。
ここで使用する一般式[XV−1]で表される化合物又は一般式[XV−2]で表される化合物の使用量は、一般式[XXVII]の化合物1モルに対して1モルから大過剰であり、好ましくは1.0〜2.0モルである。
反応温度は−70℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは−20℃〜100℃の温度範囲で行うのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分〜20時間である。
(工程12)
一般式[VI]で表される合成中間体は一般式[XXVII]で表される化合物とアンモニア水とを反応させることにより一般式[XXVII−2]で表されるアミドラゾンを製造する。さらに、この反応物と一般式[XV−3]で表される化合物又は一般式[XV−4]で表される化合物とを反応させることにより製造することができる。
アンモニア水の使用量は、一般式[XXVII]で表される化合物1モルに対して1〜10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは2.0〜5.0モルである。
一般式[XV−3]で表される化合物又は一般式[XV−4]で表される化合物の使用量は、一般式[XXVII−2]で表される化合物1モルに対して1モルから大過剰であり、好ましくは1.0〜2.0モルである。
反応温度は−70℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは−20℃〜100℃の温度範囲で行うのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分〜20時間である。
<中間体製造法4>
製造中間体[XIV]の合成
Figure 0004970950
(式中、L、L、A、B、B、R及びnは前記と同じ意味を示す。)
(工程13)
一般式[XXIX]で表される化合物は一般式[XVIII]で表されるフェニルヒドラジン誘導体と一般式[XXVIII]で表される化合物とを溶媒中、塩基の存在下で反応させることによりアシル化する。その後、目的とする一般式[XIV]で表される化合物は一般式[XXIX]で表される化合物をハロゲン化剤で処理することにより製造することができる。
ここで使用する一般式[XXVIII]の化合物の使用量は、一般式[XVIII]の化合物1モルに対して1〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0〜1.1モルである。
本工程で使用できる溶媒は、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の非プロトン性極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、プロピオン酸エチル等のエステル類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン、ピコリン等のピリジン類、水、又はこれらの混合溶媒等があげられる。
本工程で使用できる塩基は、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルコールの金属塩類又はトリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジン、4−N,N−ジメチルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基類等があげられる。
塩基の使用量は、一般式[XVIII]の化合物1モルに対して1モルから大過剰であり、好ましくは1.0〜1.2モルである。 ハロゲン化剤としては例えば三塩化リン、三臭化リン、塩化チオニル、オキシ塩化リン、五塩化リン、トリフォニルホスフィン/四塩化炭素又はトリフェニルホスフィン/四臭化炭素等があげられる。
ハロゲン化剤の使用量は、化合物[XXIX]の化合物1モルに対して1モルから大過剰であり、好ましくは1.0〜1.5モルである。
反応温度は−70℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは−20℃〜150℃の温度範囲で行うのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分〜20時間である。
(工程14)
又は、目的とする一般式[XIV]で表される化合物は一般式[XVIII]で表されるフェニルヒドラジン誘導体と一般式[XXX]で表されるアルデヒド化合物とを、溶媒中、酸触媒の存在下/非存在下、で反応させることにより、一般式[XXXI]で表されるフェニルヒドラゾン誘導体とした後、ハロゲン化剤で処理することにより製造することができる。
ここで使用する一般式[XXX]の化合物の使用量は、一般式[XVIII]の化合物1モルに対して1〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0〜1.2モルである。
本工程で使用できる溶媒は、反応を阻害しない溶媒であればよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、ジオキサン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、アセトニトリル又はプロピオニトリル等のニトリル類、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等の非プロトン性極性溶媒、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン、ピコリン等のピリジン類又はこれらの混合溶媒を等があげられる。
本工程で使用できる酸触媒は、例えばp−トルエンスルホン酸等のスルホン酸類、四塩化チタン等のルイス酸等があげられる。
ここで、酸触媒を使用する場合、その使用量は、一般式[XVIII]の化合物1モルに対して1〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0〜1.2モルである。
本工程で使用できるハロゲン化剤は、例えば塩素、N−クロロスクシンイミド、N−ブロモスクシンイミド、次亜塩素酸 tert−ブチル等があげられる。
ここで使用するハロゲン化剤の使用量は、一般式[XXXI]の化合物1モルに対して1〜5モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0〜1.1モルである。
反応温度は−70℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは−20℃〜150℃の温度範囲で行うのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分〜20時間である。
尚、一般式[XVIII]のフェニルヒドラジンは、対応するアニリンから通常の方法、例えば、コンプリヘンシブ・オーガニック・ファンクショナル・グループ・トランスフォーメーション(Comprehensive Organic Functional Group Transformations)第2巻、第769頁記載の方法に準じて合成することができる。
Figure 0004970950
(式中、B、B及びRは前記と同じ意味を示し、Acとはアセチル基を示す。)
一般式[XXXVI]で表される3−チオアニリン誘導体は一般式[XXXII]で表されるアセトアニリドを中間体製造方法1の記載と同様にして、一般式[XXXIV]で表されるジスルフィド又は一般式[XXXV]で表されるチオールとし、さらに、前記製造法1又は製造法2の記載の方法を用いることにより製造することができる。
一般式[XVIII−1]で表されるフェニルヒドラジンは一般式[XXXVI]で表される化合物を鉱酸の存在下、亜硝酸塩を反応させてジアゾニウム塩とし、これを亜鉛末、亜硫酸類、塩化スズ等で還元して製造することができる。
鉱酸としては、塩酸、硫酸等があげられる。
鉱酸の使用量は、化合物[XXXVI]1モルに対して2〜10モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは3〜5モルである。
亜硝酸塩の使用量は、化合物[XXXVI]1モルに対して1.0〜5.0モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.0〜1.2モルである。
何れの反応も、反応温度は−20℃から50℃の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは−5度〜20℃の温度範囲で行うのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常30分〜5時間である。
一般式[I−5]の化合物は、次の方法によって製造することができる。
Figure 0004970950
(式中、A、A、B、B、n及びRは前記と同じ意味を示し、Lはハロゲン原子を示し、Wはメチルチオ基又はp−トリルチオ基を示す。)
一般式[I−5a]の化合物は、一般式[I−3]の化合物を、常法によりジアゾ化し、さらに、塩化銅(I)又は臭化銅(I)と反応させることによって、製造することができる。
ここで使用する塩化銅(I)又は臭化銅(I)の使用量は、一般式[I−3]の化合物1モルに対して、1〜5モルであり、好ましくは1〜2モルである。
使用できる溶媒は、酢酸等のカルボン酸類、塩酸、臭化水素酸、硫酸等の鉱酸類、水、或いはこれらの混合溶媒をあげることができる。
反応温度は−70℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは−20℃〜100℃の温度範囲で行うのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分〜20時間である。
一般式[I−5a]の化合物は、亜硝酸t−ブチル又は亜硝酸イソアミル等の亜硝酸エステル類と塩化銅(II)又は臭化銅(II)の共存下、溶媒中で反応させることにより製造することもできる。
亜硝酸エステル類の使用量は一般式[I−3]の化合物1モルに対して、1〜5モルであり、好ましくは1〜2モルである。
ここで使用する塩化銅(II)又は臭化銅(II)の使用量は、一般式[I−3]の化合物1モルに対して、1〜5モルであり、好ましくは1〜2モルである。
ここで使用する塩化銅(II)又は臭化銅(II)の使用量は、一般式[I−3]の化合物1モルに対して、1〜5モルであり、好ましくは1〜2モルである。
使用できる溶媒は、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の非プロトン性極性溶媒、又はこれらの混合溶媒等があげられる。
反応温度は−70℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは−20℃〜100℃の温度範囲で行うのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分〜20時間である。
一般式[I−5b]の化合物は、一般式[I−5a]の化合物と、メチルメルカプタン又は4−メチルベンゼンチオールとを、塩基の存在下、溶媒中で反応させることにより製造することができる。
ここで使用できる塩基は、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルコールの金属塩類又はトリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジン、4−N,N−ジメチルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基類等があげられる。
本工程で使用できる溶媒は、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の非プロトン性極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、水等があげられる。
一般式[I−5c]又は一般式[I−5d]の化合物は、一般式[I−5b]の化合物と、過酸化水素、m−クロロ過安息香酸、過ヨウ素酸ナトリウム、オキソン(OXONE、イー・アイ・デュポン社商品名;ペルオキソ硫酸水素カリウム含有物)、N−クロロスクシンイミド、N−ブロモスクシンイミド、次亜塩素酸 tert−ブチル、次亜塩素酸ナトリウム等の酸化剤とを反応させることにより製造することができる。
酸化剤の使用量は、[I−5c]を製造する場合は、一般式[I−5b]の化合物1モルに対して、0.5〜1.5モル、好ましくは、0.8から1.2モルである。さらに、[I−5d]を製造する場合は、一般式[I−5b]の化合物1モルに対して、2〜10モル、好ましくは、2モルから4モルである。
使用できる溶媒、反応温度、反応時間は前記製造方法10と同様である。
また、一般式[I−5d]の化合物は、[I−5a]で表される化合物と、メタンスルフィン酸塩又はp−トルエンスルフィン酸塩とを、反応させることによっても製造することもできる。
ここで使用するメタンスルフィン酸塩又はp−トルエンスルフィン酸塩の使用量は、一般式[I−5a]1モルに対して、1〜10モル、好ましくは1〜5モル、さらに好ましくは1〜3モルである。
使用できる溶媒は、アセトニトリル等のニトリル類、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等の非プロトン性極性溶媒等があげられる。
反応温度は−0℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは10℃〜100℃の温度範囲で行うのがよい。
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常1〜24時間である。
一般式[I−5e]の化合物は、一般式[I−3]の化合物と亜硝酸t−ブチル、亜硝酸イソアミル等の亜硝酸エステル類とを、反応させることによっても製造することができる。
亜硝酸エステル類の使用量は一般式[I−3]の化合物1モルに対して、1〜5モルであり、好ましくは1〜2モルである。
使用できる溶媒は、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の非プロトン性極性溶媒、又はこれらの混合溶媒等があげられる。
反応温度は−70℃から反応系における還流温度までの任意の温度の範囲から選択すればよく、好ましくは−20℃〜100℃の温度範囲で行うのがよい。反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分〜20時間である。
Figure 0004970950
(式中、A、A、B、B、n及びRは前記と同じ意味を示す。)
一般式[I−6]で表される化合物は、一般式[I−3]で表される化合物と二塩化オキザリル又はホスゲンとを、溶媒の存在下、反応させること公知の方法により製造することができる。
二塩化オキザリル又はホスゲンの使用量は一般式[I−3]で表される化合物1モルに対して、1モルから反応溶媒量と同等量の範囲から適宜選択すればよく、好ましくは1.1から3モルである。
ここで使用できる溶媒は、例えば例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、又はこれらの混合溶媒等があげられる。
本発明化合物を有害生物防除剤の有効成分として使用するに際しては、本発明化合物それ自体で用いてもよいが、農薬補助剤として製剤化に一般的に用いられる担体、界面活性剤、及びその他補助剤を配合して、乳剤、懸濁剤、粉剤、粒剤、錠剤、水和剤、水溶剤、液剤、フロアブル剤、顆粒水和剤、エアゾール剤、ペースト剤、油剤、乳濁剤、くん煙剤等の種々の形態に製剤することができる。これらの配合割合は通常、有効成分0.1〜90重量%で農薬補助剤10〜99.9重量%である。
ここにいう製剤化に際して用いられる担体としては、固体担体と液体担体に分けられる。固体担体としては、例えば澱粉、活性炭、大豆粉、小麦粉、木粉、魚粉、粉乳等の動植物性粉末、タルク、カオリン、ベントナイト、炭酸カルシウム、ゼオライト、珪藻土、ホワイトカーボン、クレー、アルミナ、硫安、尿素等の無機物粉末があげられる。液体担体としては、例えば水;イソプロピルアルコール、エチレングリコール等のアルコール類;シクロヘキサノン、メチルエチルケトン等のケトン類;ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類;ケロシン、軽油等の脂肪族炭化水素類;キシレン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、メチルナフタリン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類;クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類;ジメチルアセトアミド等の酸アミド類;脂肪酸のグリセリンエステル等のエステル類;アセトニトリル等のニトリル類;ジメチルスルホキシド等の含硫化合物類等があげられる。
界面活性剤としては、例えばアルキルベンゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジスルホン酸金属塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、ポリオキシエチレングリコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンモノアルキレート等があげられる。
その他の補助剤としては、例えばカルボキシメチルセルロース、アラビアゴム、アルギン酸ナトリウム、グアーガム、トラガントガム、ポリビニルアルコール等の固着剤あるいは増粘剤、金属石鹸等の消泡剤、脂肪酸、アルキルリン酸塩、シリコーン、パラフィン等の物性向上剤、着色剤等を用いることができる。
これらの製剤の実際の使用に際しては、そのまま使用するか、又は水等の希釈剤で所定濃度に希釈して使用することができる。本発明化合物を含有する種々の製剤、又はその希釈物の施用は、通常一般に行なわれている施用方法、即ち、散布(例えば噴霧、ミスティング、アトマイジング、散粉、散粒、水面施用、箱施用等)、土壌施用(例えば混入、潅注等)、表面施用(例えば塗布、粉衣、被覆等)、浸漬、毒餌、くん煙施用等により行うことができる。また、家畜に対して前記有効成分を飼料に混合して与え、その排泄物での有害虫、特に有害昆虫の発生、成育を防除することも可能である。また、いわゆる超高濃度少量散布法により施用することもできる。この方法においては、活性成分を100%含有することが可能である。有効成分の配合割合は必要に応じ適宜選ばれるが、粉剤及び粒剤とする場合は0.1〜20%(重量)、また、乳剤及び水和剤とする場合は1〜80%(重量)が適当である。
本発明の有害生物防除剤の施用は、希釈剤で希釈して使用する場合には一般に0.1〜5000ppmの有効成分濃度で行う。製剤をそのまま使用する場合の単位面積あたりの施用量は、有効成分化合物として1ha当り0.1〜5000gで使用されるが、これらに限定されるものではない。
尚、本発明化合物は単独でも十分有効であることはいうまでもないが、必要に応じて他の肥料、農薬、例えば殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、抗ウイルス剤、誘引剤、除草剤、植物生長調整剤などと混用、併用することができ、この場合に一層優れた効果を示すこともある。
本発明化合物と混合して使用できる殺虫剤、殺菌剤、殺ダニ剤等の代表例を以下に示す。
例えば有機リン及びカーバメート系殺虫剤:フェンチオン、フェニトロチオン、ダイアジノン、クロルピリホス、オキシデプロホス、バミドチオン、フェントエート、ジメトエート、ホルモチオン、マラチオン、トリクロルホン、チオメトン、ホスメット、ジクロルボス、アセフェート、EPBP、メチルパラチオン、オキシジメトンメチル、エチオン、ジオキサベンゾホス、シアノホス、イソキサチオン、ピリダフェンチオン、ホサロン、メチダチオン、スルプロホス、クロルフェンビンホス、テトラクロルビンホス、ジメチルビンホス、プロパホス、イソフェンホス、ジスルホトン、プロフェノホス、ピラクロホス、モノクロトホス、アジンホスメチル、アルジカルブ、メソミル、チオジカルブ、カルボフラン、カルボスルファン、ベンフラカルブ、フラチオカルブ、プロポキスル、フェノブカルブ、メトルカルブ、イソプロカルブ、カルバリル、ピリミカーブ、エチオフェンカルブ、ジクロフェンチオン、ピリミホスメチル、キナルホス、クロルピリホスメチル、プロチオホス、ナレッド、EPN、XMC、ベンダイオカルブ、オキサミル、アラニカルブ、クロルエトキシホス等。
ピレスロイド系殺虫剤:ペルメトリン、シペルメトリン、デルタメトリン、フェンバレレート、フェンプロパトリン、ピレトリン、アレスリン、テトラメトリン、レスメトリン、ジメスリン、プロパスリン、フェノトリン、プロトリン、フルバリネート、シフルトリン、シハロトリン、フルシトリネート、エトフェンプロックス、シクロプロトリン、トラロメトリン、シラフルオフェン、テフルトリン、ビフェントリン、アクリナトリン等。
アシルウレア系、その他の殺虫剤:ジフルベンズロン、クロルフルアズロン、ヘキサフルムロン、トリフルムロン、テフルベンズロン、フルフェノクスロン、フルシクロクスロン、ブプロフェジン、ピリプロキシフェン、ルフェヌロン、シロマジン、メトプレン、エンドスルファン、ジアフェンチウロン、イミダクロプリド、アセタミプリド、ニテンピラム、クロチアニジン、ジノテフラン、チアメトキサム、チアクロプリド、ピメトロジン、フィプロニル、ピリダリル、硫酸ニコチン、ロテノン、メタアルデヒド、マシン油、BTや昆虫病原ウイルス等の微生物農薬、フェノキシカルブ、カルタップ、チオシクラム、ベンスルタップ、テブフェノジド、クロルフェナピル、エマメクチンベンゾエート、アセタプリド、ニテンピラム、オレイン酸ナトリウム、なたね油等。
殺線虫剤:フェナミホス、ホスチアゼート、エトプロホス、メチルイソチオシアネート、1,3ジクロロプロペン、DCIP等。
殺ダニ剤:クロルベンジレート、フェニソブロモレート、ジコホル、アミトラズ、プロパルギット、ベンゾメート、ヘキシチアゾクス、フェンブタチンオキシド、ポリナクチン、キノメチオネート、クロルフェンソン、テトラジホン、アバメクチン、ミルベメクチン、クロフェンテジン、ピリダベン、フェンピロキシメート、テブフェンピラド、ピリミジフェン、フェノチオカルブ、ジエノクロル、エトキサゾール、ビフェナゼート、アセキノシル、ハルフェンプロックス、スピロディクロフェン等。
殺菌剤:チオファネートメチル、ベノミル、カルベンダゾール、チアベンダゾール、フォルペット、チウラム、ジラム、ジネブ、マンネブ、ポリカーバメート、イプロベンホス、エジフェンホス、フサライド、プロベナゾール、イソプロチオラン、クロロタロニル、キャプタン、ポリオキシン、ブラストサイジンS、カスガマイシン、ストレプトマイシン、バリダマイシン、トリシクラゾール、ピロキロン、フェナジンオキシド、メプロニル、フルトラニル、ペンシクロン、イプロジオン、ヒメキサゾール、メタラキシル、トリフルミゾール、トリホリン、トリアジメホン、ビテルタノール、フェナリモル、プロピコナゾール、シモキサニル、プロクロラズ、ペフラゾエート、ヘキサコナゾール、ミクロブタニル、ジクロメジン、テクロフタラム、プロピネブ、ジチアノン、ホセチル、ビンクロゾリン、プロシミドン、オキサジキシル、グアザチン、プロパモカルブ塩酸塩、フルアジナム、オキソリニック酸、ヒドロキシイソキサゾール、メパニピリム等。
本発明化合物は、半翅目害虫、鱗翅目害虫、鞘翅目害虫、双翅目害虫、膜翅目害虫、直翅目害虫、シロアリ目害虫、アザミウマ目害虫、ハダニ類、植物寄生性線虫類等の害虫に対して、優れた防除効果を示す。そのような害虫の例としては、以下の如き害虫類を例示することができる。
半翅目害虫、例えばホソヘリカメムシ(Riptortus clavatus)、ミナミアオカメムシ(Nezara viridula)、メクラカメムシ類(Lygus sp.)、アメリカコバネナガカメムシ(Blissus leucopterus)、ナシグンバイ(Stephanitis nashi)等のカメムシ類(異翅類;heteroptera)、ツマグロヨコバイ(Nephotettix cincticeps)、ヒメヨコバイ類(Empoasca sp., Erythroneura sp.,Circulifer sp.)等のヨコバイ類、トビイロウンカ(Nilaparvata lugens)、セジロウンカ(Sogatella furcifera)、ヒメトビウンカ(Laodelphax striatellus)等のウンカ類、Psylla sp.等のキジラミ類、シルバーリーフコナジラミ(Bemisia tabaci)、オンシツコナジラミ(Trialeurodes vaporariorum)等のコナジラミ類、ブドウネアブラムシ(Viteus vitifolii)、モモアカアブラムシ(Myzus persicae)、リンゴアブラムシ(Aphis pomi)、ワタアブラムシ(Aphis gossypii)、Aphis fabae、ニセダイコンアブラムシ(Rhopalosiphum psedobrassicas)、ジャガイモヒゲナガアブラムシ(Aulacorthum solani)、ムギミドリアブラムシ(Schizaphis graminum)等のアブラムシ類、クワコナカイガラムシ(Pseudococcus comstocki)、ルビーロウムシ(Ceroplastes rubens)、サンホーゼカイガラムシ(Comstockaspis perniciosa)、ヤノネカイガラムシ(Unaspis yanonensis)等のカイガラムシ類、サシガメ(Rhodnius sp.)等。
鱗翅目害虫、例えばチャハマキ(Homona magnanima)、コカクモンハマキ(Adoxophyes orana)、テングハマキ(Sparganothis pilleriana)、ナシヒメシンクイ(Grapholitha molesta)、マメシンクイガ(Leguminivora glycinivorella)、コドリンガ(Laspeyresia pomonella)、Eucosma sp.、Lobesia botrana等のハマキガ類、ブドウホソハマキ(Eupoecillia ambiguella)等のホソハマキガ類、Bambalina sp.等のミノガ類、コクガ(Nemapogon granellus)、イガ(Tinea translucens)等のヒロズコガ類、ギンモンハモグリガ(Lyonetia prunifoliella)等のハモグリガ類、キンモンホソガ(Phyllonorycter rigoniella)等のホソガ類、ミカンハモグリガ(Phyllocnistis citrella)等のコハモグリガ類、コナガ(Plutella xylostella)、Prays citriなどのスガ類、ブドウスカシバ(Paranthrene regalis)、Synanthedon sp.等のスカシバガ類、ワタアカミムシ(Pectinophora gossypiella)、ジャガイモガ(Phthorimaea operculella)、Stomopteryx sp.等のキバガ類、モモシンクイ(Carposina niponensis)等のシンクイガ類、イラガ(Monema flavescens)等のイラガ類、ニカメイガ(Chilo suppressalis)、コブノメイガ(Cnaphalocrocis medinalis)、Ostrinia nubilalis、アワノメイガ(Ostrinia furnacalis)、ハイマダラノメイガ(Hellula undalis)、ハチミツガ(Galleria mellonella)、Elasmopalpus lignosellus、Loxostege sticticalisなどのメイガ類、モンシロチョウ(Pieris rapae)等のシロチョウ類、ヨモギエダシャク(Ascotis selenaria)等のシャクガ類、オビカレハ(Malacosoma neustria)等のカレハガ類、Manduca sextaなどのスズメガ類、チャドクガ(Euproctis pseudoconspersa)、マイマイガ(Lymantria dispar)等のドクガ類、アメリカシロヒトリ(Hyphantria cunea)等のヒトリガ類、タバコバッドワーム(Heliothis virescens)、ボールワーム(Helicoverpa zea)、シロイチモジヨトウ(Spodoptera exigua)、オオタバコガ(Helicoverpa armigera)、ハスモンヨトウ(Spodoptera litura)、ヨトウガ(Mamestra brassicae)、タマナヤガ(Agrotis ipsiron)、アワヨトウ(Pseudaletia separata)、イラクサキンウワバ(Trichoplusia ni)等のヤガ類等。
鞘翅目害虫、例えばドウガネブイブイ(Anomala cuprea)、マメコガネ(Popillia japonica)、ヒメコガネ(Anomala rufocuprea)、Eutheola rugicepsなどのコガネムシ類、ワイヤーワーム(Agriotes sp.)、Conodeus sp.等のコメツキムシ類、ニジュウヤホシテントウ(Epilachna vigintioctopunctata)、インゲンテントウムシ(Epilachna varivestis)等のテントウムシ類、コクヌストモドキ(Tribolium castaneum)等のゴミムシダマシ類、ゴマダラカミキリ(Anoplophora malasiaca)、マツノマダラカミキリ(Monochamus alternatus)等のカミキリムシ類、インゲンマメゾウムシ(Acanthoscelides obtectus)、アズキゾウムシ(Callosobruchus chinensis)等のマメゾウムシ類、コロラドハムシ(Leptinotarsa decemlineata)、コーンルートワーム(Diabrotica sp.)、イネドロオイムシ(Oulema oryzae)、テンサイトビハムシ(Chaetocnema concinna)、Phaedon cochlearias、Oulema melanopus、Dicladispa armigeraなどのハムシ類、Apion godmaniなどのホソクチゾウムシ類、イネミズゾウムシ(Lissorhoptrus oryzophilus)、ワタミゾウムシ(Anthonomus grandis)等のゾウムシ類、コクゾウムシ(Sitophilus zeamais)等のオサゾウムシ類、キクイムシ類、カツオブシムシ類、シバンムシ類等。
双翅目害虫、例えばキリウジガガンボ(Tipra ano)、イネユスリカ(Tanytarsus oryzae)、イネシントメタマバエ(Orseolia oryzae)、チチュウカイミバエ(Ceratitis capitata)、イネミギワバエ(Hydrellia griseola)、オウトウショウジョウバエ(Drosophila suzukii)、フリッツフライ(Oscinella frit)、イネカラバエ(chlorops oryzae)、インゲンモグリバエ(Ophiomyia phaseoli)、マメハモグリバエ(Liriomyza trifolii)、アカザモグリハナバエ(Pegomya hyoscyami)、タネバエ(Hylemia platura)、ソルガムフライ(Atherigona soccata)、イエバエ(Musca domestica)、ウマバエ(Gastrophilus sp.)、サシバエ(Stomoxys sp.)、ネツタイシマカ(Aedes aegypti)、アカイエカ(Culex pipiens)、シナハマダラカ(Anopheles slnensis)、コガタアカイエカ(Culex tritaeniorhynchus)等。
膜翅目害虫、例えばクキバチ類(Cephus sp.)、カタビロコバチ類(Harmolita sp.)、カブラハバチ類(Athalia sp.)、スズメバチ類(Vespa sp.)、ファイアーアント類等。
直翅目害虫、例えばチャバネゴキブリ(Blatella germanica)、ワモンゴキブリ(Periplaneta americana )、ケラ(Gryllotalpa africana)、バッタ(Locusta migratoria migratoriodes)、Melanoplus sanguinipes等。
シロアリ目害虫、例えば、ヤマトシロアリ(Reticulitermes speratus)、イエシロアリ(Coptotermes formosanus)等。
アザミウマ目害虫、例えば、チャノキイロアザミウマ(Scirtothrips dorsalis)、ミナミキイロアザミウマ(Thrips palmi)、クロトンアザミウマ(Heliothrips haemorrhoidalis)、ミカンキイロアザミウマ(Frankliniella occidentalis)、イネクダアザミウマ(Haplothrips aculeatus)等。
ハダニ類、例えばナミハダニ(Tetranychus urticae)、カンザワハダニ(Tetranychus kanzawai)、ミカンハダニ(Panonychus citri)、リンゴハダニ(Panonychus ulmi)、イエローマイト(Eotetranychus carpini)、テキサスシトラスマイト(Eotetranychus banksi)、ミカンサビダニ(Phyllocoptruta oleivora)、チャノホコリダニ(Polyphagotarsonemus latus)、ヒメハダニ(Brevipalpus sp.)、ロビンネダニ(Rhizoglyphus robini)、ケナガコナダニ(Tyrophagus putrescentiae)、等。
植物寄生性線虫類、例えばネコブセンチュウ類(Meloidogyne sp.)、ネグサレセンチュウ類(Pratylenchus sp.)、ダイズシストセンチュウ(Heterodera glycines)、ジャガイモシストセンチュウ(Globodera rostochiensis)、バナナネモグリセンチュウ(Radopholus similis)、イチゴセンチュウ(Aphelenchoides fragariae)、イネシンガレセンチュウ(Aphelenchoides besseyi)、マツノザイセンチュウ(Bursaphelenchus xylophilus)等。
その他有害動物、不快動物、衛生害虫、寄生虫、例えばスクミリンゴガイ(Pomacea canaliculata)、ナメクジ(Incilaria sp.)、アフリカマイマイ(Achatina fulica)等の腹足綱類(Gastropoda)、ダンゴムシ(Armadillidium sp.)、ワラジムシ、ムカデ等の等脚目類(Isopoda)、Liposcelis sp.等のチャタテムシ類、Ctenolepisma sp.等のシミ類、Pulex sp.、Ctenocephalides sp.等のノミ類、Trichodectes sp.等のハジラミ類、Cimex sp.等のトコジラミ類、オウシマダニ(Boophilus microplus)、フタトゲチマダニ(Haemaphysalis longicornis)等の動物寄生性ダニ類、ヒョウヒダニ類等をあげることができる。
さらに、有機リン系化合物、カーバメート系化合物、合成ピレスロイド系化合物、アシルウレア系化合物或いは既存の殺虫剤に抵抗性を示す害虫に対しても有効である。
次に、表1〜表6に記載された本発明化合物及びその他の化合物の製造法、製剤法及び用途を具体的に説明する。尚、表1〜表6に記載された本発明化合物及びその他の化合物の合成中間体の製造法も併せて記載する。
(参考例)
[5−(5−アミノ−3−トリフルオロメチル−1,2,4−トリアゾリル)−4−クロロ−2−メチルフェニル]2,2,2−トリフルオロエチルスルフィド(化合物番号7)の製造
(1)5−アセチルチオ−2−クロロ−4−メチルアセトアニリドの合成
クロロスルホン酸100mlに2−クロロ−4−メチルアセトアニリド55gを、5〜10℃で加えた。この混合液に60%発煙硫酸65gを10〜15℃で加え、室温で1時間攪拌後、さらに90℃で18時間攪拌した。室温冷却後、反応混合物を氷水に注加し、トルエンを加え、不溶物をロ別後、有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣と、赤リン31g、ヨウ素1g及び酢酸200mlの混合物を1時間加熱還流し、反応液を室温へ冷却した。不溶物をロ別後、減圧下濃縮し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、5−アセチルチオ−2−クロロ−4−メチルアセトアニリド14gを得た。
(2)2−クロロ−4−メチル−5−メルカプトアニリンの合成
5−アセチルチオ−2−クロロ−4−メチルアセトアニリド14gをエタノール150mlに溶解し、50%水酸化ナトリウム水溶液22gを加え、4時間加熱還流した。得られた反応混合物を、減圧下濃縮し、水を加え、希塩酸で中和後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去して、2−クロロ−4−メチル−5−メルカプトアニリン9.4gを得た。
(3)2−クロロ−4−メチル−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)アニリンの合成
2−クロロ−4−メチル−5−メルカプトアニリン9.4g、ヨウ化2,2,2−トリフルオロエチル20g、炭酸カリウム13g、N,N−ジメチルホルムアミド200mlの混合物を室温で16時間攪拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、水を加え、トルエン抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去して2−クロロ−4−メチル−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)アニリン13.5gを得た。
H−NMRデータ(CDCl/TMS δ(ppm)値):2.32(3H,s),3.33(2H,q),3.96(2H,s),6.94(1H,s),7.11(1H,s)
(4)2−クロロ−4−メチル−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニルヒドラジンの合成
濃塩酸30ml中に、2−クロロ−4−メチル−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)アニリン13.5gを室温で滴下し、この混合物に、亜硝酸ナトリウム3.8gを含む水溶液を、0〜5℃で滴下し、そのまま1時間攪拌してジアゾニウム塩を調製した。塩化スズ・2水和物36gを6N塩酸250mlに溶解し、この混合溶液に前記のジアゾニウム塩水溶液を、0〜5℃で滴下し、さらに室温で、2時間攪拌した。トルエンを加え、水酸化ナトリウム水溶液で中和し、不溶物をロ別後、有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して、2−クロロ−4−メチル−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニルヒドラジン12.1gを得た。
(5)トリフルオロアセトアルデヒド {2−クロロ−4−メチル−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル}ヒドラゾンの合成
2−クロロ−4−メチル−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニルヒドラジン4.1g、トリフルオロアセトアルデヒドエチルヘミアセタール2.3g、p−トルエンスルホン酸一水和物0.1g、エタノール50mlの混合物を、6時間加熱還流した。得られた反応混合物を減圧下濃縮し、水を加え、トルエンで抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、トリフルオロアセトアルデヒド {2−クロロ−4−メチル−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル}ヒドラゾン3.6gを得た。
(6)N−{2−クロロ−4−メチル−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル}トリフルオロアセトヒドラゾノイルブロミドの合成
トリフルオロアセトアルデヒド {2−クロロ−4−メチル−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル}ヒドラゾン3.6g(10.3ミリモル)をN,N−ジメチルホルムアミド30mlに溶解し、室温下、N−ブロモスクシイミド2.0gを加え、室温で2時間攪拌した。反応混合物を水に注加し、トルエンで抽出し、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して、N−{2−クロロ−4−メチル−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル}トリフルオロアセトヒドラゾノイルブロミド4.1gを得た。
(7)[5−(5−アミノ−3−トリフルオロメチル−1,2,4−トリアゾリル)−4−クロロ−2−メチルフェニル]2,2,2−トリフルオロエチルスルフィドの合成
N−{2−クロロ−4−メチル−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル}トリフルオロアセトヒドラゾノイルブロミド4.1g、S−メチルイソチオ尿素ヨウ化水素塩4.4g、テトラヒドロフラン100mlの混合物に、室温下、トリエチルアミン3.5gを加え、さらに、50℃で3時間攪拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣にキシレンを加え、2時間加熱還流した。反応混合物を室温へ冷却した後、水洗し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、得られた粗結晶をエタノールから再結晶して、淡灰色結晶(融点193〜194℃)の[5−(5−アミノ−3−トリフルオロメチル−1,2,4−トリアゾリル)−4−クロロ−2−メチルフェニル]2,2,2−トリフルオロエチルスルフィド2.0gを得た。
(実施例)
[5−(5−アミノ−3−トリフルオロメチル−1,2,4−トリアゾリル)−4−クロロ−2−メチルフェニル]2,2,2−トリフルオロエチルスルホキシド(本発明化合物番号8)の製造
[5−(5−アミノ−3−トリフルオロメチル−1,2,4−トリアゾリル)−4−クロロ−2−メチルフェニル]2,2,2−トリフルオロエチルスルフィド1.3gを酢酸エチル80mlに溶解し、氷冷下、m−クロロ過安息香酸0.9g(純度75%)を加えた。氷冷下、2時間攪拌後、チオ硫酸ナトリウム水溶液で洗浄し、次いで炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、得られた結晶を四塩化炭素で洗浄して、白色結晶(融点235〜237℃)の[5−(5−アミノ−3−トリフルオロメチル−1,2,4−トリアゾリル)−4−クロロ−2−メチルフェニル]2,2,2−トリフルオロエチルスルホキシド1.2gを得た。
(参考例)
[5−(3−ニトロ−1,2,4−トリアゾリル)−2−ジフルオロメチルフェニル]2,2,2−トリフルオロエチルスルフィド(化合物番号11)の製造
(1)4−(3−ニトロ−1,2,4−トリアゾリル)−2−フルオロベンズアルデヒドの合成
水素化ナトリウム1.2g(60%)及びN,N−ジメチルホルムアミド50mlの懸濁液に、氷冷下、3−ニトロ−1,2,4−トリアゾール3.4gのN,N−ジメチルホルムアミド溶液10mlを滴下した。水素の発生が止まった後、2,4−ジフルオロベンズアルデヒド4.3gを加え、70℃で3時間撹拌した。減圧下濃縮し、水200mlを加え、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下で留去して得られた粗結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄して、4−(3−ニトロ−1,2,4−トリアゾリル)−2−フルオロベンズアルデヒド1.6gを得た。
(2)4−(3−ニトロ−1,2,4−トリアゾリル)−2−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)ベンズアルデヒドの合成
4−(3−ニトロ−1,2,4−トリアゾリル)−2−フルオロベンズアルデヒド1.6g、炭酸カリウム1.3gとN,N−ジメチルホルムアミド50mlの混合物に、氷冷下、2,2,2−トリフルオロエチルメルカプタン0.8gを滴下し、0〜10℃で4時間撹拌した。減圧下濃縮し、水200mlを加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、4−(3−ニトロ−1,2,4−トリアゾリル)−2−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)ベンズアルデヒド1.8gを得た。
(3)[5−(3−ニトロ−1,2,4−トリアゾリル)−2−ジフルオロメチルフェニル]2,2,2−トリフルオロエチルスルフィドの合成
4−(3−ニトロ−1,2,4−トリアゾリル)−2−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)ベンズアルデヒド1.8g、塩化メチレン20mlの混合物に、氷冷下、ジエチルアミノサルファートリフルオリド2.6gを加え、さらに6時間加熱還流した。室温冷却後、氷水に注加し、有機相を炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、淡黄色結晶(融点74〜76℃)の[5−(3−ニトロ−1,2,4−トリアゾリル)−2−ジフルオロメチルフェニル]−2,2,2−トリフルオロエチルスルフィドを得た。
(参考例)
[5−(5−アミノ−3−トリフルオロメチル−1,2,4−トリアゾリル)−4−フルオロ−2−メチルフェニル]2,2,2−トリフルオロエチルスルフィド(化合物番号1)の製造
(1)5−アセチルチオ−2−フルオロ−4−メチルアセトアニリドの合成
クロロスルホン酸500gに、2−フルオロ−4−メチルアセトアニリド150gを、50℃以下で加え、さらに1時間攪拌した。反応混合物を氷水−酢酸エチルの混合物に注加し、有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、固体の残渣を得た。得られた固体の残渣を酢酸350mlに溶解し、この溶液を、赤リン84g、ヨウ素1g及び酢酸300mlの混合物に、加熱還流下、1時間かけて滴下し、2時間加熱還流した。室温冷却後、不溶物をロ別後、減圧下濃縮し、水を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、5−アセチルチオ−2−フルオロ−4−メチルアセトアニリド211gを得た。
(2)2−フルオロ−4−メチル−5−メルカプトアニリンの合成
5−アセチルチオ−2−フルオロ−4−メチルアセトアニリド211gをエタノール500mlに溶解し、この溶液に、水酸化カリウム200g/水500mlの溶液を30分かけて滴下し、5時間加熱還流した。室温冷却後、希塩酸で中和し、減圧下濃縮し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去して2−フルオロ−4−メチル−5−メルカプトアニリン129gを得た。
(3)2−フルオロ−4−メチル−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)アニリンの合成
2−フルオロ−4−メチル−5−メルカプトアニリン129gのN,N−ジメチルホルムアミド1000ml溶液に、ヨウ化2,2,2−トリフルオロエチル250g、炭酸カリウム125gを加え、さらにロンガリット10gを添加し、室温で8時間撹拌した。反応液を水に注加し、酢酸エチルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去して、2−フルオロ−4−メチル−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)アニリン182gを得た。
H−NMRデータ(CDCl/TMS δ(ppm)値):2.36(3H,s),3.30(2H,q),3.64(2H,s),6.86(1H,d),6.98(1H,d)
(4)2−フルオロ−4−メチル−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニルヒドラジンの合成
濃硫酸300mlに亜硝酸ナトリウム53gを50℃以下で加え、さらに酢酸300mlを50℃以下で滴下した。この混合溶液に20℃以下で、2−フルオロ−4−メチル−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)アニリン182gの酢酸100ml溶液を2時間かけて滴下し、20℃で3時間撹拌した。この反応混合物を、塩化スズ(II)2水和物390gと6N塩酸1000mlの混合溶液に5℃以下で滴下し、30分攪拌した。この反応混合物にトルエンを加え、10%水酸化ナトリウム水溶液で中和した。不溶物をロ別後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮して、2−フルオロ−4−メチル−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニルヒドラジン177gを得た。
(5)トリフルオロアセトアルデヒド {2−フルオロ−4−メチル−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル}ヒドラゾンの合成
2−フルオロ−4−メチル−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニルヒドラジン3.1g、トリフルオロアセトアルデヒドエチルヘミアセタール1.9g、メタンスルホン酸0.5g及びエタノール100mlの混合物を5時間加熱還流した。室温冷却後、減圧下濃縮し、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、トリフルオロアセトアルデヒド {2−フルオロ−4−メチル−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル}ヒドラゾン3.7gを得た。
(6)N−{2−フルオロ−4−メチル−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル}トリフルオロアセトヒドラゾノイルブロミドの合成
トリフルオロアセトアルデヒド {2−フルオロ−4−メチル−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル}ヒドラゾン3.7gをN,N−ジメチルホルムアミド50mlに溶解し、室温下、N−ブロモスクシイミド2.0gを加え、室温で30分攪拌した。反応混合物を水に注加し、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、N−{2−フルオロ−4−メチル−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル}トリフルオロアセトヒドラゾノイルブロミド4.4gを得た。
(7) [5−(5−アミノ−3−トリフルオロメチル−1,2,4−トリアゾリル)−4−フルオロ−2−メチルフェニル]2,2,2−トリフルオロエチルスルフィド
テトラヒドロフラン100mlにS−メチルイソチオ尿素ヨウ化水素塩4.5g、N−{2−フルオロ−4−メチル−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル}トリフルオロアセトヒドラゾノイルブロミド4.4g、トリエチルアミン3.5gを加え、8時間加熱還流した。室温冷却後、減圧下濃縮し、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、得られた個体をカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 酢酸エチル:ヘキサン=4:1)で精製し、淡黄色結晶(融点171〜173℃)の[5−(5−アミノ−3−トリフルオロメチル−1,2,4−トリアゾリル)−4−フルオロ−2−メチルフェニル]2,2,2−トリフルオロエチルスルフィド2.9gを得た。
(実施例)
[5−(5−アミノ−3−トリフルオロメチル−1,2,4−トリアゾリル)−4−フルオロ−2−メチルフェニル]2,2,2−トリフルオロエチルスルホキシド(本発明化合物番号2)の製造
[5−(5−アミノ−3−トリフルオロメチル−1,2,4−トリアゾリル)−4−フルオロ−2−メチルフェニル]2,2,2−トリフルオロエチルスルフィド1.9gをクロロホルム100mlに溶解し、0℃で、m−クロロ過安息香酸1.0gを加え、さらに1時間室温で攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 酢酸エチル:ヘキサン:トリエチルアミン=50:50:1)で精製し、淡黄色結晶(融点236〜238℃)の[5−(5−アミノ−3−トリフルオロメチル−1,2,4−トリアゾリル)−4−フルオロ−2−メチルフェニル]2,2,2−トリフルオロエチルスルホキシド1.8gを得た。
(参考例)
[5−(5−トリフルオロアセチルアミノ−3−トリフルオロメチル−1,2,4−トリアゾリル)−4−フルオロ−2−メチルフェニル]2,2,2−トリフルオロエチルスルフィド(化合物番号5)の製造
[5−(5−アミノ−3−トリフルオロメチル−1,2,4−トリアゾリル)−4−フルオロ−2−メチルフェニル]2,2,2−トリフルオロエチルスルフィド1.1gをトリフルオロ酢酸無水物50mlに加え、室温で12時間攪拌した。溶媒を減圧下留去し、得られた個体をカラムクロマトグラフィー(展開溶媒、酢酸エチル:ヘキサン=2:1)で精製し、淡黄色結晶(融点122〜125℃)の[5−(5−トリフルオロアセチルアミノ−3−トリフルオロメチル−1,2,4−トリアゾリル)−4−フルオロ−2−メチルフェニル]2,2,2−トリフルオロエチルスルフィド1.1gを得た。
(実施例)
[5−(5−アミノ−3−トリフルオロメチル−1,2,4−トリアゾリル)−4−フルオロ−2−メチルフェニル]2,2,2−トリフルオロエチルスルホキシド(本発明化合物番号6)の製造
[5−(5−トリフルオロアセチルアミノ−3−トリフルオロメチル−1,2,4−トリアゾリル)−4−フルオロ−2−メチルフェニル]2,2,2−トリフルオロエチルスルフィド0.8gをクロロホルム50mlに溶解し、0℃で、m−クロロ過安息香酸0.3gを加え、室温で1時間攪拌した。溶媒を減圧下留去し、得られた個体をカラムクロマトグラフィー(展開溶媒、酢酸エチル:ヘキサン=1:1)で精製し、淡黄色粉末(融点233〜237℃)の[5−(5−トリフルオロアセチルアミノ−3−トリフルオロメチル−1,2,4−トリアゾリル)−4−フルオロ−2−メチルフェニル]2,2,2−トリフルオロエチルスルホキシド0.6gを得た。
記例に準じて合成した化物の番号と物性値を、前記例を含め表7〜表10に示す。ただし、表中の記号は前記と同様の意味を表す。
尚、化合物番号は以後の記載において参照される。
Figure 0004970950
Figure 0004970950
Figure 0004970950
Figure 0004970950
化合物番号49、59,101、128、158,184、185、193、195、209については、H−NMRデータ(CDCl/TMS δ(ppm)値)を以下に示す。
化合物番号49:2.56(3H,s),3.40(2H,q),5.29(2H,s),7.21(1H,d),7,67(1H,d)
化合物番号59:1.22-1.28(3H,m), 2.55(3H,s), 3.40(2H,q),3.46-3.55(2H,m),4.12(1H,t),7.20(1H,d),7.63(1H,d)
化合物番号101:2.54(3H,s), 3.07(3H,d), 3.3.9(2H,q),4.25(1H,s),7.17(1H,d),7.61(1H,d)
化合物番号128:1.32(6H,t),2.50(3H,s),3.25(4H,q),3.44(2H,q),7.19(1H,s),7.75(1H,s)
化合物番号158:1.98(3H,s), 2.56(3H,s), 3.05(3H,s),3.36(2H,q),3.85(2H,q),7.16(1H,d),7.61(1H,d)
化合物番号184:2.29(1H,d), 2.53(3H,s), 3.39(2H,q),3.82(2H,q),4.20(2H,dd),4.34(1H,s),7.16(1H,d),7.61(1H,d)
化合物番号185:2,29(1H,t), 2.47(3H,s), 3.42-3.57(2H,m),3.83(2H,q),4.22(2H,d),
4.40(1H,s), 7.22(1H,s), 8.12(1H,s)
化合物番号193:2.30(1H,t), 2.55(3H,s), 3.40(2H,q),4.24(2H,q),4.40(1H,s),7.20(1H,d),7.63(1H,d)
化合物番号195:1.22-1.39(1H,m), 1.48-1.57(1H,m),2.06-2.14(1H,m),2.52(3H,s),
3.07(1H,dd), 3.29(1H,dd), 3.42,(2H,t), 4.75(2H,s), 7.16(1H,d), 7.65(1H,d)
化合物番号209:2.61(3H,s),3.42(2H,q),7.31(1H,d),7.74(1H,d)
次に、中間体の製造例を示す。
<中間体製造例1>
(1)5−アセチルチオ−2,4−ジメチルアセトアニリドの合成
2−フルオロ−4−メチルアセトアニリド78gをクロロスルホン酸168gに40℃以下で加え、さらに70℃で2時間撹拌した。反応混合物を氷水−酢酸エチルに注加し、有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、固体の残渣を得た。得られた固体の残渣を酢酸200mlに溶解し、この溶液を、赤リン72g、ヨウ素1g及び酢酸300mlの混合溶液に、加熱還流下、1時間で滴下し、さらに4時間加熱還流した。不溶物をロ別後、減圧下で酢酸を留去し、水を加え、残渣を酢酸エチルにて抽出し、水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、5−アセチルチオ−2,4−ジメチルアセトアニリド42gを得た。
(2)2−フルオロ−4−メチル−5−メルカプトアニリンの合成
5−アセチルチオ−2−フルオロ−4−メチルアセトアニリド42gを5%水酸化カリウム水溶液に加え、18時間加熱還流した。室温冷却後、希塩酸でpH7に調整し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去して2,4−ジメチル−5−メルカプトアニリン25gを得た。
(3)2,4−ジメチル−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)アニリンの合成
2,4−ジメチル−5−メルカプトアニリン20g及びN,N−ジメチルホルムアミド150mlの混合溶液に、ヨウ化2,2,2−トリフルオロエチル41g、炭酸カリウム24gを添加し、さらにロンガリット4gを加え、24時間室温で撹拌した。反応混合物を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=5:1)にて精製して、2,4−ジメチル−5−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)アニリン29gを得た。
H−NMRデータ(CDCl/TMS δ(ppm)値)
2.13(3H,s),3.34(3H,s),3.32(2H,q),3.52(2H,s),6.84(1H,s),6.91(1H,s)
次に、代表的な製剤例をあげて製剤方法を具体的に説明する。化合物、補助剤の種類及び配合比率は、これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能である。以下の説明において、「部」は「重量部」を示す。
製剤例1 乳剤
化合物番号6(30部)、シクロヘキサノン(20部)、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル(11部)、アルキルベンゼンスルホン酸カルシウム(4部)及びメチルナフタリン(35部)を均一に溶解して乳剤とした。
製剤例2 水和剤
化合物番号2(10部)、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩(0.5部)、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル(0.5部)、珪藻土(24部)及びクレー(65部)を均一に混合粉砕して水和剤とした。
製剤例3 粉剤
化合物番号6(2部)、珪藻土(5部)及びクレー(93部)を均一に混合粉砕して粉剤とした。
製剤例4 粒剤
化合物番号2(5部)、ラウリルアルコール硫酸エステルのナトリウム塩(2部)、リグニンスルホン酸ナトリウム(5部)、カルボキシメチルセルロース(2部)及びクレー(86部)を均一に混合粉砕した。この混合物(100部)に水(20部)を加えて練合し、押出式造粒機を用いて14〜32メッシュの粒状に加工したのち、乾燥して粒剤とした。
次に、表1〜表6に記載された化合物を有効成分とする有害生物防除剤の奏する効果について、試験例をもって説明する。尚、使用した比較薬剤a及びbは、特開2000−198768号公報明細書に例示された[VI-208]及び[VI-226]の化合物である。
Figure 0004970950
試験例1 ナミハダニ防除試験(浸漬処理)
製剤例2に準じて調製した水和剤を有効成分として500ppmの濃度に水で希釈した。その薬液に、予めナミハダニ成虫を接種しておいたダイズ苗を浸漬し、風乾した。処理後のダイズ苗は25℃の恒温室に置き、13日後に生存虫数を調査し、数2の計算式により防除価を求めた。試験は1連制にて行った。この試験における結果を表11及び表12に示す。
Figure 0004970950
Figure 0004970950
試験例2 ナミハダニ防除試験(土壌灌注処理)
製剤例2に準じて調製した水和剤を有効成分として100ppmの濃度に水で希釈した。その薬液に、予めナミハダニ成虫を接種しておいたダイズ苗カップの土壌100gに5ml潅注した。処理後のダイズ苗は25℃の恒温室に置き、13日後に生存虫数を調査し、数2の計算式により防除価を求めた。この試験における結果を表13及び表14に示す。
Figure 0004970950
Figure 0004970950
試験例3 トビイロウンカ殺虫試験
製剤例2に準じて調製した水和剤を有効成分として500ppmの濃度に水で希釈した。その薬液に、イネ芽だし籾を浸漬し、容量60mlのプラスティックカップに入れた。これにトビイロウンカ4齢幼虫を10頭放ち、蓋をして25℃の恒温室に置いた。6日後に生存虫数を数え、数1の計算式により死虫率を求めた。試験は1連制にて行った。この試験における結果を表15及び表16に示す。
Figure 0004970950
Figure 0004970950
試験例4
サツマイモネコブセンチュウ制線虫試験
表1〜表6に記載された化合物(5部)及び展着剤としてTween20(ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレートの商品名)(1部)をN,N−ジメチルホルムアミド(94部)に溶解し、表1〜表6に記載された化合物の5%乳剤を製造した。この乳剤に蒸留水を加え、表1〜表6に記載された化合物の濃度が20ppmとなるように希釈溶液を調整した。この希釈溶液0.5mlと、サツマイモネコブセンチュウ第二期幼虫100頭を含む水の懸濁液0.5mlとを混合し、25℃の恒温室に置いた。5日後に生存線虫数を数え、数3の計算式により制線虫活性を求めた。試験は2連制にて行った。この試験における結果を表17及び表18に示す。


Figure 0004970950
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Figure 0004970950
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本発明の3−トリアゾリルフェニルスルフィド誘導体は、種々の農園芸用の有害生物、特に、ハダニ類、鱗翅目害虫、半翅目害虫、鞘翅目害虫、線虫類に卓効を示し、さらに、安全で省力的施用方法を可能とする土壌処理活性を有する、殺虫・殺ダニ剤・殺線虫剤として広く使用できる。

なお、2004年10月20日に出願された日本特許出願2004−305251号の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims (7)

  1. 一般式[I]で表される3−トリアゾリルフェニルスルフィド誘導体:
    Figure 0004970950
    式中、Rはトリフルオロエチル基であり
    は1であり、
    は、C 〜C アルキル基(該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C 〜C アルキルチオ基(該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、又はC 〜C アルキルスルフィニル基(該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)であり、
    は、−NR 基、又は−N(COR )R 基であり 及びR は、互いに独立して、水素原子、又はC 〜C アルキル基(該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)であり、
    はハロゲン原子であり、
    4 はC 〜Cアルキル基でる。
  2. Rがトリフルオロエチル基であり、
    が1であり、
    がC〜Cアルキル基(該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C〜Cアルキルチオ基(該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、又はC〜Cアルキルスルフィニル基(該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)であり、
    アミノ基であり、
    がハロゲン原子であり、
    がC ルキル基である
    請求項1に記載の3−トリアゾリルフェニルスルフィド誘導体。
  3. がトリフルオロメチル基であり、
    がメチルアミノ基、トリフルオロアセチルアミノ基である
    請求項に記載の3−トリアゾリルフェニルスルフィド誘導体。
  4. がトリフルオロメチル基、トリフルオロメチルチオ基、又は2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル基であり、
    がアミノ基である請求項2に記載の3−トリアゾリルフェニルスルフィド誘導体。
  5. 請求項1乃至4のいずれかに記載の3−トリアゾリルフェニルスルフィド誘導体の製造中間体である一般式[I−a](式中、Rはトリフルオロエチル基であり、はハロゲン原子であり、BはC〜Cアルキル基である)で表されるアニリン誘導体。
    Figure 0004970950
  6. がメチル基である請求項に記載のアニリン誘導体。
  7. 請求項1乃至のいずれかに記載の3−トリアゾリルフェニルスルフィド誘導体を有効成分として含有することを特徴とする農園芸用殺虫・殺ダニ剤・殺線虫剤。
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