CN106019818A - 防尘薄膜组件 - Google Patents

Abstract

本发明的目的为提供一种通气孔开口部以及过滤器的大小由于防尘薄膜组件的高度而被限制，但是即使在防尘薄膜组件的高度被限制为低的场合，也会使过滤器的有效面积充分大，防尘薄膜组件封闭空间的内外的压力差得以很快地缓和的防尘薄膜组件。本发明防尘薄膜组件具有防尘薄膜组件框架21，所述防尘薄膜组件框架21上设置的使防尘薄膜组件封闭空间的内外通气的通气孔25以及在所述通气孔25内设置的至少将该通气孔的一部分塞住的过滤器22，其特征在于：所述通气孔25的在防尘薄膜组件封闭空间内侧的开口部以及防尘薄膜组件封闭空间外侧的开口部的至少任一方为向着防尘薄膜组件上部或者防尘薄膜组件下部设置。再者，本发明的过滤器优选使向着防尘薄膜组件上部或者防尘薄膜组件下部设置的通气孔25的开口部被塞住。

Description

防尘薄膜组件

技术领域

本发明涉及半导体装置，IC封装，印刷基板，液晶面板或者有机EL面板等的制造时的作为灰尘防止器使用的防尘薄膜组件。

背景技术

近年，LSI的设计正在向四分之一微米以下的细微化前进，伴随着这种变化，曝光光源的短波长化也在发展。即，曝光光源从水银灯的g线(436nm)，i线(365nm)向KrF准分子激光(248nm)，ArF准分子激光(193nm)等转变，进一步，使用主波长13.5nm的EUV(Extreme Ultra Violet)光的EUV曝光也正在被研究。

在LSI，超LSI等的半导体制造或者液晶表示板的制造中，要向半导体晶片或者液晶用原板照射光以制造图案，如果在该场合使用的光刻用掩模(以下简称“掩模”)以及中间掩模(以下，简称“曝光原版”)上有灰尘附着，所述灰尘就会将光吸收，或使光弯曲，转印的图案就会变形，尖端粗糙，基底变黑脏污，从而产生尺寸，品质，外观等受损的问题。

这些的作业，通常在无尘室中进行，但是，即使如此，也难以使曝光原版经常保持清洁。因此，一般采用在曝光原版表面上作为灰尘防止器将防尘薄膜组件贴附后再进行曝光的方法。在该场合，异物不在曝光原版的表面上直接附着，而是附着于防尘薄膜组件上，在光刻时只要将焦点对准曝光原版的图案即可，防尘薄膜组件上的异物与转印无关。

所述防尘薄膜组件的基本的构成为，在防尘薄膜组件框架的上端面将曝光使用的光的透过率高的防尘膜为绷紧设置的同时，在下端面设置气密用衬垫。气密用衬垫一般使用粘着剂层。防尘膜由可以使曝光使用的光(水银灯的g线(436nm)，i线(365nm)，KrF准分子激光(248nm)，ArF准分子激光(193nm)等)良好透过的硝化纤维素，醋酸纤维素，氟系聚合物等构成，在EUV曝光的场合，也正在研究防尘膜使用极薄的硅。

防尘薄膜组件为，防止在曝光原版上有灰尘附着而设置的，所述防尘薄膜组件的粘着剂层使用压力将其贴附于曝光原版。此时，防尘薄膜组件，在曝光原版的表面上形成将图案领域包围。由此，曝光原版的图案领域，由防尘薄膜组件使其与外部的尘埃隔离，使灰尘不能在图案面上附着。再者，防尘膜，防尘薄膜组件框架以及曝光原版形成防尘薄膜组件封闭空间。

所述防尘薄膜组件封闭空间，由于未密封闭空间，所以外部的压力变化时，防尘薄膜组件内外的压力差会对防尘膜形成压力，氟聚合物等的树脂膜的场合，防尘膜会膨起，凹陷会发生。另外，EUV曝光时，曝光环境为真空，在掩模进出曝光装置时，要吸引真空，由此在极薄硅膜的场合，只要少有压力差，就有很大的可能使硅膜破坏。

因此，为了对上述那样的密封闭空间的内外的压力差缓和，一般要设置连通防尘薄膜组件框架的内外的通气孔，通过所述通气孔使空气流通。例如，在专利文献1中，记载了一种在设置防尘薄膜组件框架的侧部设置气压调整用的通气孔的同时，在所述防尘薄膜组件框架的外侧面设置防止将所述通气孔堵塞的粒子的侵入的过滤器的防尘薄膜组件。另外，在专利文献2中，记载了一种即使防尘薄膜组件在真空下使用的场合，也不会由于压力差而伸缩从而被破损的EUV用防尘薄膜组件，该防尘薄膜组件具有，在外框部的内侧领域具有多孔部的支持部件，在所述支持部件的框部设置气体可透过的过滤器以及由多孔部支持的单晶硅的防尘膜的防尘薄膜组件。

如上述，在以往的防尘薄膜组件中，设置有防止从气压调整用的通气孔粒子侵入的过滤器。再者，所述防尘薄膜组件的通气孔的开口部，在对与防尘薄膜组件框架的防尘膜接着面或者粘着剂层设置面垂直的二个面设置的同时，过滤器还要设置将防尘薄膜组件框架外侧面的开口部塞住。另外，空气在通过过滤器时，通气速度(通气量)小，所以，特别是EUV曝光的抽真空的场合以及防尘薄膜组件封闭空间的内外的极小的压力差就会成为问题的场合，有必要至少要将过滤器设置的侧的通气孔开口部的面积做大，从而使过滤器的有效面积变得充分大。

先行技术文献

专利文献

专利文献1日本特开平10－198021

专利文献2日本特开2010－256434

但是，近年，防尘薄膜组件的高度有变低的倾向，由此，有防尘薄膜组件框架的外侧面的高度也变低，由此，发生了通气孔开口部，进而过滤器的有效面积也不得不变小的问题。特别是，EUV用防尘薄膜组件，由于其高度被要求非常低，所以产生了在以往那样的在防尘薄膜组件框架的外侧面设置过滤器时，也不得不将过滤器的有效面积变得非常小的问题。

在大气压下使用的ArF用防尘薄膜组件中，防尘薄膜组件封闭空间的内外的压力变化小，过滤器的通气性大不会成为大问题，但是，由于ArF用的防尘薄膜组件的防尘薄膜组件框架的高度变低，所以对防尘薄膜组件框架的侧面可以设置过滤器的尺寸，有相当的限制。

另一方面，EUV用防尘薄膜组件，由于在大气压下进行掩模的安装，在曝光装置内真空下使用，所以在将EUV用防尘薄膜组件装入曝光装置时，防尘薄膜组件封闭空间内的空气有必要排出。再者，此时，如过滤器的有效面积不充分大，防尘薄膜组件封闭空间的内外会发生压力差，有发生防尘膜破坏的等的可能。因此，在EUV用防尘薄膜组件中有必要设置充分大的通气孔开口部，以及过滤器设置，如上述那样，由于EUV用防尘薄膜组件的高度非常低，所以用以往的那样的在防尘薄膜组件框架的外侧面上设置过滤器的方法，要得到具有足够大小的通气孔开口部以及过滤器是困难的。

因此，本发明就是由于鉴于上述的原因而成的，本发明的目的，为即使防尘薄膜组件的高度低，也可以设置具有足够大小的通气孔开口部以及有效面积大的过滤器，从而提供一种防尘薄膜组件封闭空间的内外的压力差被充分缓和的防尘薄膜组件。

发明内容

本发明为一种防尘薄膜组件，包括防尘薄膜组件框架，在所述防尘薄膜组件框架设置的防尘薄膜组件封闭空间的内外通气的通气孔以及将所述通气孔的至少一部分塞住的过滤器，其特征在于：通气孔的防尘薄膜组件封闭空间内侧的开口部以及防尘薄膜组件封闭空间外侧的开口部的至少任一方，为向着防尘薄膜组件上部或者防尘薄膜组件下部设置。再者，本发明的过滤器优选将向着防尘薄膜组件上部或者防尘薄膜组件下部设置的通气孔的开口部塞住。

另外，本发明的过滤器的设置，更优选将通气孔的封闭空间内侧的开口部或者所述通气孔的封闭空间外侧的开口部塞住，所述通气孔的封闭空间内侧的开口部或者所述通气孔的封闭空间外侧的开口部，优选向着防尘薄膜组件上部设置。

进一步，本发明的过滤器，可以在通气孔内或者通气孔外的任一方设置，该场合，优选孔曲折或者弯曲，在防尘薄膜组件框架的边内侧或者边外侧形成鼓出部，所述通气孔在所述鼓出部设置。再者，所述鼓出部，优选沿着薄膜组件框架全周设置。

发明的效果

根据本发明，即使在通气孔开口部以及过滤器的大小由于防尘薄膜组件的高度被限制得很低的场合，由于过滤器的有效面积充分大，防尘薄膜组件封闭空间的内外的压力差也可以很快地缓和，从而抑制了防尘膜的破坏等的问题。

附图说明

图1本发明的防尘薄膜组件的一实施方式的示意图。

图2图1的防尘薄膜组件的过滤器设置部的截面图。

图3本发明的防尘薄膜组件的另一个实施方式的示意图。

图4图3的防尘薄膜组件的过滤器设置部的截面图。

图5实施例1以及3中使用的防尘薄膜组件的示意图。

图6本发明的防尘薄膜组件的另一个实施方式的示意图。

图7图6的防尘薄膜组件的过滤器设置部的截面图。

图8本发明的防尘薄膜组件的另一个实施方式的示意图。

图9图8的防尘薄膜组件的过滤器设置部的截面图。

图10以往的防尘薄膜组件以及比较例1以及2的示意图。

图11图10的防尘薄膜组件的过滤器设置部的截面图。

图12将鼓出部在防尘薄膜组件框架的外侧全周设置的实施方式的示意图。

图13图12的防尘薄膜组件的过滤器设置部的截面图。

图14将鼓出部在防尘薄膜组件框架的外侧全周设置的另一个实施方式的示意图。

图15图14的防尘薄膜组件的过滤器设置部的截面图。

图16将鼓出部在防尘薄膜组件框架的内侧全周设置的实施例5的示意图。

图17图16的防尘薄膜组件的过滤器设置部的截面图。

具体实施方式

以下，对本发明的一实施方式基于附图进行详细说明，但是本发明并不限于此。

图1，3，6，8为本发明的防尘薄膜组件的一实施方式的示意图，图2，4，7，9为本发明的防尘薄膜组件的过滤器设置部的截面示意图。另外，图5为实施例1以及2使用的防尘薄膜组件的示意图。

通常的防尘薄膜组件如图10，11表示的那样，由防尘薄膜组件框架11，防尘膜10，防尘膜接着层13，掩模基板或者曝光原版的粘着层14(以下，称掩模粘着层14)，通气孔15以及过滤器12等构成。另外，通常，为了对掩模粘着层14的表面进行保护，要安装分离片，该分离片在附图中被省略。

在将所述防尘薄膜组件安装于掩模基板或者曝光原版时，会出现防尘膜10，防尘薄膜组件框架11，掩模或者曝光原版(未图示)，防尘膜接着层13，掩模粘着层14包围的封闭空间。在防尘薄膜组件没有安装于掩模基板或者曝光原版的状态下，不会产生所述封闭空间，但是，为了叙述方便，假定存在掩模基板或者曝光原版，将所述空间定义防尘薄膜组件封闭空间。另外，以防尘薄膜组件框架11作为基准，将防尘膜接着层13侧作为防尘薄膜组件上部，将掩模粘着层14侧作为防尘薄膜组件下部。

在以往的防尘薄膜组件中，如图11表示的那样，由于设置使与防尘薄膜组件框架11的防尘膜接着层13的面或者掩模粘着层14的面垂直的二个面贯通的通气孔15，所以，所述通气孔15的开口部的大小以及通气孔15上设置的过滤器12的大小，会被防尘薄膜组件的高度限制。

对此，在本发明的防尘薄膜组件中，如图2以及图4表示的那样，通气孔25的防尘薄膜组件封闭空间内侧的开口部27以及防尘薄膜组件封闭空间外侧的开口部28的至少任一方，向着防尘薄膜组件上部设置。另外，如图7表示的那样，通气孔25的防尘薄膜组件封闭空间内侧的开口部27也可以向着防尘薄膜组件下部设置。进一步，虽然没有图示，由于也可以将图4的防尘薄膜组件封闭空间外侧的开口部28向着防尘薄膜组件下部设置，所述通气孔25的开口部的大小以及通气孔25中设置的过滤器22的大小，不会被防尘薄膜组件的高度限制。

因此，在本发明的防尘薄膜组件中，过滤器22的有效面积，比以往的过滤器大，防尘薄膜组件内空间被回路图案使用，防尘薄膜组件外部被用于掩模处理，所以如使过滤器过大，这些的领域被过滤器占有，有可能发生运用障碍。所以虽然过滤器的有效面积越大效果越大，但是由于在掩模上进入另一个领域，所以要综合考虑使其大小适度。

图1，2表示的一实施方式为，防尘薄膜组件框架21上的通气孔25的防尘薄膜组件封闭空间的内侧的开口部27被设置为向着防尘薄膜组件上部的例子。另外，图3，4表示的另一个实施方式为，防尘薄膜组件框架21上的通气孔25的防尘薄膜组件封闭空间的外侧的开口部28向着防尘薄膜组件上部设置的例子。本发明的防尘薄膜组件，也可以如图7表示的另一个实施方式那样，将所述开口部27向着防尘薄膜组件下部设置。

向着本发明的防尘薄膜组件上部或者防尘薄膜组件下部设置的开口部，并非一定要对防尘薄膜组件框架21的防尘膜接着层23的面或者掩模粘着层24的设置面进行平行设置。但是，沿着开口部的防尘薄膜组件框架21的面和防尘薄膜组件框架21的防尘膜接着层23的面或者掩模粘着层24的设置面所成的角度越大，由于通气孔25的开口部的大小以及通气孔25上设置的过滤器22的大小被防尘薄膜组件的高度限制，所以以45度以下为优选。

在本发明的防尘薄膜组件中，通气孔25的防尘薄膜组件封闭空间的内侧的开口部27以及防尘薄膜组件封闭空间的外侧的开口部28的两方也可以都向着防尘薄膜组件上部或者防尘薄膜组件下部设置，但是，如考虑制造简便以及成本，优选仅至少任一方被向着防尘薄膜组件上部或者防尘薄膜组件下部设置。

在防尘薄膜组件框架21的边内侧或者边的外侧形成鼓出部29，用于使本发明的防尘薄膜组件封闭空间的内外通气的通气孔25优选在所述鼓出部29上设置。另外，其形状没有限制，直线状也可，曲折或者弯曲的形状也可。但是，在通气孔25被设置为直线状的场合，在制造工程中简便，但是，由于通气孔25具有对防尘薄膜组件框架21的形状以及通气孔25的开口部的设置的位置进行限制的可能性。因此，通气孔25的形状优选为曲折或者弯曲的形状，如果从其制造的简便来考虑，以曲折的形状为特别优选。在该场合，曲折部为角也可，通过切角加工等使其成平滑曲折也可。另外，曲折部的角度没有限制。

防尘薄膜组件框架21的宽比通常要大的场合，可以设置没有防尘膜接着层23或者掩模粘着层24的部分，在其设置通气孔25的开口部。图12至图15，表示了防尘薄膜组件框架21的外侧全周上设置多个开口部的实施方式。再者，在这样的实施方式的场合，鼓出部29，可以沿着防尘薄膜组件框架全周设置。如这样，由于没有突出于防尘薄膜组件框架21的部分，光掩模上形成的图案领域就不会被限制，另外，也没有对防尘薄膜组件的处理的阻碍，优选。

本发明的过滤器22的设置要将通气孔25的至少一部分塞住，但是，可以设置为埋入通气孔25内，也可以设置在通气孔25外面，将通气孔25的开口部覆盖。另外，过滤器22的设置位置优选，将向着防尘薄膜组件上部或者防尘薄膜组件下部设置的开口部塞住。本发明的防尘薄膜组件中，由于与向着防尘薄膜组件上部或者防尘薄膜组件下部设置的开口部与防尘薄膜组件的高度无关，可以设置为很大，将所述开口部设置为将过滤器22塞住，由此过滤器22的有效面积可以很大。

过滤器22的材质以及构造没有限制，可以使用公知的过滤器。例如，树脂，陶瓷，金属等的多孔质材料构成的过滤器以及与纤维状的材料组合的过滤器等都可以使用。

在本发明的防尘薄膜组件中，通气孔25的防尘薄膜组件封闭空间内侧的开口部27优选向着防尘薄膜组件上部设置，过滤器22的设置优选将向所述防尘薄膜组件上部设置的防尘薄膜组件封闭空间内侧的开口部27塞住。这是为了在灰尘等进入通气孔25的场合，不使异物在掩模基板或者曝光原版上直接附着。另外，通气孔25的防尘薄膜组件封闭空间的内侧的开口部27向着防尘薄膜组件下部，即向着掩模基板或者曝光原版侧设置的场合，特别是进行EUV曝光，从真空返回大气压时，如灰尘等通过通气孔25侵入，就会被流入的空气推压，从而会在掩模基板或者曝光原版附着的缘故。

各防尘薄膜组件构成部件的大小可以与通常的防尘薄膜组件，例如半导体集积回路制造中的光刻用防尘薄膜组件以及大型液晶表示装置制造中的光刻用防尘薄膜组件等同样，可以根据需要变更。另外，对各防尘薄膜组件构成部件的材质，没有特别的限制，可以使用公知的材料。

作为防尘膜20的材质，没有特别是限制，但是，优选使用在曝光光源的波长中的透过率高，耐光性高之物。例如，以往在准分子激光中使用的非晶质氟聚合物等。非晶质氟聚合物的例子，可以例举CYTOP(旭硝子(株)制商品名)，特氟隆(注册商标)，AF(杜邦公司制商品名)等。这些的聚合物，在制作防尘膜时，根据需要可以在溶媒中溶解来使用，例如可以在氟系溶媒等中适宜溶解。

另外，将防尘膜20在防尘薄膜组件框架21上绷紧设置的方法，没有特别的限制，可以使用公知的方法。

作为将防尘膜20和防尘薄膜组件框架21结合用的接着剂，可以使用常用的材料。具体来说，例如，丙烯酸树脂接着剂，酚醛树脂接着剂，硅树脂接着剂，含氟硅接着剂等的氟聚合物等。其中，氟系聚合物为适。作为氟系聚合物，具体可以例举CYTOP(旭硝子(株)制商品名)等。接着剂，根据需要用溶媒稀释，在防尘薄膜组件框架的上端面涂布。该场合的涂布方法，可以采用刷毛涂布，喷涂，自动分布器涂布等。

将防尘薄膜组件在掩模基板上安装的掩模粘着层24可以用两面粘着带，硅系粘着剂，丙烯酸系粘着剂等的公知的粘着剂来形成。通常，在防尘薄膜组件框架21的下端面形成掩模粘着层24，进一步将分离片(未图示)可剥离地贴附。

分离片的材质没有特别的限制，例如，可以使用聚对苯二酸乙烯基酯(PET)，聚四氟乙烯(PTFE)，四氟乙烯·全氟烷基乙烯基醚共聚物(PFA)，聚乙烯(PE)，聚碳酸酯(PC)，聚氯代乙烯基(PVC)，聚丙烯(PP)等。另外，根据掩模粘着层24的粘着力，硅系离型剂以及氟系离型剂等的离型剂也可在分离片的表面上涂布。所述分离片，可以通过改良防尘薄膜组件收纳容器或者防尘薄膜组件支持方法等，来将其省略。

作为本发明的防尘薄膜组件框架21的基材，只要作为防尘薄膜组件框架，其强度和刚性得以确保，就没有特别的限制，例如，铝，铝合金(JIS5000系，6000系，7000系等)，铁，铁系合金，陶瓷(SiC，AlN，Al2O3等)，陶瓷金属复合材料(Al－SiC，Al－AlN，Al－Al2O3等)，碳钢，工具钢，不锈刚，工程塑料(PE，PA，PEEK等)，碳纤维复合材料(GFRP，CFRP等)等。其中铝以及铝合金在强度，刚性，轻量，成本的面上考虑，为优选。

在防尘薄膜组件框架21的表面上，根据需要可以进行阳极氧化处理，电镀处理，聚合物涂布，涂装等的处理。另外，从对曝光光的反射进行抑制以及提高异物检查中的观察性的观点，防尘薄膜组件框架21以黑色为优选。特别是作为防尘薄膜组件框架21的基材，使用铝合金的场合，优选将其表面用不锈钢珠，玻璃珠，碳硅石等粗化，进一步进行黑色氧化膜处理。

面对防尘薄膜组件框架21的防尘薄膜组件封闭空间的部分，也可以涂布捕捉异物的粘着剂。另外，根据需要也可以追加各种构成部件，另外，只要能满足作为防尘薄膜组件的机能，将构成部件的一部分除去也可。

再者，在EUV用防尘薄膜组件的场合，作为防尘薄膜组件框架，可以使用与准分子激光用防尘薄膜组件同样的材料。另外，作为防尘膜可以使用具有多孔部的支持部件和该所述多孔部支持的单晶硅的防尘膜。在将单晶硅的防尘膜在防尘薄膜组件框架上绷紧设置时，可以使用硅树脂接着剂，特别是以抑制发生气体的硅树脂为好。另一方面，将防尘薄膜组件安装在曝光原版的粘着层可以使用硅系粘着剂，在该场合以使用抑制发生气体的硅树脂为好。

另外，过滤器，也可以使用与准分子激光用防尘薄膜组件同样的公知的过滤器。树脂，陶瓷，金属等的多孔质材料构成的过滤器以及与纤维状的材料的组合过滤器等也可以使用。

在EUV曝光时，将安装了防尘薄膜组件的掩模基板或者曝光原版放入曝光装置，有必要将曝光装置内吸真空，另外，将曝光原版等从曝光装置中取出时，相反，要将装置内从真空状态还原为大气压。此时，防尘薄膜组件和曝光原版等包围的防尘薄膜组件封闭空间内有空气流出流入，由于有必要使防尘薄膜组件封闭空间的内外不产生气压差，所以EUV用防尘薄膜组件与以往的准分子激光用防尘薄膜组件相比，必须确保高的通气性。因此，通气孔25的过滤器22设置侧的开口部要大，从而使过滤器22的有效面积充分大。

以下，通过实施例以及比较例对本发明进行具体说明。再者，实施例以及比较例中，将“掩模基板”作为“曝光原版”的例子来使用，所以本发明对曝光原版全部都可适用。

<实施例1>

实施例1中，首先，准备外尺寸149mm×115mm×2.5mm，内尺寸145mm×111mm×2.5mm的铝合金制防尘薄膜组件框架21。再者，如图5表示的那样，在防尘薄膜组件框架21的四角，为了设置通气孔25的开口部，要使厚度2mm的鼓出部29在防尘薄膜组件框架21的边内侧形成。再者，这些的鼓出部29中，如图2表示的那样，在将直径10mm的开口部27相着防尘薄膜组件上部设置的同时，进一步，通过在防尘薄膜组件框架21的外侧面设置直径1mm的开口部28，得到通气孔25。

然后，将形成通气孔25的防尘薄膜组件框架21用纯水洗净，在防尘薄膜组件框架21的下端面将硅粘着剂(信越化学工业(株)制)涂布，上端面，将CYTOP接着剂(旭硝子(株)制，CTX－A)涂布。其后，将防尘薄膜组件框架21加热至130℃，使粘着剂以及接着剂硬化。

再者，在直径11mm的PTFE过滤器22的外周部。进行幅度为0.5mm的粘着剂涂布，设置PTFE过滤器22(有效过滤器面积78.5mm2)，将在防尘薄膜组件框架21的鼓出部29上设置的开口部塞住。其后，用CYTOP(旭硝子(株)制，CTX－S)制作厚度为0.28μm的防尘膜20，在比防尘薄膜组件框架21还大的铝框贴附。在将所述防尘膜20贴附于防尘薄膜组件框架21的接着层侧贴附的同时，将防尘薄膜组件框架21外侧的多余部分切除，得到实施例1的防尘薄膜组件

最后，所述防尘薄膜组件贴附于150mm×150mm的掩模基板后，将该掩模基板装入减压盒，用10秒进行33kPa的减压。此时，防尘膜20，由于防尘薄膜组件封闭空间的内外的压力差，在中央部有3mm膨胀，但是如原封不动地减压，防尘膜20的膨起逐渐变小，5分后可以确认到膨起消失。

<实施例2>

实施例2，为向着防尘薄膜组件下部设置通气孔25的场合。即，首先，准备与实施例1相同的外尺寸149mm×115mm×2.5mm，内尺寸145mm×111mm×2.5mm的铝合金制防尘薄膜组件框架21，如图6，图7表示的那样，为了在防尘薄膜组件框架21的四角设置通气孔25的开口部，形成厚度2mm的鼓出部29。再者，这些的鼓出部29中，如图7表示的那样，在将直径10mm的开口部27向着防尘薄膜组件下部设置的同时，通过在防尘薄膜组件框架21的外侧面设置直径1mm的开口部28，使其作为通气孔25。

然后，对上述那样的通气孔25形成的防尘薄膜组件框架21，进行与实施例1同样的处理，制作实施例2的防尘薄膜组件。再者，将所述防尘薄膜组件与实施例1同样，贴附于150mm×150mm的掩模基板上之后，将所述掩模基板放入减压盒，与实施例1相同的10秒，33kPa的减压，得到与向着防尘薄膜组件上部设置通气孔25的实施例1的场合相同的结果。

<实施例3>

实施例3中，准备与实施例1相比，其高度低，外尺寸149.4mm×116.6mm×1.7mm，内尺寸145.4mm×112.6mm×1.7mm的铝合金制防尘薄膜组件框架21。再者，与实施例1同样，在防尘薄膜组件框架21的四个角，设置通气孔25的开口部，使厚度1.7mm的鼓出部29在防尘薄膜组件框架21的边内侧形成。这些鼓出部29中，设置向着防尘薄膜组件上部的直径10mm的开口部27，进一步，在防尘薄膜组件框架21的外侧面设置直径1mm的开口部28，作为通气孔25。

然后，将形成通气孔25的防尘薄膜组件框架21用纯水洗净，在防尘薄膜组件框架21的下端面进行硅粘着剂(信越化学工业(株)制)的涂布。其后，将直径10mm，过滤精度0.3μm的SUS制过滤器22在防尘薄膜组件框架21的鼓出部29形成的通气孔25内设置。此时，过滤器22的外周部用硅涂布剂(信越化学工业(株)制，KE－101A/B)密封。

另外，在防尘薄膜组件框架21的上端面，进行硅涂布剂(信越化学工业(株)制)的涂布，在由多孔部支持的单晶硅的防尘膜20贴附的同时，将防尘薄膜组件框架21外侧的多余的防尘膜部分除去，得到实施例3的防尘薄膜组件。

最后，在将所述防尘薄膜组件在150mm×150mm的掩模基板上贴附后，将所述掩模基板放入减压盒，徐徐减压。此时，用不使防尘膜20破裂的减压速度减压到1kPa需要10分钟。

<实施例4>

实施例4，如图8，9表示的那样，将在防尘薄膜组件框架21的长边外侧形成的鼓出部29上使通气孔25的开口部向着防尘薄膜组件上部设置。即，实施例4中，准备与实施例3相同的外尺寸149.4mm×116.6mm×1.7mm，内尺寸145.4mm×112.6mm×1.7mm的铝合金制防尘薄膜组件框架21，为了在防尘薄膜组件框架21的长边外侧形成的鼓出部29上，将通气孔25的开口部设置，使厚度1.7mm的鼓出部29在防尘薄膜组件框架21的长边外侧形成。在该鼓出部29将长度30mm，幅10mm的开口部27向着防尘薄膜组件上部设置的同时，进一步，在防尘薄膜组件框架21的内侧面设置直径1mm的开口部28，作为通气孔25。

然后，将形成了通气孔25的防尘薄膜组件框架21用纯水洗净，在防尘薄膜组件框架21的下端面，进行硅粘着剂(信越化学工业(株)制)的涂布。其后，将纵横30mm，10mm，过滤精度0.3μm的SUS制过滤器22在防尘薄膜组件框架21的鼓出部形成的通气孔25内设置。此时，过滤器22的外周部用硅涂布剂(信越化学工业(株)制，KE－101A/B)封闭。

再者，在在防尘薄膜组件框架21的上端面涂布硅涂布剂(信越化学工业(株)制)，在将由多孔部支持的单晶硅的防尘膜20贴附的同时，将防尘薄膜组件框架21外侧的部分除去，得到实施例4的防尘薄膜组件。

最后，在所述防尘薄膜组件在150mm×150mm的掩模基板上贴附后，将该掩模基板放入减压盒，徐徐减压。此时，在以不使防尘膜20破裂的减压速度减压到1kPa需要5分钟。

<实施例5>

实施例5，为将鼓出部29在沿着防尘薄膜组件框架的内侧全周设置的场合。实施例5中，准备外尺寸151mm×118.5mm×1.5mm，内尺寸143mm×110.5mm×1.5mm的超级不胀钢制防尘薄膜组件框架21。在此，如图16以及图17表示的那样，防尘薄膜组件框架21的内侧的部分相当于鼓出部29，在此设置通气孔25的开口部。即，在防尘薄膜组件框架21中设置16个向着防尘薄膜组件上部的长度10.2mm，幅度2.7mm的开口部的同时，进一步，在防尘薄膜组件框架21的外侧面，对着各开口部各设置2个直径0.8mm的开口部，作为通气孔25。

然后，将形成了通气孔25的防尘薄膜组件框架21用纯水超声波洗净，在防尘薄膜组件框架21的下端面进行硅粘着剂(信越化学工业(株)制，X－40－3264)的涂布。其后，将纵横10mm，2.5mm，过滤精度0.3μm的SUS制过滤器22设置在在防尘薄膜组件框架21的鼓出部29形成的通气孔25内。

另外，将防尘薄膜组件框架21的上端面，将硅涂布剂(信越化学工业(株)制，KE－101)涂布，贴附作为防尘膜20的聚硅薄膜，制得实施例5的防尘薄膜组件。

最后，在所述防尘薄膜组件在152mm×152mm的掩模基板上贴附后，将该掩模基板放入减压盒，徐徐减压。此时，在以防尘膜20不破裂的减压速度减压至1kPa，需要5分钟。

<比较例1>

比较例1中，首先，准备与实施例1相同的外尺寸149mm×115mm×2.5mm，内尺寸145mm×111mm×2.5mm的铝合金制防尘薄膜组件框架。再者，与图11表示的那样，设置4个与防尘薄膜组件框架11的防尘膜接着层13的面或者掩模粘着层14的设置面垂直的二面贯通的，直径1mm的通气孔15。

然后，将形成了所述通气孔15的防尘薄膜组件框架11用纯水洗净，在防尘薄膜组件框架11的下端面，进行硅粘着剂(信越化学工业(株)制)的涂布，上端面进行CYTOP接着剂(旭硝子(株)制，CTX－A)的涂布。其后，防尘薄膜组件框架11加热至130℃，使粘着剂以及接着剂硬化。

再者，在外尺寸10mm×2mm的PTFE过滤器12的外周部进行幅度的0.5mm的粘着剂的涂布，设置PTFE过滤器12(有效过滤器面积9mm2)，使防尘薄膜组件框架11的外侧面的开口部18被塞住。其后，用CYTOP(旭硝子(株)制，CTX－S)制作厚度0.28μm的防尘膜10，将其在比防尘薄膜组件框架11还大的铝框贴附。在将所述防尘膜10在防尘薄膜组件框架11的接着层侧贴附的同时，将防尘薄膜组件框架11外侧的多余部分除去，制得比较例1的防尘薄膜组件。

最后，在将所述防尘薄膜组件在150mm×150mm的掩模基板上贴附后，将该掩模基板放入减压盒，用10秒钟减压至33kPa。此时，防尘膜10，由于防尘薄膜组件封闭空间的内外的压力差，中央部鼓出3mm，原封不动地减压，防尘膜10的膨起徐徐变小，但是为了使膨起完全解消，用了40分钟。

<比较例2>

比较例2中，首先，准备与实施例2相同的外尺寸149.4mm×116.6mm×1.7mm，内尺寸145.4mm×112.6mm×1.7mm的铝合金制防尘薄膜组件框架11。再者，与比较例1同样，设置4个直径1mm的通气孔15，使与防尘薄膜组件框架11的防尘膜接着层13的面或者掩模粘着层14的设置面垂直的二面贯通。

然后，将该通气孔15形成了的防尘薄膜组件框架11用纯水洗净，在防尘薄膜组件框架11的下端面进行硅粘着剂(信越化学工业(株)制)的涂布。其后，设置直径1.7mm，过滤精度0.3μm的SUS制过滤器12，将防尘薄膜组件框架11的外侧面的开口部18塞住。此时，将过滤器12的外周部用硅涂布剂(信越化学工业(株)制，KE－101A/B)密封。

另外，在防尘薄膜组件框架11的上端面，将硅涂布剂(信越化学工业(株)制)涂布，将与实施例2相同的由多孔部支持的单晶硅的防尘膜10贴附的同时，将防尘薄膜组件框架11外侧的多余部分除掉，得到比较例2的防尘薄膜组件。

最后，在将所述防尘薄膜组件在150mm×150mm的掩模基板上贴附后，将该所述掩模基板放入减压盒，进行减压。再者，如果用与实施例2同样的速度减压，防尘膜10破裂。因此，如用防尘膜10不破的减压速度减压，减压到1kPa需要2小时。

从以上的结果得知，本发明的防尘薄膜组件，由于可以将通气孔的开口部进而过滤器的有效面积做大，将防尘薄膜组件封闭空间的内外的压力差快速缓和，可以对防尘膜的破坏等的问题加以抑制。

符号的说明

10 防尘膜

11 防尘薄膜组件框架

12 过滤器

13 防尘膜接着层

14 掩模粘着层

15 通气孔

16 防尘薄膜组件封闭空间

17 防尘薄膜组件封闭空间内侧的开口部

18 防尘薄膜组件封闭空间外侧的开口部

20 防尘膜

21 防尘薄膜组件框架

22 过滤器

23 防尘膜接着层

24 掩模粘着层

25 通气孔

26 防尘薄膜组件封闭空间

27 防尘薄膜组件封闭空间内侧的开口部

28 防尘薄膜组件封闭空间外侧的开口部

29 鼓出部

Claims (8)

1.一种防尘薄膜组件，具有防尘薄膜组件框架，在所述防尘薄膜组件框架上设置的使防尘薄膜组件封闭空间的内外通气的通气孔以及在所述通气孔内设置的将该通气孔的至少一部分塞住的过滤器，其特征在于：所述通气孔的在防尘薄膜组件封闭空间内侧的开口部以及防尘薄膜组件封闭空间外侧的开口部中的至少任一个向着防尘薄膜组件上部或者防尘薄膜组件下部设置。

2.根据权利要求1的防尘薄膜组件，其特征为在于：所述过滤器将向着所述防尘薄膜组件上部或者防尘薄膜组件下部设置的所述通气孔的开口部塞住。

3.根据权利要求1或2的防尘薄膜组件，其特征在于：所述过滤器将所述通气孔的封闭空间内侧的开口部或者所述通气孔的封闭空间外侧的开口部塞住。

4.根据权利要求3的防尘薄膜组件，其特征在于：所述通气孔的封闭空间内侧的开口部或者所述通气孔的封闭空间外侧的开口部为向着所述防尘薄膜组件上部设置。

5.根据权利要求1至4的任一项的防尘薄膜组件，其特征在于：所述过滤器为在所述通气孔内或者所述通气孔外设置的。

6.根据权利要求1至5的任一项的防尘薄膜组件，其特征在于：所述通气孔为曲折或者弯曲。

7.根据权利要求1至6的任一项的防尘薄膜组件，其特征在于：所述通气孔为在所述防尘薄膜组件框架的边内侧或者边外侧形成的鼓出部设置的。

8.根据权利要求7的防尘薄膜组件，其特征在于：所述鼓出部是沿着所述防尘薄膜组件框架全周设置的。