JP2022066392A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2022066392A5
JP2022066392A5 JP2022033068A JP2022033068A JP2022066392A5 JP 2022066392 A5 JP2022066392 A5 JP 2022066392A5 JP 2022033068 A JP2022033068 A JP 2022033068A JP 2022033068 A JP2022033068 A JP 2022033068A JP 2022066392 A5 JP2022066392 A5 JP 2022066392A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask assembly
pellicle frame
submount
patterning device
movement
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2022033068A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP7318040B2 (ja
JP2022066392A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2020127414A external-priority patent/JP7037606B2/ja
Application filed filed Critical
Publication of JP2022066392A publication Critical patent/JP2022066392A/ja
Publication of JP2022066392A5 publication Critical patent/JP2022066392A5/ja
Priority to JP2023117230A priority Critical patent/JP7509969B2/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7318040B2 publication Critical patent/JP7318040B2/ja
Priority to JP2024099760A priority patent/JP2024111212A/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2022033068A 2014-11-17 2022-03-04 マスクアセンブリ Active JP7318040B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2023117230A JP7509969B2 (ja) 2014-11-17 2023-07-19 マスクアセンブリ
JP2024099760A JP2024111212A (ja) 2014-11-17 2024-06-20 マスクアセンブリ

Applications Claiming Priority (13)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201462080561P 2014-11-17 2014-11-17
US62/080,561 2014-11-17
US201562108348P 2015-01-27 2015-01-27
US62/108,348 2015-01-27
US201562110841P 2015-02-02 2015-02-02
US62/110,841 2015-02-02
US201562126173P 2015-02-27 2015-02-27
US62/126,173 2015-02-27
US201562149176P 2015-04-17 2015-04-17
US62/149,176 2015-04-17
US201562183342P 2015-06-23 2015-06-23
US62/183,342 2015-06-23
JP2020127414A JP7037606B2 (ja) 2014-11-17 2020-07-28 マスクアセンブリ

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020127414A Division JP7037606B2 (ja) 2014-11-17 2020-07-28 マスクアセンブリ

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023117230A Division JP7509969B2 (ja) 2014-11-17 2023-07-19 マスクアセンブリ

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2022066392A JP2022066392A (ja) 2022-04-28
JP2022066392A5 true JP2022066392A5 (enExample) 2022-06-15
JP7318040B2 JP7318040B2 (ja) 2023-07-31

Family

ID=54542272

Family Applications (10)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017522010A Active JP6769954B2 (ja) 2014-11-17 2015-11-16 マスクアセンブリ
JP2017522491A Active JP6837433B2 (ja) 2014-11-17 2015-11-16 ペリクル取り付け装置及びペリクル取り付け方法
JP2019209301A Active JP6882431B2 (ja) 2014-11-17 2019-11-20 ペリクルフレーム取り付け装置及びペリクルアセンブリの取り付け方法
JP2020127414A Active JP7037606B2 (ja) 2014-11-17 2020-07-28 マスクアセンブリ
JP2021018959A Active JP7123206B2 (ja) 2014-11-17 2021-02-09 ペリクル取り付け装置及びペリクル取り付け方法
JP2022033068A Active JP7318040B2 (ja) 2014-11-17 2022-03-04 マスクアセンブリ
JP2022127298A Active JP7438287B2 (ja) 2014-11-17 2022-08-09 装置
JP2023117230A Active JP7509969B2 (ja) 2014-11-17 2023-07-19 マスクアセンブリ
JP2024019495A Active JP7689216B2 (ja) 2014-11-17 2024-02-13 スタッド取り付け装置及びスタッド取り付け方法
JP2024099760A Pending JP2024111212A (ja) 2014-11-17 2024-06-20 マスクアセンブリ

Family Applications Before (5)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017522010A Active JP6769954B2 (ja) 2014-11-17 2015-11-16 マスクアセンブリ
JP2017522491A Active JP6837433B2 (ja) 2014-11-17 2015-11-16 ペリクル取り付け装置及びペリクル取り付け方法
JP2019209301A Active JP6882431B2 (ja) 2014-11-17 2019-11-20 ペリクルフレーム取り付け装置及びペリクルアセンブリの取り付け方法
JP2020127414A Active JP7037606B2 (ja) 2014-11-17 2020-07-28 マスクアセンブリ
JP2021018959A Active JP7123206B2 (ja) 2014-11-17 2021-02-09 ペリクル取り付け装置及びペリクル取り付け方法

Family Applications After (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022127298A Active JP7438287B2 (ja) 2014-11-17 2022-08-09 装置
JP2023117230A Active JP7509969B2 (ja) 2014-11-17 2023-07-19 マスクアセンブリ
JP2024019495A Active JP7689216B2 (ja) 2014-11-17 2024-02-13 スタッド取り付け装置及びスタッド取り付け方法
JP2024099760A Pending JP2024111212A (ja) 2014-11-17 2024-06-20 マスクアセンブリ

Country Status (9)

Country Link
US (5) US10539886B2 (enExample)
EP (4) EP3221748B1 (enExample)
JP (10) JP6769954B2 (enExample)
KR (7) KR102634793B1 (enExample)
CN (5) CN117826520A (enExample)
CA (4) CA2968151C (enExample)
NL (2) NL2015795A (enExample)
TW (4) TWI724612B (enExample)
WO (2) WO2016079052A2 (enExample)

Families Citing this family (75)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10539886B2 (en) * 2014-11-17 2020-01-21 Asml Netherlands B.V. Pellicle attachment apparatus
US11036128B2 (en) * 2015-12-14 2021-06-15 Asml Netherlands B.V. Membrane assembly
KR102797693B1 (ko) 2015-12-14 2025-04-17 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. Euv 리소그래피용 멤브레인
KR102186010B1 (ko) * 2016-01-26 2020-12-04 한양대학교 산학협력단 Euv 펠리클 구조체, 및 그 제조 방법
KR102408195B1 (ko) 2016-04-25 2022-06-13 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. Euv 리소그래피를 위한 멤브레인
SG11201811618RA (en) * 2016-07-05 2019-01-30 Mitsui Chemicals Inc Pellicle film, pellicle frame, pellicle, method for producing same, original plate for light exposure, light exposure apparatus and method for manufacturing semiconductor device
KR102483397B1 (ko) * 2016-07-29 2022-12-29 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이. 멤브레인 조립체 및 입자 트랩
JP6607574B2 (ja) * 2016-08-24 2019-11-20 信越化学工業株式会社 ペリクルフレーム及びペリクル
KR101848153B1 (ko) * 2016-09-12 2018-05-29 한양대학교 산학협력단 마스크 보호 모듈, 이를 포함하는 펠리클, 및 이를 포함하는 리소그래피 장치
EP3584636A4 (en) 2017-02-17 2020-12-30 Mitsui Chemicals, Inc. PELLICLE, ORIGINAL EXPOSURE PLATE, EXPOSURE DEVICE, AND SEMICONDUCTORIAL COMPONENT MANUFACTURING METHOD
US11183410B2 (en) 2017-04-24 2021-11-23 Photronics, Inc. Pellicle removal tool
CN117348336A (zh) 2017-06-15 2024-01-05 Asml荷兰有限公司 表膜组件、制备表膜组件的方法、动态气锁及光刻设备
US11143952B2 (en) 2017-09-28 2021-10-12 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Pellicle removal method
KR102776334B1 (ko) * 2017-10-27 2025-03-07 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 펠리클 프레임 및 펠리클 조립체
US11106127B2 (en) 2017-11-08 2021-08-31 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Structure of pellicle-mask structure with vent structure
WO2019101517A1 (en) * 2017-11-21 2019-05-31 Asml Netherlands B.V. Porous graphitic pellicle
JP6921412B2 (ja) * 2018-01-25 2021-08-18 株式会社ブイ・テクノロジー ペリクルフレーム把持装置及びペリクルフレーム把持方法
PL3530511T3 (pl) * 2018-02-27 2020-11-16 Joseph Vögele AG Sposób rekonfiguracji układu operacyjnego dla maszyny budowlanej
EP3764161A4 (en) * 2018-03-05 2021-12-01 Mitsui Chemicals, Inc. PELLICLE, EXPOSURE MASTER, EXPOSURE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR COMPONENT
JP7019472B2 (ja) * 2018-03-22 2022-02-15 三井化学株式会社 カーボンナノチューブ自立膜の製造方法、およびペリクルの製造方法
JP7061494B2 (ja) * 2018-03-28 2022-04-28 三井化学株式会社 検査方法、ペリクルの製造方法、および検査装置
US12271108B2 (en) 2018-07-04 2025-04-08 Asml Netherlands B.V. Apparatus for positioning and clamped curing
CN108950475B (zh) * 2018-07-25 2020-11-10 京东方科技集团股份有限公司 张网结构、张网装置及张网方法
US11016383B2 (en) * 2018-08-31 2021-05-25 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Pellicle for an EUV lithography mask and a method of manufacturing thereof
WO2020064217A1 (en) 2018-09-28 2020-04-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic system and method
NL2024075B1 (en) 2018-11-16 2020-08-19 Asml Netherlands Bv A pellicle for euv lithography
US11137693B2 (en) * 2018-11-30 2021-10-05 Iucf-Hyu (Industry-University Cooperation Foundation Hanyang University) Pellicle holder, pellicle inspection apparatus, and pellicle inspection method
KR102243367B1 (ko) * 2018-11-30 2021-04-23 한양대학교 산학협력단 펠리클 홀더, 펠리클 검사 장치, 및 펠리클 검사 방법
CN113169047B (zh) * 2018-12-10 2024-09-10 应用材料公司 在极紫外线光刻应用中从光掩模去除附接特征
EP3671342B1 (en) * 2018-12-20 2021-03-17 IMEC vzw Induced stress for euv pellicle tensioning
KR102172722B1 (ko) 2018-12-26 2020-11-02 주식회사 에프에스티 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐
KR20200088528A (ko) 2019-01-14 2020-07-23 주식회사 에프에스티 펠리클 장착 시스템, 스터드 부착 장치, 펠리클 부착 장치 및 펠리클 부착 방법
KR20200088529A (ko) 2019-01-14 2020-07-23 주식회사 에프에스티 초극자외선 리소그라피용 펠리클 검사 시스템
NL2024985B1 (en) * 2019-02-28 2020-11-23 Asml Netherlands Bv Apparatus for assembly of a reticle assembly
US20220146948A1 (en) * 2019-03-13 2022-05-12 Asml Holding N.V. Electrostatic clamp for a lithographic apparatus
WO2020207774A1 (en) 2019-04-12 2020-10-15 Asml Netherlands B.V. Pellicle for euv lithography
KR102242356B1 (ko) * 2019-08-05 2021-04-20 주식회사 에프에스티 일체화된 프레임과 멤브레인을 포함하는 펠리클, 그 제조방법, 펠리클을 포함하는 노광장치 및 펠리클의 제조장치
KR102273266B1 (ko) * 2019-10-23 2021-07-06 주식회사 에프에스티 일체화된 프레임과 멤브레인을 포함하는 펠리클의 제조방법
US11448957B2 (en) * 2020-03-13 2022-09-20 Samsung Electronics Co., Ltd. Pellicle transfer apparatus and method
US12474632B2 (en) 2020-04-23 2025-11-18 Asml Netherlands B.V. Pellicle frame for EUV lithography
TWI760062B (zh) * 2020-05-14 2022-04-01 家登精密工業股份有限公司 提供有保持銷組件之光罩盒及固持光罩的方法
WO2021246187A1 (ja) * 2020-06-04 2021-12-09 信越化学工業株式会社 ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付露光原版、露光方法、半導体の製造方法及び液晶表示板の製造方法
CN216118382U (zh) * 2020-06-08 2022-03-22 信越化学工业株式会社 防护薄膜框架、防护薄膜及包括其的装置及系统
US11822230B2 (en) * 2020-07-24 2023-11-21 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. EUV pellicle and mounting method thereof on photo mask
CN115836248A (zh) * 2020-08-06 2023-03-21 三井化学株式会社 防护膜组件、曝光原版、曝光装置、防护膜组件的制造方法和半导体装置的制造方法
CN116018557A (zh) * 2020-08-24 2023-04-25 Asml荷兰有限公司 用于处理掩模版和表膜组件的设备和方法
US20230341764A1 (en) * 2020-09-17 2023-10-26 Lintec Of America, Inc. Nanofiber film tension control
KR20220043268A (ko) 2020-09-29 2022-04-05 삼성전자주식회사 온도/압력이 독립으로 제어되는 스터드 부착 장치 및 스터드 부착 방법
KR102668456B1 (ko) 2020-12-07 2024-05-23 주식회사 에프에스티 극자외선 리소그라피용 펠리클 프레임
KR102512243B1 (ko) 2020-12-16 2023-03-21 주식회사 에프에스티 극자외선 리소그라피용 다공성 펠리클 프레임
WO2022128593A1 (en) * 2020-12-17 2022-06-23 mi2-factory GmbH Energy filter assembly for ion implantation system with at least one coupling element
KR102581084B1 (ko) 2021-02-04 2023-09-21 주식회사 에프에스티 극자외선 리소그라피용 펠리클 프레임
KR102279897B1 (ko) 2021-02-18 2021-07-21 주식회사 에프에스티 다액형 경화성 조성물의 도포 방법
KR102581086B1 (ko) 2021-03-16 2023-09-21 주식회사 에프에스티 극자외선 리소그라피용 펠리클 막
KR20220148472A (ko) * 2021-04-29 2022-11-07 주식회사 에프에스티 펠리클 조립체
KR102624936B1 (ko) 2021-05-21 2024-01-15 주식회사 에프에스티 극자외선 리소그라피용 펠리클 프레임 및 극자외선 리소그라피용 펠리클 프레임용 실링재
KR102662985B1 (ko) * 2021-06-30 2024-05-03 주식회사 에프에스티 펠리클 조립체
JP7448730B2 (ja) 2021-08-26 2024-03-12 三井化学株式会社 ペリクル膜、ペリクル、露光原版、露光装置、及びペリクル膜の製造方法
KR102691250B1 (ko) 2021-09-14 2024-08-05 주식회사 에프에스티 극자외선 리소그라피용 펠리클 프레임 및 그 제조방법
WO2023110313A1 (en) 2021-12-17 2023-06-22 Asml Netherlands B.V. Method and system for preventing degradation of a material of an optical component for euv-lithography
JPWO2023182186A1 (enExample) * 2022-03-23 2023-09-28
CA3247367A1 (en) 2022-04-05 2023-10-12 Asml Netherlands Bv EUV LITHOGRAPH FILM
EP4273626A1 (en) 2022-05-04 2023-11-08 ASML Netherlands B.V. Device and method for measuring contamination and lithographic apparatus provided with said device
CN115032860A (zh) * 2022-06-08 2022-09-09 豪威集成电路(成都)有限公司 光罩及半导体晶圆的制造方法
JP2025530104A (ja) * 2022-09-12 2025-09-11 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. リソグラフィ装置で使用するためのペリクル及びペリクルを形成する方法
EP4336258A1 (en) * 2022-09-12 2024-03-13 ASML Netherlands B.V. Pellicle and methods for forming pellicle for use in a lithographic apparatus
KR102690337B1 (ko) * 2022-12-19 2024-08-05 주식회사 에프에스티 3d 탄성 픽스쳐를 포함하는 펠리클 마운팅 어셈블리 및 이를 이용한 펠리클 마운팅 방법과 이를 이용한 펠리클 디 마운팅 방법, 이를 포함한 euv 노광 장치
WO2024183988A1 (en) 2023-03-06 2024-09-12 Asml Netherlands B.V. System for supporting a pellicle in a lithographic apparatus, allowing for pressure increase in a region between the pellicle and a patterning device
CN116609958B (zh) * 2023-05-17 2025-09-19 安徽晶海纳光电科技有限公司 一种化学气相沉积工艺用的扩散板整形装置及整形方法
US12399440B2 (en) * 2023-06-02 2025-08-26 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Lithography system and methods
KR102834398B1 (ko) * 2023-07-28 2025-07-15 주식회사 에프에스티 교체형 멤브레인을 포함하는 euv 펠리클, 이를 포함하는 euv 노광 장치 및 euv 펠리클에서 멤브레인의 마운팅 및 디마운팅 방법
KR102687699B1 (ko) * 2023-08-18 2024-07-24 주식회사 에프에스티 응력 완충구조를 구비하는 euv 펠리클의 마운팅 블록, 마운팅 블록을 포함하는 euv 펠리클 구조체, euv 펠리클 구조체를 포함하는 euv 노광 장치 및 euv 펠리클의 마운팅 및 디마운팅 방법
KR102877472B1 (ko) * 2023-09-26 2025-10-29 주식회사 에프에스티 Euv 펠리클의 디마운팅 장치 및 이를 이용한 euv 펠리클의 디마운팅 방법
US20250102903A1 (en) * 2023-09-27 2025-03-27 Intel Corporation Euv mask and pellicle assembly
TW202530851A (zh) 2024-01-17 2025-08-01 韓商S&S技術股份有限公司 光罩安裝護膜用之框組件

Family Cites Families (117)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52136390A (en) 1976-05-11 1977-11-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd Resistance compound
JPH0619547B2 (ja) * 1984-07-05 1994-03-16 株式会社ニコン マスク保護装置
JPS61245163A (ja) 1985-04-23 1986-10-31 Nippon Kogaku Kk <Nikon> マスク保護装置
US4833051A (en) 1984-08-20 1989-05-23 Nippon Kogaku K.K. Protective device for photographic masks
JPS6344824Y2 (enExample) 1985-02-28 1988-11-21
JPH0123137Y2 (enExample) * 1985-04-05 1989-07-17
JPS6323704Y2 (enExample) * 1985-05-30 1988-06-29
JPS63220143A (ja) * 1987-03-09 1988-09-13 Seiko Epson Corp フオトマスク
JPH0324547A (ja) * 1989-06-22 1991-02-01 Oki Electric Ind Co Ltd マスク保護用ペリクル
JPH0342153U (enExample) * 1989-08-31 1991-04-22
JPH05188583A (ja) * 1992-01-17 1993-07-30 Fujitsu Ltd ペリクル
JP3390882B2 (ja) * 1994-03-17 2003-03-31 富士通株式会社 露光レチクル用ペリクル及びその貼り付け方法及びその貼り付け装置
US5576125A (en) 1995-07-27 1996-11-19 Micro Lithography, Inc. Method for making an optical pellicle
JPH09204039A (ja) 1996-01-25 1997-08-05 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクル枠保持具
KR19990051659A (ko) * 1997-12-19 1999-07-05 정몽규 타이어 변형 경고 장치
JPH11194481A (ja) 1997-12-26 1999-07-21 Oki Electric Ind Co Ltd ペリクル装着構造
JP4006659B2 (ja) 1998-01-14 2007-11-14 沖電気工業株式会社 ペリクルの取付構造
JPH11258779A (ja) * 1998-03-13 1999-09-24 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクルライナー貼り合わせ装置及び方法
US5976307A (en) * 1998-03-13 1999-11-02 Dupont Photomasks, Inc. Method and apparatus for removing a pellicle frame from a photomask plate
JPH11295880A (ja) 1998-04-07 1999-10-29 Seiko Epson Corp ペリクルフレーム
DE19936308A1 (de) * 1998-09-09 2000-03-16 Alkor Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von zwei- oder mehrfarbigen Folien, Schalttafelfolien, Armaturenbrettfolien
US6197454B1 (en) 1998-12-29 2001-03-06 Intel Corporation Clean-enclosure window to protect photolithographic mask
JP3601996B2 (ja) 1999-03-05 2004-12-15 信越化学工業株式会社 ペリクル粘着層保護用ライナーおよびこれを具備するペリクル
US6192100B1 (en) 1999-06-18 2001-02-20 International Business Machines Corporation X-ray mask pellicles and their attachment in semiconductor manufacturing
JP2001117213A (ja) 1999-08-10 2001-04-27 Nikon Corp フォトマスク、該フォトマスクの製造方法、該フォトマスクを扱う投影露光装置、及び投影露光方法
US6239863B1 (en) 1999-10-08 2001-05-29 Silicon Valley Group, Inc. Removable cover for protecting a reticle, system including and method of using the same
US6492067B1 (en) * 1999-12-03 2002-12-10 Euv Llc Removable pellicle for lithographic mask protection and handling
JP4380910B2 (ja) * 2000-12-14 2009-12-09 信越化学工業株式会社 ペリクル
JP2002182373A (ja) * 2000-12-18 2002-06-26 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクル及びその製造方法及びフォトマスク
US6524754B2 (en) 2001-01-22 2003-02-25 Photronics, Inc. Fused silica pellicle
US6911283B1 (en) 2001-02-07 2005-06-28 Dupont Photomasks, Inc. Method and apparatus for coupling a pellicle to a photomask using a non-distorting mechanism
DE60219844T2 (de) 2001-03-01 2008-01-17 Asml Netherlands B.V. Verfahren zur Übernahme einer lithographischen Maske
US6894766B1 (en) * 2001-03-27 2005-05-17 Dupont Photomasks, Inc. Method for constructing a photomask assembly using an encoded mark
US6734445B2 (en) 2001-04-23 2004-05-11 Intel Corporation Mechanized retractable pellicles and methods of use
US6566018B2 (en) * 2001-04-23 2003-05-20 Intel Corporation Dual-member pellicle assemblies and methods of use
US6573980B2 (en) * 2001-07-26 2003-06-03 Micro Lithography, Inc. Removable optical pellicle
JP2003059801A (ja) * 2001-08-14 2003-02-28 Canon Inc 露光装置及び露光方法
US6646720B2 (en) 2001-09-21 2003-11-11 Intel Corporation Euv reticle carrier with removable pellicle
DE10253928A1 (de) * 2001-11-21 2003-06-18 Asahi Glass Co Ltd Struktur zum Anbringen eines Häutchens an einer Photomaske
JP2003156836A (ja) * 2001-11-21 2003-05-30 Sony Corp フォトマスク構造体、露光方法及び露光装置
US6906783B2 (en) 2002-02-22 2005-06-14 Asml Holding N.V. System for using a two part cover for protecting a reticle
JP2003307832A (ja) * 2002-04-16 2003-10-31 Asahi Glass Co Ltd ペリクル及びペリクル装着フォトマスク
JP2004012597A (ja) * 2002-06-04 2004-01-15 Asahi Glass Co Ltd ペリクル
KR20040005355A (ko) * 2002-07-10 2004-01-16 주식회사 하이닉스반도체 펠리클 분리형 프레임구조
US7094505B2 (en) 2002-10-29 2006-08-22 Toppan Photomasks, Inc. Photomask assembly and method for protecting the same from contaminants generated during a lithography process
JP2004153122A (ja) * 2002-10-31 2004-05-27 Nikon Corp 露光装置
JP4027214B2 (ja) * 2002-11-28 2007-12-26 キヤノン株式会社 搬送装置、デバイス製造装置、搬送方法およびデバイス製造方法
US6912043B2 (en) 2003-01-09 2005-06-28 Asml Holding, N.V. Removable reticle window and support frame using magnetic force
JP2004240221A (ja) 2003-02-06 2004-08-26 Semiconductor Leading Edge Technologies Inc フォトマスク、ペリクル装脱着装置及び基板処理装置
CN101614731A (zh) * 2003-03-28 2009-12-30 英格朗公司 用于分拣颗粒和提供性别分拣的动物精子的设备、方法和程序
JP4330377B2 (ja) * 2003-05-15 2009-09-16 旭化成イーマテリアルズ株式会社 大型ペリクルの組立方法及び大型ペリクルの組立装置
KR20050003293A (ko) * 2003-06-30 2005-01-10 주식회사 하이닉스반도체 반도체 소자 제조용 포토 마스크
JP2005070191A (ja) 2003-08-21 2005-03-17 Asahi Glass Co Ltd フレームとペリクル板の貼り合せ装置
US7316869B2 (en) * 2003-08-26 2008-01-08 Intel Corporation Mounting a pellicle to a frame
US7264853B2 (en) * 2003-08-26 2007-09-04 Intel Corporation Attaching a pellicle frame to a reticle
JP2007510937A (ja) * 2003-10-06 2007-04-26 トッパン、フォウタマスクス、インク フォトマスク上にペリクル・アセンブリを自動的に装着するシステムおよび方法。
JP2005195992A (ja) 2004-01-09 2005-07-21 Asahi Glass Co Ltd ペリクル装着治具、ペリクル装着方法及びペリクル装着構造並びにペリクル
JP4396354B2 (ja) * 2004-03-30 2010-01-13 凸版印刷株式会社 フォトマスク
JP2005308901A (ja) * 2004-04-19 2005-11-04 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクルフレーム及びそれを用いたフォトリソグラフィー用ペリクル
US7110195B2 (en) * 2004-04-28 2006-09-19 International Business Machines Corporation Monolithic hard pellicle
JP2006003620A (ja) 2004-06-17 2006-01-05 Asahi Glass Co Ltd ペリクル
CN200996043Y (zh) * 2004-07-16 2007-12-26 应用材料公司 一种屏蔽框架组件
US8721952B2 (en) * 2004-11-16 2014-05-13 International Business Machines Corporation Pneumatic method and apparatus for nano imprint lithography having a conforming mask
WO2006113859A2 (en) 2005-04-20 2006-10-26 Yazaki Corporation Photomask assembly incorporating a metal/scavenger pellicle frame
JP4880941B2 (ja) 2005-08-02 2012-02-22 株式会社日立ハイテクノロジーズ 真空搬送装置およびこれを備えた荷電粒子線検査装置
KR101422298B1 (ko) * 2006-09-08 2014-08-13 가부시키가이샤 니콘 마스크, 노광 장치, 노광 방법 및 그 노광 장치 또는 노광 방법을 이용한 디바이스 제조 방법
US7799486B2 (en) * 2006-11-21 2010-09-21 Infineon Technologies Ag Lithography masks and methods of manufacture thereof
US8323855B2 (en) * 2007-03-01 2012-12-04 Nikon Corporation Pellicle frame apparatus, mask, exposing method, exposure apparatus, and device fabricating method
JP2008242346A (ja) * 2007-03-29 2008-10-09 Omron Corp レーザ転写装置の転写ヘッド
US8139199B2 (en) * 2007-04-02 2012-03-20 Nikon Corporation Exposure method, exposure apparatus, light converging pattern formation member, mask, and device manufacturing method
US8018578B2 (en) * 2007-04-19 2011-09-13 Asml Netherlands B.V. Pellicle, lithographic apparatus and device manufacturing method
CN101689018B (zh) * 2007-07-06 2013-03-20 旭化成电子材料株式会社 大型表膜构件的框体及该框体的把持方法
US7829248B2 (en) * 2007-07-24 2010-11-09 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Pellicle stress relief
KR101357305B1 (ko) 2007-08-29 2014-01-28 삼성전자주식회사 펠리클 부착 장치 및 이를 이용한 펠리클 부착 방법
CN101241319B (zh) * 2008-03-06 2010-08-25 上海微电子装备有限公司 具有对准标记体系的机器视觉对准系统及其对准方法
KR20090101671A (ko) * 2008-03-24 2009-09-29 삼성전자주식회사 반도체 공정 마스크의 유지보수 방법
JP4928494B2 (ja) * 2008-05-02 2012-05-09 信越化学工業株式会社 ペリクルおよびペリクルの製造方法
JP5382412B2 (ja) 2008-10-24 2014-01-08 株式会社ブイ・テクノロジー 露光装置及びフォトマスク
JP5489499B2 (ja) 2009-03-18 2014-05-14 オリンパス株式会社 薄膜の貼り付け方法、およびそれにより製造されたペリクル光学素子
JP2010261987A (ja) 2009-04-30 2010-11-18 Shin-Etsu Chemical Co Ltd フォトマスク
US8349525B2 (en) 2009-06-18 2013-01-08 Nikon Corporation Protective apparatus, mask, mask fabricating method and conveying apparatus, and exposure apparatus
JP5600921B2 (ja) 2009-10-19 2014-10-08 凸版印刷株式会社 ペリクル貼付装置
JP5610380B2 (ja) * 2009-12-28 2014-10-22 レーザーテック株式会社 ペリクル装着装置、ペリクル装着方法、及びパターン基板の製造方法
KR20110077976A (ko) * 2009-12-30 2011-07-07 주식회사 하이닉스반도체 포토마스크와 펠리클 부착장치 및 이를 이용한 부착방법
KR101143628B1 (ko) 2010-01-07 2012-06-28 에스케이하이닉스 주식회사 펠리클, 펠리클을 포함하는 포토마스크, 포토마스크의 제조방법
JP2011158585A (ja) 2010-01-29 2011-08-18 Shin-Etsu Chemical Co Ltd ペリクルおよびペリクルの製造方法
EP2365390A3 (en) * 2010-03-12 2017-10-04 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method
JP5189614B2 (ja) * 2010-03-29 2013-04-24 信越化学工業株式会社 ペリクル及びその取り付け方法、並びにペリクル付マスク及びマスク
NL2006556A (en) * 2010-05-13 2011-11-15 Asml Holding Nv Optical system, inspection system and manufacturing method.
JP5886279B2 (ja) * 2010-06-25 2016-03-16 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. リソグラフィ装置およびリソグラフィ方法
JP5668346B2 (ja) * 2010-07-14 2015-02-12 凸版印刷株式会社 ペリクルのフォトマスクへの取り付け構造
JP5843307B2 (ja) * 2010-10-28 2016-01-13 信越化学工業株式会社 帯電防止性粘着剤
US8681310B2 (en) * 2010-12-02 2014-03-25 Globalfoundries Inc. Mechanical fixture of pellicle to lithographic photomask
EP2490073B1 (en) * 2011-02-18 2015-09-23 ASML Netherlands BV Substrate holder, lithographic apparatus, and method of manufacturing a substrate holder
JP5663376B2 (ja) * 2011-04-04 2015-02-04 信越化学工業株式会社 ペリクルフレーム、その製造方法、及びペリクル
NL2008695A (en) 2011-05-25 2012-11-27 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus comprising substrate table.
WO2012172642A1 (ja) 2011-06-14 2012-12-20 松下精機株式会社 ペリクル貼付装置
NL2008806A (en) 2011-07-22 2013-01-24 Asml Holding Nv Lithographic apparatus and device manufacturing method.
US8586267B2 (en) 2011-09-12 2013-11-19 Samsung Austin Semiconductor, L.P. Removable transparent membrane for a pellicle
NL2009284A (en) * 2011-09-22 2013-10-31 Asml Netherlands Bv A cleaning substrate for a lithography apparatus, a cleaning method for a lithography apparatus and a lithography apparatus.
JP2013109126A (ja) * 2011-11-21 2013-06-06 Toshiba Corp ペリクルの製造方法、フォトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法
US9360772B2 (en) * 2011-12-29 2016-06-07 Nikon Corporation Carrier method, exposure method, carrier system and exposure apparatus, and device manufacturing method
US20130250260A1 (en) * 2012-03-23 2013-09-26 Globalfoundries Inc. Pellicles for use during euv photolithography processes
KR101317206B1 (ko) 2012-07-24 2013-10-10 민경준 페리클 자동 접착 장치
CN202794840U (zh) * 2012-10-11 2013-03-13 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 用于光掩膜版的防尘保护装置
JP5854511B2 (ja) 2012-10-16 2016-02-09 信越化学工業株式会社 ペリクルおよびペリクルの貼付け方法
US8968971B2 (en) * 2013-03-08 2015-03-03 Micro Lithography, Inc. Pellicles with reduced particulates
WO2014154452A1 (en) * 2013-03-27 2014-10-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus
JP6008784B2 (ja) * 2013-04-15 2016-10-19 信越化学工業株式会社 ペリクルフレーム及びその製作方法とペリクル
JP5984187B2 (ja) * 2013-04-22 2016-09-06 信越化学工業株式会社 ペリクルとフォトマスクのアセンブリ
JP6303286B2 (ja) 2013-04-30 2018-04-04 凸版印刷株式会社 ペリクル付きフォトマスクの検査方法及びペリクル粘着耐久性検査装置
CN103246157A (zh) * 2013-05-21 2013-08-14 上海和辉光电有限公司 防尘薄膜框架、光学掩膜版及其安装方法
CN203422554U (zh) * 2013-08-01 2014-02-05 上海凸版光掩模有限公司 一种光掩模板贴膜装置
CN203650297U (zh) * 2013-10-25 2014-06-18 常州市佳和工具有限公司 轴承夹具
JP2015138128A (ja) 2014-01-22 2015-07-30 凸版印刷株式会社 ペリクルフレーム除去方法及びペリクルフレーム除去装置
WO2015182483A1 (ja) 2014-05-27 2015-12-03 三井化学株式会社 ペリクル製造装置
US10539886B2 (en) * 2014-11-17 2020-01-21 Asml Netherlands B.V. Pellicle attachment apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2022066392A5 (enExample)
WO2010128597A1 (ja) 振動制御装置、振動制御方法、露光装置、及びデバイス製造方法
JP2007515799A5 (enExample)
JPS63159837A (ja) 照明装置
SG126907A1 (en) Light patterning device using tilting mirrors in asuperpixel form
JPH11287936A5 (enExample)
JP2003227986A5 (enExample)
JP2020122223A5 (ja) 基板支持装置および成膜装置
TW200515105A (en) Safety mechanism for a lithographic patterning device
JP2005243904A5 (enExample)
WO2014139787A1 (en) Arrangement for the actuation of at least one element in an optical system
JP6625120B2 (ja) セラミックコンポーネント間の圧力嵌め接続用の接続機構
JP2020173465A5 (ja) 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法
US10914937B2 (en) Pivot apparatus for a micromirror, and illumination apparatus having a pivot apparatus for a micromirror
JP5428375B2 (ja) 保持装置、光学系、露光装置及びデバイスの製造方法
JP6772462B2 (ja) 物体位置決め方法及び物体位置決め装置、並びに、デバイス製造方法及びデバイス製造装置
KR102211467B1 (ko) 광학 모듈
TWI837434B (zh) 照明光學系統、曝光裝置、及物品製造方法
KR20100133474A (ko) 광학 개구 장치
KR101899781B1 (ko) 노광장치
JP7075302B2 (ja) 光学装置、投影光学系、露光装置、および物品の製造方法
JP2006019510A5 (enExample)
TWI829972B (zh) 照明光學系統、曝光裝置以及物品製造方法
JPH11338162A (ja) 露光装置
TWI841580B (zh) 照明光學系統、曝光裝置及物品製造方法