CN103246157A - 防尘薄膜框架、光学掩膜版及其安装方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种防尘薄膜框架、光学掩膜版及其安装方法,该防尘薄膜框架,用于光学掩膜版的防尘薄膜的安装,所述防尘薄膜框架包括:第一框架,用于与所述防尘薄膜固定连接,所述第一框架具有第一连接部;第二框架,用于与所述光学掩膜版的基板固定连接,所述第二框架具有第二连接部,通过所述第二连接部与所述第一连接部将所述第一框架与所述第二框架便于分离的密封固定连接。本发明能够使昂贵的防尘薄膜得到重复利用。
Description
技术领域
本发明涉及平板显示面板制造领域,尤其涉及一种防尘薄膜框架及具有该防尘薄膜框架的光学掩膜版和光学掩膜版防尘薄膜的安装方法。
背景技术
现有技术中,在显示行业的黄光制程,需要用到大尺寸光学掩膜版(PhotoMask)。而为了减少灰尘对制程的影响,需要在光学掩膜版的图案面安装防尘薄膜(Pellicle Membrane)。目前所有光学掩膜版厂商均采用粘贴的方式将防尘薄膜安装到光学掩膜版的图案面,粘贴之后,无法无损坏分离,所以目前的安装方式的防尘薄膜是一次性的。
光学掩膜版的制作工艺流程概略图如图1所示。先后需要经过成膜、光刻胶涂布、描写、显影、刻蚀、光刻胶剥离、检查、修复、清洁、防尘薄膜安装、检查及出厂等步骤。
对于其中的防尘薄膜安装步骤,如图3所示,传统的防尘薄膜安装方式是先将防尘薄膜4用粘贴的方式固定在薄膜框架2上,然后将带有防尘薄膜4的薄膜框架2粘贴固定到光学掩膜版的基板(例如石英玻璃)1的具有图案3的图案侧。形成如图2所示的光学掩膜版。
然而,每次改变产品的面板尺寸、像素、线宽等任何一个图案信息,一个产品的整套光学掩膜版就需要更新换代。被替换下来的光学掩膜版就失去了使用价值,而尚有再利用价值的防尘薄膜4由于粘贴在光学掩膜版的薄膜框架2上无法分离也只能随同主体一起废弃。另外,一旦在防尘薄膜4粘贴之后才发现光学掩膜版上的一些缺陷或损坏,而需要返回修复时,也必须破坏掉防尘薄膜4,等修复完成后再贴付一张新的防尘薄膜4。这些行为都将增加光学掩膜版的成本。并且,防尘薄膜4的造价昂贵,防尘薄膜4的费用占光学掩膜版总费用的30-40%。因此,现有技术的光学掩膜版,其防尘薄膜不能重复利用,造成很大的浪费。
发明内容
针对现有技术中存在的问题,本发明的目的为提供一种用于光学掩膜版的防尘薄膜框架,以解决现有技术的防尘薄膜框架无法使光学掩膜版中昂贵的防尘薄膜进行重复利用的技术问题。
本发明的另一目的为提供一种具有本发明防尘薄膜框架的光学掩膜版,以解决现有技术的光学掩膜版中昂贵的防尘薄膜无法进行重复利用的技术问题。
本发明的再一目的为提供一种光学掩膜版防尘薄膜的安装方法。
为实现上述目的,本发明的技术方案如下:
一种防尘薄膜框架,用于光学掩膜版的防尘薄膜的安装,所述防尘薄膜框架包括:第一框架,用于与所述防尘薄膜固定连接,所述第一框架具有第一连接部;第二框架,用于与所述光学掩膜版的基板固定连接,所述第二框架具有第二连接部,通过所述第二连接部与所述第一连接部将所述第一框架与所述第二框架便于分离的密封固定连接。
本发明的光学掩膜版,具有本发明的防尘薄膜框架。
一种光学掩膜版防尘薄膜的安装方法,所述光学掩膜版防尘薄膜的安装方法包括步骤:步骤S1:提供权利要求1-13任一所述的防尘薄膜框架;步骤S2:将所述防尘薄膜连接于所述第一框架,将所述基板连接于所述第二框架;步骤S3:通过所述第二连接部与所述第一连接部能够将所述第一框架与所述第二框架便于分离的密封固定连接。
本发明的有益效果在于,本发明的防尘薄膜框架及具有该防尘薄膜框架的光学掩膜版以及本发明的光学掩膜版防尘薄膜的安装方法,其将防尘薄膜框架分为第一框架和第二框架两部分,且第一框架与第二框架便于分离的安装方式可以将没有商业价值的光学掩膜版上的防尘薄膜取下,安装到需要安装的光学掩膜版上,实现防尘薄膜的重复利用,从而实现减低成本,避免资源浪费。
附图说明
图1为现有技术的光学掩膜版的制作工艺流程示意图;
图2为现有技术的防尘薄膜安装方法安装的光学掩膜版截面示意图;
图3为现有技术的防尘薄膜安装方法的安装过程示意图;
图4为安装有防尘薄膜的本发明第一实施例的防尘薄膜框架的第一框架的截面示意图;
图5为安装有防尘薄膜的本发明第一实施例的防尘薄膜框架的第一框架的俯视示意图;
图6为安装有本发明第一实施例的防尘薄膜框架的第二框架的光学掩膜版基板的截面示意图;
图7为本发明第一实施例的光学掩膜版的截面示意图;
图8为本发明第二实施例的防尘薄膜框架的第一框架截面示意图;
图9为本发明第二实施例的防尘薄膜框架的第二框架截面示意图;
图10为本发明实施例的光学掩膜版防尘薄膜的安装方法的流程示意图。
具体实施方式
体现本发明特征与优点的典型实施例将在以下的说明中详细叙述。应理解的是本发明能够在不同的实施例上具有各种的变化,其皆不脱离本发明的范围,且其中的说明及附图在本质上是当作说明之用,而非用以限制本发明。
本发明实施例的光学掩膜版防尘薄膜的安装方法,利用本发明实施例的防尘薄膜框架实现;本发明实施例的光学掩膜版,具有本发明实施例的防尘薄膜框架;本发明实施例的光学掩膜版,利用本发明实施例的安装方法进行防尘薄膜的安装。
下面具体介绍本发明第一至第四实施例的防尘薄膜框架、防尘薄膜及其安装方法。但本发明并不局限于这四个实施例。
第一实施例:
如图4-图6所示,本发明第一实施例的防尘薄膜框架,将薄膜框架分为两部分,即包括第一框架6和第二框架5,其中第一框架6用于与防尘薄膜4固定连接,第一框架6上具有卡扣60。第二框架5,则用于与所述光学掩膜版的基板1固定连接,第二框架5具有卡槽50,通过卡槽50和卡扣60将第一框架6与第二框架5连接后,由于卡槽50和卡扣60属于可拆卸的连接,因此在需要将防尘薄膜4从没有商业价值的光学掩膜版取下时,便于将第一框架6与第二框架5分离。
这里所说的卡扣60和卡槽50,可以是饭盒、整理箱所用的盒(箱)盖和本体相互连接的卡扣和卡槽,或者是乐扣水杯所用的杯盖和杯体相连接的卡扣和卡槽。且卡扣60和卡槽50,也可以是卡扣60设置在第二框架5上,而卡槽50设置在第一框架6上。
本实施例中,第一框架6与第二框架5为尺寸相匹配的矩形,两者的尺寸应该相等。防尘薄膜4的尺寸须与第一框架6及第二框架5的尺寸相匹配。第一框架6与第二框架5的规格例如为内尺寸456×768mm、外尺寸474×782mm或者内尺寸736×888mm、外尺寸754×902mm,分别对应520×800mm或者800×920mm的光学掩膜版,此处所述的光学掩膜版尺寸等同于玻璃基板1的尺寸。
而光学掩膜版的尺寸有如下规格(单位mm):330*400,330*450,390*610,500*750,520*800,800*920,850*1200,1220*1400,1800*2000,目前用得比较多的是500*750以上尺寸的。
如图5所示,卡扣60和卡槽50在第一框架6与第二框架5的矩形上,每一长边上均设置两个,在每一短边上均设置一个。在短边上可以设置在短边的中点,而在长边上,则可均匀分布于三分之一处和三分之二处。根据光学掩膜版的尺寸,卡扣60和卡槽50可以增设,并均匀分布于第一框架6与第二框架5的矩形上。第一框架6和第二框架5优选的为铝合金材质。
本实施例的防尘薄膜框架,既可以在第一框架6上,也可以在第二框架5上,优选的是靠近第一框架6的靠近防尘薄膜4的位置,可开设多个(一般为4个)直径为1.5mm的圆形通气孔(图中未示出),以避免防尘薄膜4承受过大的压力,通气孔上会有空气过滤器,过滤器的直径要小于所要防止进入的灰尘的粒径,例如限制0.3微米粒径以上颗粒通过的过滤器。
本发明实施例的防尘薄膜框架,为了加强第一框架6与第二框架5之间的密封性,在第一框架6与第二框架5之间设置有密封垫。例如在第一框架6的底面与第二框架5的顶面之间垫设密封垫。
如图7所示,本发明第一实施例的光学掩膜版,包括石英玻璃1、第二框架5、第一框架6和防尘薄膜4,其位置关系与连接关系在之前的论述中已有介绍,不再赘述。
其中,石英玻璃1上具有图案3,石英玻璃1是作为本发明实施例的光学掩膜版的基板,但基板的材质并不局限于是石英玻璃。
下面再介绍一下本发明实施例的光学掩膜版防尘薄膜的安装方法,其针对的是本发明第一实施例的防尘薄膜框架。如图10所示,本发明第一实施例的光学掩膜版防尘薄膜的安装方法包括步骤:
首先是提供本发明第一实施例的防尘薄膜框架;
然后,将防尘薄膜4粘贴于第一框架6的顶面,将第二框架5粘贴于石英玻璃1;
最后,通过卡扣60与卡槽50将第一框架6与第二框架5固定连接。
在通过卡扣60与卡槽50将第一框架6与第二框架5固定连接前,可在第一框架6的底面与第二框架5的顶面之间垫设密封垫,以增强第一框架6与第二框架5之间连接的密封性。
本发明实施例的光学掩膜版,其制造工艺中,除去防尘薄膜4的安装步骤之外,其余步骤均可与现有技术的光学掩膜版相同,具体如图1所示。
第二实施例:
如图8和图9所示,本发明第二实施例的防尘薄膜框架,同样是将薄膜框架分为两部分,即包括第一框架6和第二框架5,其中第一框架6用于与防尘薄膜4固定连接,与第一实施例不同的是,本实施例中,第一框架6的底面上具有凸起61,而非卡扣。第二框架5,则用于与所述光学掩膜版的石英玻璃1固定连接,与第一实施例不同的是,本实施例中,第二框架5的顶面上具有凹槽51。
本实施例的连接方式可以称为是一种插卡式的连接,是通过凸起61和凹槽51的配合将第一框架6与第二框架5固定连接,由于凹槽51的入口具有弹性,在插入时,凸起61将凹槽51的入口撑开,凸起61完全插入后,凹槽51的入口因弹性而回收,贴紧凸起61的两侧,在拔出时,凸起61将凹槽51的入口撑开,凸起61完全拔出后,凹槽51的入口因弹性而复原,因此凸起51和凹槽61同样属于可拆卸的连接,因此在需要将防尘薄膜4从没有商业价值的光学掩膜版取下时,同样便于将第一框架6与第二框架5相互分离。
本实施例,由于连接后凹槽51的入口因弹性回收而贴紧凸起61的两侧,所以具有很好的密封性,不必设置其他密封件。
本实施例中,既可以在第一框架6上设置凸起61,在第二框架5上设置凹槽51;也可以在第一框架6上设置凹槽,而在第二框架5上设置凸起。
在其他方面,本实施例可与第一实施例相同,不再赘述。
第三实施例:
本发明第三实施例的防尘薄膜框架,与第一实施例不同的是,第一框架6上设置有螺钉(或称螺丝),而在第二框架5上设置螺母,通过螺丝螺母的配合,来实现第一框架6与第二框架5的可拆卸固定连接。
本实施例中,螺母可以固定在第二框架5的外表面,即图4中设置卡槽50的位置,而螺钉,则穿设在第一框架6外表面的具有内螺纹的连接孔中。
本实施例中,既可以在第一框架6上设置螺钉,在第二框架5上设置螺母;也可以在第一框架6上设置螺母,而在第二框架5上设置螺钉。
本实施例是螺钉和螺母均设置在第一框架6和第二框架5的外侧表面,螺钉并不穿过第一框架6和第二框架5的本体,但本发明并不局限于此,因此有以下的第四实施例。
第四实施例:
本实施例中,是分别在第一框架6和第二框架5上开设具有内螺纹的且对中的两连接孔,其中一个是透孔,另外一个是非透孔。为了保持光学掩膜版内部的密封性,连接两连接孔的螺钉并不穿入光学掩膜版内部。对中的两连接孔既可以平行于石英玻璃,也可以垂直于石英玻璃开设。
如果第一框架6的底面与第二框架5的顶面为凹凸配合,则连接孔可以是在平行于石英玻璃1的方向开设。凹凸配合可以为台阶状配合,例如第一框架6的底面具有内高外低的台阶,而第二框架5的顶面则具有与之匹配的内高外低的台阶,对中的两连接孔可以开设在台阶上,方向平行于石英玻璃1。
本实施例的防尘薄膜框架,还包括将上述两对中的连接孔相互连接的螺钉,以将第一框架6与第二框架5可拆卸的固定连接。
综合上述的第一实施例至第四实施例,本发明的防尘薄膜框架,不论是卡扣60与卡槽50、凸起61和凹槽51的插卡式连接方式、螺丝螺母的连接方式,还是通过螺钉将两对中的连接孔相连接的连接方式,均属于是通过两个分别设置在第一框架6和第二框架5上的连接部(卡扣\卡槽、凸起\凹槽、螺丝\螺母、两连接孔)将第一框架6与第二框架5便于分离的密封固定连接,包括可拆卸的密封固定连接。但本发明并不局限于此,第一框架6与第二框架5间任何便于分离的密封固定连接方式均可。
本发明实施例的防尘薄膜框架及本发明实施例的光学掩膜版以及本发明实施例的光学掩膜版防尘薄膜的安装方法,其将防尘薄膜框架分为第一框架6和第二框架5两部分,把粘贴到石英玻璃1上的薄膜框架定义为第二框架5,把固定防尘薄膜4的薄膜框架定义为第一框架6。在第一框架6上设置一连接部,第二框架5上设置与之匹配的另一连接部,通过两连接部将第一框架6和第二框架5固定连接,即可完成安装。且第一框架6与第二框架5便于分离的安装方式可以将没有商业价值的光学掩膜版上的防尘薄膜4取下,安装到需要安装的光学掩膜版上,实现防尘薄膜4的重复利用,从而实现减低成本,避免资源浪费。
本领域技术人员应当意识到在不脱离本发明所附的权利要求所揭示的本发明的范围和精神的情况下所作的更动与润饰,均属本发明的权利要求的保护范围之内。
Claims (21)
1.一种防尘薄膜框架,用于光学掩膜版的防尘薄膜的安装,所述防尘薄膜框架包括:
第一框架,用于与所述防尘薄膜固定连接,所述第一框架具有第一连接部;
第二框架,用于与所述光学掩膜版的基板固定连接,所述第二框架具有第二连接部,通过所述第二连接部与所述第一连接部将所述第一框架与所述第二框架便于分离的密封固定连接。
2.如权利要求1所述的防尘薄膜框架,其特征在于,所述第二连接部与所述第一连接部相互连接后将所述第一框架与所述第二框架可拆卸的密封固定连接。
3.如权利要求1所述的防尘薄膜框架,其特征在于,所述第一框架与所述第二框架为尺寸相匹配的矩形,所述第一连接部和所述第二连接部在所述矩形的每一长边上均设置至少两个,在所述矩形的每一短边上均设置至少一个。
4.如权利要求2所述的防尘薄膜框架,其特征在于,所述第一连接部为卡扣,所述第二连接部为卡槽;或者所述第一连接部为卡槽,所述第二连接部为卡扣。
5.如权利要求2所述的防尘薄膜框架,其特征在于,所述第一连接部为设置于所述第一框架的凸起,所述第二连接部为设置于所述第二框架的凹槽;或者所述第一连接部为设置于所述第一框架的凹槽,所述第二连接部为设置于所述第二框架的凸起。
6.如权利要求2所述的防尘薄膜框架,其特征在于,所述第一连接部为螺钉,所述第二连接部为螺母;或者所述第一连接部为螺母,所述第二连接部为螺钉。
7.如权利要求1所述的防尘薄膜框架,其特征在于,所述第一框架和所述第二框架为铝合金材质。
8.如权利要求1所述的防尘薄膜框架,其特征在于,所述第一框架上设置有限制0.3微米粒径以上颗粒通过的通气孔。
9.如权利要求8所述的防尘薄膜框架,其特征在于,所述通气孔的直径为1.5毫米,在所述通气孔内设置有限制0.3微米粒径以上颗粒通过的空气过滤器。
10.如权利要求1所述的防尘薄膜框架,其特征在于,所述第一框架的底面与所述第二框架的顶面为凹凸配合。
11.如权利要求10所述的防尘薄膜框架,其特征在于,所述防尘薄膜框架还包括将所述第一连接部与所述第二连接部相互连接以将所述第一框架与第二框架可拆卸的固定连接的连接件。
12.如权利要求11所述的防尘薄膜框架,其特征在于,所述第一连接部为设置在所述第一框架的具有内螺纹的第一连接孔,所述第二连接部为设置在所述第二框架的具有内螺纹的与所述第一连接孔对中的第二连接孔,所述连接件为螺钉。
13.如权利要求11所述的防尘薄膜框架,其特征在于,所述通气孔的数量为四个。
14.一种光学掩膜版,其特征在于,所述光学掩膜版具有权利要求1-13任一所述的防尘薄膜框架。
15.如权利要求14所述的光学掩膜版,其特征在于,所述光学掩膜版的规格为800×920mm或者520×800mm。
16.如权利要求14所述的光学掩膜版,其特征在于,所述第一框架与所述第二框架之间具有密封件。
17.如权利要求16所述的光学掩膜版,其特征在于,所述第一框架的底面与所述第二框架的顶面之间垫设有密封垫。
18.如权利要求14所述的光学掩膜版,其特征在于,所述基板为石英玻璃。
19.一种光学掩膜版防尘薄膜的安装方法,其特征在于,所述光学掩膜版防尘薄膜的安装方法包括步骤:
步骤S1:提供权利要求1-13任一所述的防尘薄膜框架;
步骤S2:将所述防尘薄膜连接于所述第一框架,将所述基板连接于所述第二框架;
步骤S3:通过所述第二连接部与所述第一连接部能够将所述第一框架与所述第二框架便于分离的密封固定连接。
20.如权利要求19所述的光学掩膜版,其特征在于,在所述步骤S2之后和所述步骤S3之前,还包括在所述第一框架的底面与所述第二框架的顶面之间垫设密封垫的步骤。
21.如权利要求19所述的光学掩膜版,其特征在于,在所述步骤S2中,将所述防尘薄膜粘贴于所述第一框架的顶面。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2013101902179A CN103246157A (zh) | 2013-05-21 | 2013-05-21 | 防尘薄膜框架、光学掩膜版及其安装方法 |
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2013101902179A CN103246157A (zh) | 2013-05-21 | 2013-05-21 | 防尘薄膜框架、光学掩膜版及其安装方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN103246157A true CN103246157A (zh) | 2013-08-14 |
Family
ID=48925762
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2013101902179A Pending CN103246157A (zh) | 2013-05-21 | 2013-05-21 | 防尘薄膜框架、光学掩膜版及其安装方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2014228868A (zh) |
KR (1) | KR20140136891A (zh) |
CN (1) | CN103246157A (zh) |
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Date | Code | Title | Description |
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20130814 |