JPH11295880A - ペリクルフレーム - Google Patents
ペリクルフレームInfo
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- JPH11295880A JPH11295880A JP9492498A JP9492498A JPH11295880A JP H11295880 A JPH11295880 A JP H11295880A JP 9492498 A JP9492498 A JP 9492498A JP 9492498 A JP9492498 A JP 9492498A JP H11295880 A JPH11295880 A JP H11295880A
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- photomask
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- pellicle frame
- frames
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
Abstract
(57)【要約】
【課題】半導体装置を製造するフォトリソ工程に使用す
るフォトマスクに貼付するペリクルのペリクルフレーム
に関する。フォトマスクに脱着が容易なペリクルフレー
ムを提供する。 【解決手段】フォトマスク１１とペリクル１２は、フォ
トマスク側ペリクルフレーム１３とペリクル側ペリクル
フレーム１４を接続することで、フォトマスク１１への
ペリクル１２の装着を完了するが、このフォトマスク側
ペリクルフレーム１３並びにペリクル側ペリクルフレー
ム１４には、それぞれ磁石１５、１６が備えられてお
り、各ペリクルフレーム１３、１４の接着あるいは剥離
が容易にできるようになっている。 【効果】フォトマスクのペリクルの脱着を容易にする。
るフォトマスクに貼付するペリクルのペリクルフレーム
に関する。フォトマスクに脱着が容易なペリクルフレー
ムを提供する。 【解決手段】フォトマスク１１とペリクル１２は、フォ
トマスク側ペリクルフレーム１３とペリクル側ペリクル
フレーム１４を接続することで、フォトマスク１１への
ペリクル１２の装着を完了するが、このフォトマスク側
ペリクルフレーム１３並びにペリクル側ペリクルフレー
ム１４には、それぞれ磁石１５、１６が備えられてお
り、各ペリクルフレーム１３、１４の接着あるいは剥離
が容易にできるようになっている。 【効果】フォトマスクのペリクルの脱着を容易にする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置を製造
するフォトリソ工程に使用するフォトマスクに貼付する
ペリクルのペリクルフレームに関する。
するフォトリソ工程に使用するフォトマスクに貼付する
ペリクルのペリクルフレームに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体装置を製造するフォトリソ
工程に使用されるフォトマスクには、異物の転写を防止
する為に、ペリクルを貼付するようになってきている。
工程に使用されるフォトマスクには、異物の転写を防止
する為に、ペリクルを貼付するようになってきている。
【０００３】一方、このペリクルは次の様な状況下で、
貼替えを要することがある。すなわち、ペリクルの寿命
は、必ずしも永久的ではなく、露光波長が短波長である
場合や、単一波長でない場合は、繰返し露光されること
で、ペリクル膜が劣化あるいは白濁し、透過率がしだい
に劣化し、必要な透過率を下回った場合には、貼替えが
必要となる。
貼替えを要することがある。すなわち、ペリクルの寿命
は、必ずしも永久的ではなく、露光波長が短波長である
場合や、単一波長でない場合は、繰返し露光されること
で、ペリクル膜が劣化あるいは白濁し、透過率がしだい
に劣化し、必要な透過率を下回った場合には、貼替えが
必要となる。
【０００４】あるいは、ペリクル貼付後に、ペリクルと
フォトマスクの間に、転写する大きさの異物が発見され
た場合や、ペリクル上に、除去できない異物が付着した
場合には、やはり貼替えが必要である。
フォトマスクの間に、転写する大きさの異物が発見され
た場合や、ペリクル上に、除去できない異物が付着した
場合には、やはり貼替えが必要である。
【０００５】また、取扱いの不備により、ペリクルを損
傷したり、破損した場合にも、貼替えが必要になる。
傷したり、破損した場合にも、貼替えが必要になる。
【０００６】これら、貼替えに際し、できるだけペリク
ルの脱着がし易いように、さまざまな工夫がなされてき
ている。
ルの脱着がし易いように、さまざまな工夫がなされてき
ている。
【０００７】例えば、特開平０３−２６３０４６号公報
では、ペリクルフレームを上下２分割し、連結部分にそ
れぞれ凹凸の溝を切り、ペリクル側のフレームと、フォ
トマスク側のフレームを連結することでフォトマスクに
ペリクルを装着できるようにし、同時にペリクルの剥離
を容易にしている。図３は、この一実施の形態を示すペ
リクル並びにペリクルフレームのフォトマスク接着部を
拡大した断面図である。ここで、フォトマスク側ペリク
ルフレーム３３とペリクル側ペリクルフレーム３４を接
着することで、フォトマスク３１へのペリクル３２が装
着されるが、フォトマスク側ペリクルフレーム３３及び
ペリクル側ペリクルフレーム３４には、それぞれ凹型、
凸型の溝が切ってあり、凹型の溝へ凸部を挿入すること
で、接着剤を使用することなく容易に各ペリクルフレー
ム３３、３４が結合できる。
では、ペリクルフレームを上下２分割し、連結部分にそ
れぞれ凹凸の溝を切り、ペリクル側のフレームと、フォ
トマスク側のフレームを連結することでフォトマスクに
ペリクルを装着できるようにし、同時にペリクルの剥離
を容易にしている。図３は、この一実施の形態を示すペ
リクル並びにペリクルフレームのフォトマスク接着部を
拡大した断面図である。ここで、フォトマスク側ペリク
ルフレーム３３とペリクル側ペリクルフレーム３４を接
着することで、フォトマスク３１へのペリクル３２が装
着されるが、フォトマスク側ペリクルフレーム３３及び
ペリクル側ペリクルフレーム３４には、それぞれ凹型、
凸型の溝が切ってあり、凹型の溝へ凸部を挿入すること
で、接着剤を使用することなく容易に各ペリクルフレー
ム３３、３４が結合できる。
【０００８】また、特開平０５−２１６２１４号公報で
は、フォトマスクの両面の２つのペリクルフレームでフ
ォトマスクを挟み込むと同時に、フレーム同士をピンで
止めることで、フォトマスクへのペリクルの装着を実現
し、同時に剥離のし易さを図っている。図４は、この一
実施の形態を示すペリクル並びにペリクルフレームとフ
ォトマスクの断面図である。ここで、フォトマスク４１
へは、上側ペリクル４２と下側ペリクル４３で挟み込む
ように装着されるが、上側ペリクル４２と上側ペリクル
フレーム４４、この上側ペリクルフレーム４４と下側ペ
リクルフレーム４５、及びこの下側ペリクルフレーム４
５と下側ペリクル４３はそれぞれピン接合部４６にて接
続され、各々はピン接合部４６の分離、分解により容易
に解離できる。
は、フォトマスクの両面の２つのペリクルフレームでフ
ォトマスクを挟み込むと同時に、フレーム同士をピンで
止めることで、フォトマスクへのペリクルの装着を実現
し、同時に剥離のし易さを図っている。図４は、この一
実施の形態を示すペリクル並びにペリクルフレームとフ
ォトマスクの断面図である。ここで、フォトマスク４１
へは、上側ペリクル４２と下側ペリクル４３で挟み込む
ように装着されるが、上側ペリクル４２と上側ペリクル
フレーム４４、この上側ペリクルフレーム４４と下側ペ
リクルフレーム４５、及びこの下側ペリクルフレーム４
５と下側ペリクル４３はそれぞれピン接合部４６にて接
続され、各々はピン接合部４６の分離、分解により容易
に解離できる。
【０００９】あるいは、特開平０５−２２６４号公報で
は、フォトマスクに接地するペリクルフレームの面に溝
を切り、この溝に連絡する開口部を設け、ペリクルを剥
離する際には、この開口部から剥離剤を注入し、剥離性
を高めている。図５は、この一実施の形態を示すペリク
ルのペリクルフレーム接着部の拡大断面図である。ここ
で、ペリクル側ペリクルフレーム５２のフォトマスク
（図示しない）への接合面には、溝部５３があり、フォ
トマスクからの剥離の際には、ペリクル側ペリクルフレ
ーム５２の外側側壁に設けられた溝部５３に通じる開口
部５４より、剥離液（図示しない）を注入し、剥離を容
易にするものである。
は、フォトマスクに接地するペリクルフレームの面に溝
を切り、この溝に連絡する開口部を設け、ペリクルを剥
離する際には、この開口部から剥離剤を注入し、剥離性
を高めている。図５は、この一実施の形態を示すペリク
ルのペリクルフレーム接着部の拡大断面図である。ここ
で、ペリクル側ペリクルフレーム５２のフォトマスク
（図示しない）への接合面には、溝部５３があり、フォ
トマスクからの剥離の際には、ペリクル側ペリクルフレ
ーム５２の外側側壁に設けられた溝部５３に通じる開口
部５４より、剥離液（図示しない）を注入し、剥離を容
易にするものである。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のペリクルフレームでは、それぞれ次のような問題点
を有していた。
来のペリクルフレームでは、それぞれ次のような問題点
を有していた。
【００１１】すなわち、特開平０３−２６３０４６号公
報では、凹型の溝に異物が侵入し易く、ペリクル装着時
の圧力で、この凹型の溝に入った異物が、飛び出し、フ
ォトマスクのパターン面に再付着するという不具合があ
った。また、外部から凹部に新たな異物が侵入しない場
合でも、凹部の加工は難しく、加工中に凹部に侵入した
異物を洗浄、除去することは困難であった。
報では、凹型の溝に異物が侵入し易く、ペリクル装着時
の圧力で、この凹型の溝に入った異物が、飛び出し、フ
ォトマスクのパターン面に再付着するという不具合があ
った。また、外部から凹部に新たな異物が侵入しない場
合でも、凹部の加工は難しく、加工中に凹部に侵入した
異物を洗浄、除去することは困難であった。
【００１２】一方、特開平０５−２１６２１４号公報で
は、ペリクルフレームが装着されたフォトマスクが大き
くなり、それにつれて、露光装置が大型化するという不
具合がある。また、フォトマスクの片面のみにペリクル
を装着する場合には適用できない。
は、ペリクルフレームが装着されたフォトマスクが大き
くなり、それにつれて、露光装置が大型化するという不
具合がある。また、フォトマスクの片面のみにペリクル
を装着する場合には適用できない。
【００１３】また、特開平０５−２２６４号公報では、
剥離したペリクルは、剥離剤が付着するため、再利用が
できないという問題を有していた。
剥離したペリクルは、剥離剤が付着するため、再利用が
できないという問題を有していた。
【００１４】そこで、本発明は、これら不具合を解決す
るものであり、フォトマスクへのペリクル、あるいはペ
リクルフレームの脱着を容易にし、かつその際の異物の
取り込みを解消し、同時にフォトマスク並びに露光装置
の無益な大型化を回避し、剥離した使用可能なペリクル
を再利用可能とするペリクルフレームの提供を目的とす
る。
るものであり、フォトマスクへのペリクル、あるいはペ
リクルフレームの脱着を容易にし、かつその際の異物の
取り込みを解消し、同時にフォトマスク並びに露光装置
の無益な大型化を回避し、剥離した使用可能なペリクル
を再利用可能とするペリクルフレームの提供を目的とす
る。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１記載の
ペリクルフレームは、フォトマスクとの脱着を容易とす
ることを特徴とする。
ペリクルフレームは、フォトマスクとの脱着を容易とす
ることを特徴とする。
【００１６】本発明の請求項２記載のペリクルフレーム
は、請求項１記載のペリクルフレームにおいて、前記フ
ォトマスクとの接着を磁石にて行うことを特徴とする。
は、請求項１記載のペリクルフレームにおいて、前記フ
ォトマスクとの接着を磁石にて行うことを特徴とする。
【００１７】本発明の請求項３記載のペリクルフレーム
は、請求項１記載のペリクルフレームにおいて、前記ペ
リクルフレームを複数に分割することを特徴とする。
は、請求項１記載のペリクルフレームにおいて、前記ペ
リクルフレームを複数に分割することを特徴とする。
【００１８】本発明の請求項４記載のペリクルフレーム
は、請求項３記載のペリクルフレームにおいて、分割し
た前記ペリクルフレームの接着を磁石にて行うことを特
徴とする。
は、請求項３記載のペリクルフレームにおいて、分割し
た前記ペリクルフレームの接着を磁石にて行うことを特
徴とする。
【００１９】これらの発明によれば、ペリクル付きペリ
クルフレームと、フォトマスク、あるいは分割されたペ
リクルフレーム付きフォトマスクは、磁石で接着される
ため、容易に脱着できるという効果を奏する。このた
め、ひいては、ペリクルフレームの脱着の際、異物を取
り込みにくく、同時にフォトマスク並びに露光装置の大
型化を回避し、剥離した使用可能なペリクルを再利用可
能とするという効果を奏する。
クルフレームと、フォトマスク、あるいは分割されたペ
リクルフレーム付きフォトマスクは、磁石で接着される
ため、容易に脱着できるという効果を奏する。このた
め、ひいては、ペリクルフレームの脱着の際、異物を取
り込みにくく、同時にフォトマスク並びに露光装置の大
型化を回避し、剥離した使用可能なペリクルを再利用可
能とするという効果を奏する。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。
に基づいて説明する。
【００２１】（実施の形態１）図１は、請求項４に基づ
く１実施例を示すもので、ペリクル並びにペリクルフレ
ームのフォトマスクとの接着部を拡大した断面図であ
る。ここで、フォトマスク１１とペリクル１２は、フォ
トマスク側ペリクルフレーム１３とペリクル側ペリクル
フレーム１４を接続することで、フォトマスク１１への
ペリクル１２の装着を完了するが、このフォトマスク側
ペリクルフレーム１３並びにペリクル側ペリクルフレー
ム１４には、それぞれ磁石１５、１６が備えられてお
り、各ペリクルフレーム１３、１４の接着あるいは剥離
が容易にできるようになっている。
く１実施例を示すもので、ペリクル並びにペリクルフレ
ームのフォトマスクとの接着部を拡大した断面図であ
る。ここで、フォトマスク１１とペリクル１２は、フォ
トマスク側ペリクルフレーム１３とペリクル側ペリクル
フレーム１４を接続することで、フォトマスク１１への
ペリクル１２の装着を完了するが、このフォトマスク側
ペリクルフレーム１３並びにペリクル側ペリクルフレー
ム１４には、それぞれ磁石１５、１６が備えられてお
り、各ペリクルフレーム１３、１４の接着あるいは剥離
が容易にできるようになっている。
【００２２】（実施の形態２）図２は請求項２に基づく
１実施例を示すもので、図１と異なる点は、フォトマス
ク側ペリクルフレームが無く、フォトマスク側磁石２４
が、フォトマスク２１に埋め込まれたところである。こ
れは、ペリクル２１の剥離後のフォトマスク２１の洗浄
の容易性を考慮したものである。
１実施例を示すもので、図１と異なる点は、フォトマス
ク側ペリクルフレームが無く、フォトマスク側磁石２４
が、フォトマスク２１に埋め込まれたところである。こ
れは、ペリクル２１の剥離後のフォトマスク２１の洗浄
の容易性を考慮したものである。
【００２３】ここで、図１並びに図２において、各磁石
１５、１６、２４、２５は、各フレーム１３、１４、２
３あるいはフォトマスク２１の接続面全面に必ずしも必
要ではなく、ペリクルフレーム１３、１４、２３の形状
によっては、接続に必要な部分のみ部分的に配置しても
構わない。
１５、１６、２４、２５は、各フレーム１３、１４、２
３あるいはフォトマスク２１の接続面全面に必ずしも必
要ではなく、ペリクルフレーム１３、１４、２３の形状
によっては、接続に必要な部分のみ部分的に配置しても
構わない。
【００２４】
【発明の効果】以上述べたように、本発明のペリクルフ
レームによれば、ペリクルの損傷や寿命、除去できない
異物が付着した時、あるいはフォトマスクとペリクルの
間に異物が発見された場合に伴う、ペリクルの貼替えを
容易にするという効果がある。ひいては、この貼替え、
脱着の際、フォトマスクとペリクルの間に、異物を取り
込ませにくくし、加えてフォトマスク並びに露光装置の
大型化を回避し、剥離したペリクルが再使用可能な場合
は、容易に再貼付できる効果を有する。
レームによれば、ペリクルの損傷や寿命、除去できない
異物が付着した時、あるいはフォトマスクとペリクルの
間に異物が発見された場合に伴う、ペリクルの貼替えを
容易にするという効果がある。ひいては、この貼替え、
脱着の際、フォトマスクとペリクルの間に、異物を取り
込ませにくくし、加えてフォトマスク並びに露光装置の
大型化を回避し、剥離したペリクルが再使用可能な場合
は、容易に再貼付できる効果を有する。
【図１】本発明の一実施の形態を示すペリクル並びにペ
リクルフレームのフォトマスク接着部を拡大した断面
図。
リクルフレームのフォトマスク接着部を拡大した断面
図。
【図２】本発明の一実施の形態を示すペリクル並びにペ
リクルフレームのフォトマスク接着部を拡大した断面
図。
リクルフレームのフォトマスク接着部を拡大した断面
図。
【図３】特開平０３−２６３０４６号公報の一実施の形
態を示すペリクル並びにペリクルフレームのフォトマス
ク接着部を拡大した断面図。
態を示すペリクル並びにペリクルフレームのフォトマス
ク接着部を拡大した断面図。
【図４】特開平０５−２１６２１４号公報の一実施の形
態を示すペリクル並びにペリクルフレームとフォトマス
クの断面図。
態を示すペリクル並びにペリクルフレームとフォトマス
クの断面図。
【図５】特開平０５−２２６４号公報の一実施の形態を
示すペリクルのペリクルフレーム接着部の拡大断面図。
示すペリクルのペリクルフレーム接着部の拡大断面図。
１１，２１，３１，４１．フォトマスク １２，２２，３２，５１．ペリクル １３，３３．フォトマスク側ペリクルフレーム １４，２３，３４，５２．ペリクル側ペリクルフレーム １５，２４．フォトマスク側磁石 １６，２５．ペリクル側磁石 ４２．上側ペリクル ４３．下側ペリクル ４４．上側ペリクルフレーム ４５．下側ペリクルフレーム ４６．ピン接合部 ５３．溝部 ５４．開口部
Claims (4)
- 【請求項１】フォトマスクとの脱着を容易とすることを
特徴とするペリクルフレーム。 - 【請求項２】請求項１記載のペリクルフレームにおい
て、前記フォトマスクとの接着を磁石にて行うことを特
徴とするペリクルフレーム。 - 【請求項３】請求項１記載のペリクルフレームにおい
て、前記ペリクルフレームを複数に分割することを特徴
とするペリクルフレーム。 - 【請求項４】請求項３記載のペリクルフレームにおい
て、分割した前記ペリクルフレームの接着を磁石にて行
うことを特徴とするペリクルフレーム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9492498A JPH11295880A (ja) | 1998-04-07 | 1998-04-07 | ペリクルフレーム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9492498A JPH11295880A (ja) | 1998-04-07 | 1998-04-07 | ペリクルフレーム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11295880A true JPH11295880A (ja) | 1999-10-29 |
Family
ID=14123531
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9492498A Withdrawn JPH11295880A (ja) | 1998-04-07 | 1998-04-07 | ペリクルフレーム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11295880A (ja) |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001027695A3 (en) * | 1999-10-08 | 2002-03-14 | Silicon Valley Group | Removable cover for protecting a reticle, system including and method of using the same |
| SG115604A1 (en) * | 2003-01-09 | 2005-10-28 | Asml Holding Nv | Removable reticle window and support frame using magnetic force |
| JP2012053305A (ja) * | 2010-09-01 | 2012-03-15 | Asahi Kasei E-Materials Corp | ペリクル枠体及びペリクル |
| JP2012053302A (ja) * | 2010-09-01 | 2012-03-15 | Asahi Kasei E-Materials Corp | ペリクル用枠体及びペリクル |
| US8446570B2 (en) | 2002-02-22 | 2013-05-21 | Asml Holding N.V. | System and method for using a two part cover and a box for protecting a reticle |
| CN103246157A (zh) * | 2013-05-21 | 2013-08-14 | 上海和辉光电有限公司 | 防尘薄膜框架、光学掩膜版及其安装方法 |
| CN103728829A (zh) * | 2012-10-16 | 2014-04-16 | 信越化学工业株式会社 | 防尘薄膜组件 |
| WO2014142125A1 (ja) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | ペリクル膜及びペリクル |
| US9395620B2 (en) | 2014-01-28 | 2016-07-19 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Pellicle |
| JP2017534077A (ja) * | 2014-11-17 | 2017-11-16 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | マスクアセンブリ |
| KR20170140994A (ko) * | 2016-06-14 | 2017-12-22 | 주식회사 에스앤에스텍 | 극자외선 리소그래피용 펠리클 구조체 및 그의 제조 방법 |
| JP2019504342A (ja) * | 2015-12-14 | 2019-02-14 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | メンブレンアセンブリ |
| JPWO2019240166A1 (ja) * | 2018-06-12 | 2021-05-20 | 三井化学株式会社 | ペリクル用支持枠、ペリクル及びペリクル用支持枠の製造方法、並びにペリクルを用いた露光原版及び露光装置 |
| WO2022030499A1 (ja) * | 2020-08-06 | 2022-02-10 | 三井化学株式会社 | ペリクル、露光原版、露光装置、ペリクルの製造方法及び半導体装置の製造方法 |
-
1998
- 1998-04-07 JP JP9492498A patent/JPH11295880A/ja not_active Withdrawn
Cited By (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001027695A3 (en) * | 1999-10-08 | 2002-03-14 | Silicon Valley Group | Removable cover for protecting a reticle, system including and method of using the same |
| US8446570B2 (en) | 2002-02-22 | 2013-05-21 | Asml Holding N.V. | System and method for using a two part cover and a box for protecting a reticle |
| SG115604A1 (en) * | 2003-01-09 | 2005-10-28 | Asml Holding Nv | Removable reticle window and support frame using magnetic force |
| JP2012053305A (ja) * | 2010-09-01 | 2012-03-15 | Asahi Kasei E-Materials Corp | ペリクル枠体及びペリクル |
| JP2012053302A (ja) * | 2010-09-01 | 2012-03-15 | Asahi Kasei E-Materials Corp | ペリクル用枠体及びペリクル |
| CN103728829A (zh) * | 2012-10-16 | 2014-04-16 | 信越化学工业株式会社 | 防尘薄膜组件 |
| WO2014142125A1 (ja) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | ペリクル膜及びペリクル |
| JPWO2014142125A1 (ja) * | 2013-03-15 | 2017-02-16 | 旭化成株式会社 | ペリクル膜及びペリクル |
| CN103246157A (zh) * | 2013-05-21 | 2013-08-14 | 上海和辉光电有限公司 | 防尘薄膜框架、光学掩膜版及其安装方法 |
| US9395620B2 (en) | 2014-01-28 | 2016-07-19 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Pellicle |
| JP2017534077A (ja) * | 2014-11-17 | 2017-11-16 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | マスクアセンブリ |
| US10539886B2 (en) | 2014-11-17 | 2020-01-21 | Asml Netherlands B.V. | Pellicle attachment apparatus |
| US10558129B2 (en) | 2014-11-17 | 2020-02-11 | Asml Netherlands B.V. | Mask assembly |
| US10969701B2 (en) | 2014-11-17 | 2021-04-06 | Asml Netherlands B.V. | Pellicle attachment apparatus |
| US11003098B2 (en) | 2014-11-17 | 2021-05-11 | Asml Netherlands B.V | Pellicle attachment apparatus |
| US11009803B2 (en) | 2014-11-17 | 2021-05-18 | Asml Netherlands B.V. | Mask assembly |
| JP2019504342A (ja) * | 2015-12-14 | 2019-02-14 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | メンブレンアセンブリ |
| KR20170140994A (ko) * | 2016-06-14 | 2017-12-22 | 주식회사 에스앤에스텍 | 극자외선 리소그래피용 펠리클 구조체 및 그의 제조 방법 |
| JPWO2019240166A1 (ja) * | 2018-06-12 | 2021-05-20 | 三井化学株式会社 | ペリクル用支持枠、ペリクル及びペリクル用支持枠の製造方法、並びにペリクルを用いた露光原版及び露光装置 |
| WO2022030499A1 (ja) * | 2020-08-06 | 2022-02-10 | 三井化学株式会社 | ペリクル、露光原版、露光装置、ペリクルの製造方法及び半導体装置の製造方法 |
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