KR102574361B1 - 펠리클 - Google Patents

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토루 시라사키
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신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
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Abstract

(과제) 본 발명의 목적은, 펠리클의 높이가 낮게 제한되어 있더라도, 필요한 크기의 통기공 개구부 및 유효 면적이 큰 필터를 설치하는 것이 가능하고, 펠리클 폐공간 내외의 압력차를 충분히 완화하는 것이 가능한 펠리클을 제공하는 것이다.
(해결 수단) 본 발명은, 펠리클 프레임(21)과, 이 펠리클 프레임(21)에 설치된 펠리클 폐공간의 내외를 통기하기 위한 통기공(25)과, 이 통기공(25)의 적어도 일부를 막도록 하여 설치된 필터(22)를 구비한 펠리클로서, 통기공(25)의 펠리클 폐공간 내측의 개구부(27) 및 펠리클 폐공간 외측의 개구부(28)의 적어도 어느 한쪽이, 펠리클 상부 또는 펠리클 하부를 향하여 형성되어 있는 것을 특징으로 한다. 그리고, 본 발명의 필터는, 펠리클 상부 또는 펠리클 하부를 향하여 형성되어 있는 통기공(25)의 개구부를 막도록 설치되어 있는 것이 바람직하다.

Description

펠리클{PELLICLE}
본 발명은, 반도체 디바이스, IC 패키지, 프린트 기판, 액정 디스플레이 또는 유기 EL 디스플레이 등을 제조할 때의 먼지막이로서 사용되는 펠리클에 관한 것이다.
최근, LSI의 디자인 룰은 서브쿼터 미크론으로 미세화가 진행되고 있으며, 그에 따라, 노광 광원의 단파장화가 진행되고 있다. 즉, 노광 광원은 수은 램프에 의한 g 선(436 nm), i 선(365 nm)으로부터, KrF 엑시머 레이저(248 nm), ArF 엑시머 레이저(193 nm) 등으로 이행되고 있으며, 나아가서는 주파장 13.5 nm의 EUV(Extreme Ultra Violet) 광을 사용하는 EUV 노광이 검토되고 있다.
LSI, 초LSI 등의 반도체 제조 또는 액정 표시판의 제조에 있어서는, 반도체 웨이퍼 또는 액정용 원판에 광을 조사하여 패턴을 제작하는데, 이 경우에 이용하는 리소그래피용 마스크(간단히 「마스크」라고도 함) 및 레티클(이하, 총칭하여 「노광 원판」이라고 기술함)에 먼지가 부착되어 있으면, 이 먼지가 광을 흡수하거나, 광을 굴절시키기 때문에, 전사한 패턴이 변형되거나, 에지가 조잡한 것이 되는 것 외에, 밑바탕이 검게 오염되거나 하여, 치수, 품질, 외관 등이 손상된다는 문제가 있었다.
이들 작업은 통상 클린룸에서 행해지고 있지만, 그래도 노광 원판을 항상 청정히 유지하기는 어렵다. 그래서, 노광 원판 표면에 먼지막이로서 펠리클을 첩부한 후에 노광을 하는 방법이 일반적으로 채용되고 있다. 이 경우, 이물은 노광 원판의 표면에는 직접 부착되지 않고 펠리클 상에 부착되기 때문에, 리소그래피시에 초점을 노광 원판의 패턴 상에 맞춰 두면, 펠리클 상의 이물은 전사와 무관해진다.
이 펠리클의 기본적인 구성은, 펠리클 프레임의 상단면에 노광에 사용되는 광에 대하여 투과율이 높은 펠리클막이 설치됨과 동시에, 하단면에 기밀용 개스킷이 형성되어 있는 것이다. 기밀용 개스킷은 일반적으로 점착제층이 이용된다. 펠리클막은, 노광에 이용하는 광[수은 램프에 의한 g 선(436 nm), i 선(365 nm), KrF 엑시머 레이저(248 nm), ArF 엑시머 레이저(193 nm) 등]을 잘 투과시키는 니트로셀룰로오스, 아세트산셀룰로오스, 불소계 폴리머 등으로 이루어지지만, EUV 노광용에서는, 펠리클막으로서 극박 실리콘이 검토되고 있다.
펠리클은, 노광 원판 상에 먼지가 부착되는 것을 방지하기 위해 설치되는 것으로, 이 펠리클의 점착제층을 노광 원판에 압력을 가하여 눌러 댐으로써 첩부된다. 이 때, 펠리클은, 노광 원판의 표면에 형성된 패턴 영역을 둘러싸도록 설치되기 때문에, 노광 원판의 패턴 영역은, 펠리클의 외부의 진애가 패턴면에 부착되지 않도록 펠리클의 외부로부터 격리되어 있다. 그리고, 펠리클막과 펠리클 프레임과 노광 원판에 의해 펠리클 폐공간이 형성되게 된다.
이 펠리클 폐공간은, 밀폐 공간이 되기 때문에 외부의 압력이 변화되면, 펠리클 내외의 압력차에 의해 펠리클막에 압력이 가해져, 불소 폴리머 등의 수지막의 경우에는, 펠리클막의 팽창, 함몰이 발생하게 된다. 또한, EUV 노광에 있어서는, 노광 환경이 진공이기 때문에 노광 장치에 대한 마스크의 출입시에 진공 배기가 이루어지므로, 극박 실리콘막의 경우에는, 조금의 압력차에 의한 응력에 의해 실리콘막이 파괴될 가능성이 높아진다.
그래서, 이러한 밀폐 공간의 내외의 압력차를 완화하기 위해, 펠리클 프레임에는 내외를 잇는 통기공을 형성하는 것이 일반적이고, 이 통기공을 통해 공기가 통과하도록 되어 있다. 예컨대, 특허문헌 1에는, 펠리클 프레임의 측부에 기압 조정용의 통기공을 형성함과 동시에, 이 펠리클 프레임의 외측면에 이 통기공을 덮어 파티클의 침입을 방지하는 필터를 설치한 펠리클이 기재되어 있다. 또한, 특허문헌 2에는, 펠리클이 진공하에서 사용된 경우에도, 그 압력차에 의해 신축되거나 파손되는 경우가 없는 EUV용 펠리클로서, 외프레임부의 내측 영역의 다공부를 갖는 지지 부재와, 이 지지 부재의 프레임부에 기체를 투과하는 필터와, 다공부에 의해 지지된 단결정 실리콘의 펠리클막을 구비한 펠리클이 기재되어 있다.
이와 같이, 종래의 펠리클에서는, 기압 조정용의 통기공이나 이 통기공으로부터 파티클의 침입을 방지하기 위한 필터가 구비되어 있다. 그리고, 이 펠리클의 통기공의 개구부는, 펠리클 프레임의 펠리클막 접착면 또는 점착제층 설치면에 대하여 수직인 2면에 형성되어 있음과 동시에, 필터는, 펠리클 프레임 외측면의 개구부를 막도록 설치되어 있다. 또한, 공기가 필터를 통과할 때에는, 통기 속도(통기량)가 작아지기 때문에, 특히 EUV 노광일 때와 같이 진공 배기를 행하는 경우나 펠리클 폐공간 내외의 약간의 압력차가 문제가 되는 것과 같은 경우에는, 적어도 필터가 설치되는 쪽의 통기공 개구부의 면적을 크게 하여, 필터의 유효 면적을 충분히 크게 할 필요가 있다.
특허문헌 1: 일본 특허 공개 평10-198021호 특허문헌 2: 일본 특허 공개 제2010-256434호
그러나, 최근에는 펠리클의 높이를 낮게 하는 경향이 있고, 그에 따라 펠리클 프레임의 외측면의 높이도 낮아지기 때문에, 통기공 개구부나 나아가서는 필터의 유효 면적을 작게 하지 않을 수 없다는 문제가 발생하고 있다. 특히, EUV용 펠리클은, 그 높이를 매우 낮게 할 것이 요구되고 있기 때문에, 종래와 같은 펠리클 프레임의 외측면에 필터를 설치하는 방법에서는, 필터의 유효 면적도 매우 작게 하지 않을 수 없다는 문제가 발생하고 있다.
대기압하에서 사용되는 ArF용 펠리클에서는, 펠리클 폐공간 내외의 압력 변화는 작고, 필터의 통기성은 큰 문제가 되지 않지만, 역시 ArF용의 펠리클에서도 펠리클 프레임의 높이는 낮아지고 있기 때문에, 펠리클 프레임의 측면에 설치할 수 있는 필터의 사이즈는 상당히 한정되게 되었다.
한편, EUV용 펠리클에서는, 대기압하에서 마스크에 장착되고, 노광 장치 내에서는 진공하에서 사용되기 때문에, EUV용 펠리클을 노광 장치에 넣을 때에는 펠리클 폐공간 내의 공기를 배출할 필요가 있다. 그리고, 이 때에 필터의 유효 면적이 충분히 크지 않으면, 펠리클 폐공간의 내외에 압력차가 발생하여, 펠리클막이 파괴되는 등의 문제가 생길 우려가 있다. 따라서, EUV용 펠리클에는 충분히 큰 통기공 개구부를 형성한 후에 필터를 설치할 필요가 있지만, 전술한 바와 같이, EUV용 펠리클의 높이가 매우 낮게 제한되어 있기 때문에, 종래와 같은 펠리클 프레임의 외측면에 필터를 설치하는 방법으로는, 필요한 크기의 통기공 개구부를 형성하고 그곳에 필터를 설치하는 것이 곤란한 상황이 되었다.
그래서, 본 발명은, 상기한 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적은, 펠리클의 높이가 낮게 제한되어 있더라도, 필요한 크기의 통기공 개구부 및 유효 면적이 큰 필터를 설치하는 것이 가능하고, 펠리클 폐공간 내외의 압력차를 충분히 완화하는 것이 가능한 펠리클을 제공하는 것이다.
본 발명은, 펠리클 프레임과, 이 펠리클 프레임에 설치된 펠리클 폐공간의 내외를 통기하기 위한 통기공과, 이 통기공의 적어도 일부를 막도록 하여 설치된 필터를 구비한 펠리클로서, 통기공의 펠리클 폐공간 내측의 개구부 및 펠리클 폐공간 외측의 개구부 중 적어도 어느 한쪽이, 펠리클 상부 또는 펠리클 하부를 향하여 형성되어 있는 것을 특징으로 한다. 그리고, 본 발명의 필터는, 펠리클 상부 또는 펠리클 하부를 향하여 형성되어 있는 통기공의 개구부를 막도록 설치되어 있는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 필터는, 통기공의 폐공간 내측의 개구부 또는 상기 통기공의 폐공간 외측의 개구부를 막도록 하여 설치되어 있는 것이 바람직하고, 이 통기공의 폐공간 내측의 개구부 또는 상기 통기공의 폐공간 외측의 개구부는, 펠리클 상부를 향하여 형성되어 있는 것이 보다 바람직하다.
또한, 본 발명의 필터는, 통기공 내의 또는 통기공 외의 어디에도 설치하는 것이 가능하고, 그 경우, 통기공은, 굴곡 또는 만곡되어 있는 것이 바람직하고, 이 통기공은, 펠리클 프레임의 변 내측에 또는 변 외측에 돌출부를 형성하고, 이 돌출부에 설치하는 것이 바람직하다. 그리고, 이 돌출부는, 펠리클 프레임 전체 둘레에 걸쳐 따르도록 형성되어 있는 것이 바람직하다.
본 발명에 의하면, 통기공 개구부 및 필터의 크기가 펠리클의 높이에 의해 제한되지 않고, 펠리클의 높이가 낮게 제한되어 있는 경우라도, 필터의 유효 면적을 충분히 크게 할 수 있기 때문에, 펠리클 폐공간 내외의 압력차를 신속히 완화하는 것이 가능하여, 펠리클막의 파괴 등의 문제를 억제할 수 있다는 효과가 얻어진다.
도 1은, 본 발명의 펠리클의 한 실시형태를 도시하는 모식도이다.
도 2는, 도 1의 펠리클의 필터 설치부의 단면도이다.
도 3은, 본 발명의 펠리클의 다른 실시형태를 도시하는 모식도이다.
도 4는, 도 3의 펠리클의 필터 설치부의 단면도이다.
도 5는, 실시예 1 및 3에서 이용하는 펠리클의 모식도이다.
도 6은, 본 발명의 펠리클의 다른 실시형태를 도시하는 모식도이다.
도 7은, 도 6의 펠리클의 필터 설치부의 단면도이다.
도 8은, 본 발명의 펠리클의 다른 실시형태를 도시하는 모식도이다.
도 9는, 도 8의 펠리클의 필터 설치부의 단면도이다.
도 10은, 종래의 펠리클이나 비교예 1 및 2를 도시하는 모식도이다.
도 11은, 도 10의 펠리클의 필터 설치부의 단면도이다.
도 12는, 돌출부를 펠리클 프레임의 외측 전체 둘레에 걸쳐 형성한 실시양태를 도시하는 모식도이다.
도 13은, 도 12의 펠리클의 필터 설치부의 단면도이다.
도 14는, 돌출부를 펠리클 프레임의 외측 전체 둘레에 걸쳐 형성한 다른 실시양태를 도시하는 모식도이다.
도 15는, 도 14의 펠리클의 필터 설치부의 단면도이다.
도 16은, 돌출부를 펠리클 프레임의 내측 전체 둘레에 걸쳐 따르도록 형성한 실시예 5의 모식도이다.
도 17은, 도 16의 펠리클의 필터 설치부의 단면도이다.
이하, 본 발명의 한 실시형태를 도면에 기초하여 상세히 설명하지만, 본 발명은 이것에 전혀 한정되지 않는다.
도 1, 3, 6, 8은, 본 발명 펠리클의 한 실시형태의 모식도이고, 도 2, 4, 7, 9는, 본 발명 펠리클의 필터 설치부의 단면을 모식적으로 도시한 것이다. 또한, 도 5는, 실시예 1 및 2에서 이용하는 펠리클의 모식도이다.
통상의 펠리클은, 도 10, 11에 나타내는 바와 같이, 펠리클 프레임(11), 펠리클막(10), 펠리클막 접착층(13), 마스크 기판 또는 노광 원판의 점착층(14)[이하, 마스크 점착층(14)이라고 함], 통기공(15), 필터(12) 등으로 구성되어 있다. 또한, 통상, 마스크 점착층(14)의 표면을 보호하기 위해 세퍼레이터가 부착되지만, 도면에서는 생략되어 있다.
이 펠리클을 마스크 기판 또는 노광 원판에 장착했을 때, 펠리클막(10), 펠리클 프레임(11), 마스크 또는 노광 원판(도시하지 않음), 펠리클막 접착층(13), 마스크 점착층(14)에 둘러싸인 폐공간이 생기게 된다. 펠리클을 마스크 기판 또는 노광 원판에 장착하지 않은 상태에서는 이 폐공간은 생길 수 없지만, 편의상, 마스크 기판 또는 노광 원판의 존재를 가정하고, 이 공간을 펠리클 폐공간으로 정의한다. 또한, 펠리클 프레임(11)을 기준으로 하여, 펠리클막 접착층(13)측을 펠리클 상부, 마스크 점착층(14)측을 펠리클 하부로 한다.
종래의 펠리클에서는, 도 11에 나타내는 바와 같이, 통기공(15)은, 펠리클 프레임(11)의 펠리클막 접착층(13)의 면 또는 마스크 점착층(14)의 설치면에 대하여 수직인 2면을 관통하도록 형성되어 있기 때문에, 이 통기공(15)의 개구부의 크기나 통기공(15)에 설치되는 필터(12)의 크기는, 펠리클의 높이에 제한되게 된다.
이에 대하여, 본 발명의 펠리클에서는, 도 2 및 도 4에 나타내는 바와 같이, 통기공(25)의 펠리클 폐공간 내측의 개구부(27) 및 펠리클 폐공간 외측의 개구부(28)의 적어도 어느 한쪽이, 펠리클 상부를 향하여 형성되어 있다. 또한, 도 7에 나타내는 바와 같이, 통기공(25)의 펠리클 폐공간 내측의 개구부(27)를 펠리클 하부를 향하여 형성할 수도 있다. 또한, 도시하지 않았지만, 도 4의 펠리클 폐공간 외측의 개구부(28)를 펠리클 하부를 향하여 형성할 수도 있기 때문에, 이 통기공(25)의 개구부의 크기나 통기공(25)에 설치되는 필터(22)의 크기는, 펠리클의 높이에 제한되는 경우는 없다. 본 발명에 있어서, 펠리클 프레임의 높이는 1.5∼2.5 mm일 수 있다.
따라서, 본 발명의 펠리클에서는, 필터(22)의 유효 면적은, 종래의 필터와 비교하여 크게 할 수 있지만, 펠리클 내의 공간은 회로 패턴에 사용되고, 펠리클 외부는 마스크 핸들링에 사용되기 때문에, 필터를 지나치게 크게 하면 이들 영역을 필터로 점유하게 되므로 운용에 지장을 초래할 가능성이 있다. 필터의 유효 면적은 크면 큰 쪽이 효과는 높아지지만, 마스크 상에서 다른 영역으로 진출하게 되기 때문에, 종합적으로 생각하여 적절한 크기로 할 필요가 있다.
도 1, 2에 나타내는 한 실시양태는, 펠리클 프레임(21)에 통기공(25)의 펠리클 폐공간 내측의 개구부(27)가 펠리클 상부를 향하여 형성되어 있는 예이다. 또한, 도 3, 4에 나타내는 다른 실시양태는, 펠리클 프레임(21)에 통기공(25)의 펠리클 폐공간 외측의 개구부(28)가 펠리클 상부를 향하여 형성되어 있는 예이다. 본 발명의 펠리클에서는, 도 7에 나타내는 다른 실시양태와 같이, 이 개구부(27)를 펠리클 하부를 향하여 형성할 수도 있다.
본 발명의 펠리클 상부 또는 펠리클 하부를 향하여 형성되는 개구부는, 반드시 펠리클 프레임(21)의 펠리클막 접착층(23)의 면 또는 마스크 점착층(24)의 설치면에 대하여 평행하게 형성할 필요는 없다. 다만, 개구부를 따른 펠리클 프레임(21)의 면과 펠리클 프레임(21)의 펠리클막 접착층(23)의 면 또는 마스크 점착층(24)의 설치면이 이루는 각도는, 클수록 통기공(25)의 개구부의 크기나 통기공(25)에 설치하는 필터(22)의 크기가 펠리클의 높이에 제한되기 때문에, 45도 이하인 것이 바람직하다.
본 발명의 펠리클에서는, 통기공(25)의 펠리클 폐공간 내측의 개구부(27) 및 펠리클 폐공간 외측의 개구부(28)의 양쪽을 펠리클 상부 또는 펠리클 하부를 향하여 형성할 수도 있지만, 제조의 간편성이나 비용을 고려하면, 적어도 어느 한쪽만을 펠리클 상부 또는 펠리클 하부를 향하여 형성하는 것이 바람직하다.
본 발명의 펠리클 폐공간의 내외를 통기하기 위한 통기공(25)은, 펠리클 프레임(21)의 변 내측에 또는 변 외측에 돌출부(29)를 형성하고, 이 돌출부(29)에 형성하는 것이 바람직하다. 또한, 그 형상에는 제한이 없으며, 직선형이어도 좋고, 굴곡 또는 만곡한 형상이어도 좋다. 다만, 통기공(25)을 직선형으로 형성하는 경우에는, 제조 공정에 있어서는 간편하지만, 통기공(25)에 의해 펠리클 프레임(21)의 형상이나 통기공(25)의 개구부를 형성하는 위치가 제한되어 버릴 가능성이 있다. 따라서, 통기공(25)의 형상은, 굴곡 또는 만곡한 형상인 것이 바람직하고, 그 제조의 간편성을 고려하면, 굴곡진 형상인 것이 특히 바람직하다. 이 경우, 굴곡부는 모서리부를 갖고 있어도 좋고, 모따기 가공 등에 의해 완만하게 굴곡져 있어도 좋다. 또한, 굴곡부가 이루는 각도에도 제한은 없다.
펠리클 프레임(21)의 폭을 통상보다 크게 할 수 있는 경우에는, 펠리클막 접착층(23) 또는 마스크 점착층(24)이 없는 부분을 형성하고, 그곳에 통기공(25)의 개구부를 형성해도 좋다. 도 12 내지 도 15에는, 펠리클 프레임(21)의 외측 전체 둘레에 걸쳐 복수개의 개구부를 형성한 한 실시양태를 나타낸다. 그리고, 이러한 실시양태의 경우, 돌출부(29)가 펠리클 프레임 전체 둘레에 걸쳐 따르도록 형성되어 있다고 할 수 있다. 이와 같이 하면, 펠리클 프레임(21)에 돌출된 부분이 없기 때문에, 포토마스크에 형성된 패턴 영역을 제한하는 경우가 없고, 또한, 펠리클의 핸들링을 저해하는 경우도 없기 때문에 바람직하다. 본 발명에 있어서, 펠리클 프레임의 폭은 4∼8 mm일 수 있다.
본 발명의 필터(22)는, 통기공(25)의 적어도 일부를 막도록 설치되는데, 통기공(25) 내에 매립되도록 설치해도 좋고, 통기공(25)의 개구부를 덮도록 통기공(25) 외에 설치해도 좋다. 또한, 필터(22)의 설치 위치는, 펠리클 상부 또는 펠리클 하부를 향하여 형성된 개구부를 막는 위치인 것이 바람직하다. 본 발명의 펠리클에서는, 펠리클 상부 또는 펠리클 하부를 향하여 형성된 개구부는, 펠리클의 높이에 상관없이 크게 형성할 수 있기 때문에, 이 개구부를 막도록 필터(22)를 설치함으로써, 필터(22)의 유효 면적을 크게 할 수 있다.
필터(22)의 재질이나 구조에는 제한이 없고, 공지된 필터를 이용할 수 있다. 예컨대, 수지, 세라믹스, 금속 등의 다공질 재료로 이루어지는 필터나 섬유형의 재료를 조합한 필터 등을 이용할 수 있다.
본 발명의 펠리클에서는, 통기공(25)의 펠리클 폐공간 내측의 개구부(27)는, 펠리클 상부를 향하여 형성되어 있는 것이 바람직하고, 필터(22)는, 이 펠리클 상부를 향하여 형성되어 있는 펠리클 폐공간 내측의 개구부(27)를 막도록 하여 설치되어 있는 것이 보다 바람직하다. 이것은, 먼지 등이 통기공(25)을 통과하여 침입한 경우에, 이물이 마스크 기판 또는 노광 원판에 직접 부착되지 않도록 하기 위해서이다. 또한, 통기공(25)의 펠리클 폐공간 내측의 개구부(27)를 펠리클 하부, 즉 마스크 기판 또는 노광 원판측을 향하여 형성한 경우, 특히 EUV 노광시에는, 진공으로부터 대기압으로 되돌릴 때에 먼지 등이 통기공(25)을 통과하여 침입하면, 유입되는 공기에 압출되어 마스크 기판 또는 노광 원판에 부착되는 것을 생각할 수 있기 때문이다.
각 펠리클 구성 부재의 크기는, 통상의 펠리클, 예컨대 반도체 집적 회로 제조에 있어서의 리소그래피용 펠리클이나, 대형 액정 표시 장치 제조에 있어서의 리소그래피용 펠리클 등과 마찬가지이고, 필요에 따라 변경할 수 있다. 또한, 각 펠리클 구성 부재의 재질에 관해서도 특별히 제한은 없고, 공지된 재질로 할 수 있다.
펠리클막(20)의 재질로는, 특별히 제한은 없지만, 노광 광원의 파장에서의 투과율이 높고 내광성이 높은 것이 바람직하다. 예컨대, 종래 엑시머 레이저용으로 사용되고 있는 비정질 불소 폴리머 등이 이용된다. 비정질 불소 폴리머의 예로는, 사이톱(아사히 가라스(주) 제조 상품명), 테플론(등록 상표), AF(듀퐁사 제조 상품명) 등을 들 수 있다. 이들 폴리머는, 펠리클막의 제작시에 필요에 따라 용매에 용해하여 사용해도 좋고, 예컨대 불소계 용매 등으로 적절히 용해할 수 있다.
또한, 펠리클막(20)을 펠리클 프레임(21)에 설치하는 방법은, 특별히 제한은 없고, 공지된 방법을 이용할 수 있다.
펠리클막(20)과 펠리클 프레임(21)을 접착하기 위한 접착제로는, 종래부터 사용되고 있는 재료를 사용할 수 있다. 구체적으로는, 예컨대, 아크릴 수지 접착제, 에폭시 수지 접착제, 실리콘 수지 접착제, 함불소 실리콘 접착제 등의 불소 폴리머 등을 들 수 있다. 그 중에서도 불소계 폴리머가 적합하다. 불소계 폴리머로는, 구체적으로는 사이톱(아사히 가라스(주) 제조 상품명) 등을 들 수 있다. 접착제는, 필요에 따라 용매에 의해 희석되어, 펠리클 프레임의 상단면에 도포된다. 이 경우의 도포 방법으로는, 브러싱, 스프레이, 자동 디스펜서 등에 의한 방법이 채용된다.
펠리클을 마스크 기판에 장착하기 위한 마스크 점착층(24)은, 양면 점착 테이프, 실리콘계 점착제, 아크릴계 점착제 등의 공지된 점착제로 형성할 수 있다. 통상, 펠리클 프레임(21)의 하단면에 마스크 점착층(24)이 형성되고, 또한 세퍼레이터(도시하지 않음)가 박리 가능하게 첩부된다.
세퍼레이터의 재질은, 특별히 제한되지 않지만, 예컨대, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE), 테트라플루오로에틸렌·퍼플루오로알킬비닐에테르 공중합체(PFA), 폴리에틸렌(PE), 폴리카보네이트(PC), 폴리염화비닐(PVC), 폴리프로필렌(PP) 등을 사용할 수 있다. 또한, 마스크 점착층(24)의 점착력에 따라, 실리콘계 이형제나 불소계 이형제 등의 이형제를 세퍼레이터의 표면에 도포해도 좋다. 이 세퍼레이터는, 펠리클 수납 용기 또는 펠리클 지지 방법 등의 고안에 의해 생략하는 것도 가능하다.
본 발명의 펠리클 프레임(21)의 모재로는, 펠리클 프레임으로서의 강도와 강성이 확보되는 한 특별히 제한은 없고, 예컨대, 알루미늄, 알루미늄 합금(JIS 5000계, 6000계, 7000계 등), 철, 철계 합금, 세라믹스(SiC, AlN, Al2O3 등), 세라믹스 금속 복합 재료(Al-SiC, Al-AlN, Al-Al2O3 등), 탄소강, 공구강, 스테인리스강, 엔지니어링 플라스틱(PE, PA, PEEK 등), 탄소 섬유 복합 재료(GFRP, CFRP 등) 등을 들 수 있다. 그 중에서도 알루미늄 및 알루미늄 합금이 강도, 강성, 경량, 비용의 면에서 바람직하다.
펠리클 프레임(21)의 표면에는, 필요에 따라 양극 산화 처리, 도금 처리, 폴리머 코팅, 도장 등의 처리가 실시되어 있어도 좋다. 또한, 노광광의 반사 억제나 이물 검사에서의 시인성 향상의 관점에서, 펠리클 프레임(21)은 흑색인 것이 바람직하다. 특히 펠리클 프레임(21)의 모재로서 알루미늄 합금을 사용하는 경우에는, 표면을 스테인리스 비드, 유리 비드, 카보런덤 등을 사용하여 조화(粗化)하고, 또한 흑색 알루마이트 처리를 실시하는 것이 바람직하다.
펠리클 프레임(21)의 펠리클 폐공간에 면하는 부분에는, 이물을 포착하기 위해 점착제를 도포해도 좋다. 이밖에, 필요에 따라 각종 구성 부재를 추가해도 좋고, 또한, 펠리클로서의 기능을 만족하는 한은 구성 부재의 일부를 제거해도 좋다.
또, EUV용 펠리클의 경우, 펠리클 프레임으로서 엑시머 레이저용 펠리클과 동일한 재료를 사용할 수 있다. 또한, 펠리클막으로는 다공부를 갖는 지지 부재와, 이 다공부에 의해 지지된 단결정 실리콘의 펠리클막이 사용 가능하다. 단결정 실리콘의 펠리클막을 펠리클 프레임에 설치할 때에는, 실리콘 수지 접착제를 사용할 수 있는데, 특히 발가스를 억제한 실리콘 수지가 적합하다. 한편, 펠리클을 노광 원판에 장착하기 위한 점착층에도 실리콘계 점착제가 사용 가능하고, 이 경우에도 발가스를 억제한 실리콘 수지가 적합하다.
또한, 필터에 관해서도, 엑시머 레이저용 펠리클과 동일한 공지된 필터를 이용할 수 있다. 수지, 세라믹스, 금속 등의 다공질 재료로 이루어지는 필터나 섬유형의 재료를 조합한 필터 등을 사용할 수 있다.
EUV 노광을 행할 때에는, 펠리클을 장착한 마스크 기판 또는 노광 원판을 노광 장치에 넣고, 노광 장치 내를 진공 배기할 필요가 있고, 또한, 노광 원판 등을 노광 장치로부터 꺼낼 때에는, 반대로 장치 내를 진공 상태로부터 대기압으로 되돌려야 한다. 이 때, 펠리클과 노광 원판 등에 둘러싸인 펠리클 폐공간 내에도 공기를 유출입시켜, 펠리클 폐공간 내외의 기압차가 생기지 않도록 할 필요가 있기 때문에, EUV용 펠리클에서는 종래의 엑시머 레이저용 펠리클에 비해 높은 통기성을 확보해야 한다. 따라서, 통기공(25)의 필터(22)가 설치되는 쪽의 개구부를 크게 하여, 필터(22)의 유효 면적을 충분히 크게 할 필요가 있다.
이하, 본 발명을 실시예 및 비교예를 개시하여 구체적으로 설명한다. 또, 실시예 및 비교예에서의 「마스크 기판」은 「노광 원판」의 예로서 이용한 것이고, 본 발명은 노광 원판 전반에 대하여 적용하는 것이 가능하다.
<실시예 1>
실시예 1에서는, 처음에, 외치수 149 mm×115 mm×2.5 mm, 내치수 145 mm×111 mm×2.5 mm의 알루미늄 합금제 펠리클 프레임(21)을 준비했다. 그리고, 도 5에 나타내는 바와 같이, 펠리클 프레임(21)의 네 모퉁이에 통기공(25)의 개구부를 형성하기 위해, 두께 2 mm의 돌출부(29)를 펠리클 프레임(21)의 변 내측에 형성했다. 그리고, 이들 돌출부(29)에는, 도 2에 나타내는 바와 같이, 직경 10 mm의 개구부(27)를 펠리클 상부를 향하여 형성함과 동시에, 또한, 펠리클 프레임(21)의 외측면에 직경 1 mm의 개구부(28)를 형성함으로써 통기공(25)으로 했다.
다음으로, 통기공(25)을 형성한 펠리클 프레임(21)을 순수로 세정하고, 펠리클 프레임(21)의 하단면에는 실리콘 점착제(신에츠 화학 공업(주) 제조)를 도포하고, 상단면에는 사이톱 접착제(아사히 가라스(주) 제조, CTX-A)를 도포했다. 그 후, 130℃까지 펠리클 프레임(21)을 가열하여, 점착제 및 접착제를 경화시켰다.
또한, 직경 11 mm의 PTFE 필터(22)의 외주부에는 폭 0.5 mm의 점착제를 도포하고, 펠리클 프레임(21)의 돌출부(29)에 형성한 개구부를 막도록 PTFE 필터(22)(유효 필터 면적 78.5 mm2)를 설치했다. 그 후, 사이톱(아사히 가라스(주) 제조, CTX-S)을 이용하여 두께 0.28 ㎛의 펠리클막(20)을 제작하고, 펠리클 프레임(21)보다 큰 알루미늄 프레임에 첩부했다. 이 펠리클막(20)을 펠리클 프레임(21)의 접착층측에 첩부함과 동시에, 펠리클 프레임(21)보다 외측의 부분을 제거하여, 실시예 1의 펠리클을 제작했다.
마지막으로, 이 펠리클을 150 mm×150 mm의 마스크 기판에 첩부한 후에, 이 마스크 기판을 감압 박스에 넣어 10초간 33 kPa의 감압을 행했다. 이 때, 펠리클막(20)은, 펠리클 폐공간 내외의 압력차에 의해 중앙부가 3 mm 팽창했지만, 그대로 감압을 유지한 바, 펠리클막(20)의 팽창은 서서히 작아져, 5분 후에 팽창이 해소되는 것이 확인되었다.
<실시예 2>
실시예 2는, 펠리클 하부를 향하여 통기공(25)을 형성한 경우이다. 즉, 처음에, 실시예 1과 동일한 외치수 149 mm×115 mm×2.5 mm, 내치수 145 mm×111 mm×2.5 mm의 알루미늄 합금제 펠리클 프레임(21)을 준비하고, 도 6, 도 7에 나타내는 바와 같이, 펠리클 프레임(21)의 네 모퉁이에 통기공(25)의 개구부를 형성하기 위해, 두께 2 mm의 돌출부(29)를 형성했다. 그리고, 이들 돌출부(29)에는, 도 7에 나타내는 바와 같이, 직경 10 mm의 개구부(27)를 펠리클 하부를 향하여 형성함과 동시에, 펠리클 프레임(21)의 외측면에 직경 1 mm의 개구부(28)를 형성함으로써 통기공(25)으로 했다.
다음으로, 이러한 통기공(25)을 형성한 펠리클 프레임(21)에 실시예 1과 동일한 처리를 실시하여, 실시예 2의 펠리클을 제작했다. 그리고, 이 펠리클을 실시예 1과 동일하게, 150 mm×150 mm의 마스크 기판에 첩부한 후에, 이 마스크 기판을 감압 박스에 넣어 실시예 1과 동일한 10초간 33 kPa의 감압을 행한 바, 펠리클 상부를 향하여 통기공(25)을 형성한 실시예 1의 경우와 동일한 결과가 얻어지는 것이 확인되었다.
<실시예 3>
실시예 3에서는, 실시예 1과 비교하여, 그 높이가 낮은 외치수 149.4 mm×116.6 mm×1.7 mm, 내치수 145.4 mm×112.6 mm×1.7 mm의 알루미늄 합금제 펠리클 프레임(21)을 준비했다. 그리고, 실시예 1과 동일하게, 펠리클 프레임(21)의 네 모퉁이에 통기공(25)의 개구부를 형성하기 위해, 두께 1.7 mm의 돌출부(29)를 펠리클 프레임(21)의 변 내측에 형성했다. 이들 돌출부(29)에는, 직경 10 mm의 개구부(27)를 펠리클 상부를 향하여 형성하고, 또한, 펠리클 프레임(21)의 외측면에 직경 1 mm의 개구부(28)를 형성함으로써 통기공(25)으로 했다.
다음으로, 통기공(25)을 형성한 펠리클 프레임(21)을 순수로 세정하고, 펠리클 프레임(21)의 하단면에 실리콘 점착제(신에츠 화학 공업(주) 제조)를 도포했다. 그 후, 직경 10 mm이고, 여과 정밀도 0.3 ㎛인 SUS제 필터(22)를 펠리클 프레임(21)의 돌출부(29)에 형성한 통기공(25) 내에 설치했다. 이 때, 필터(22)의 외주부를 실리콘 포팅제(신에츠 화학 공업(주) 제조, KE-101A/B)로 시일했다.
또한, 펠리클 프레임(21)의 상단면에는 실리콘 포팅제(신에츠 화학 공업(주) 제조)를 도포하고, 펠리클막으로서 다공부에 의해 지지된 단결정 실리콘의 펠리클막(20)을 첩부함과 동시에, 펠리클 프레임(21)보다 외측의 부분을 제거하여, 실시예 3의 펠리클을 제작했다.
마지막으로, 이 펠리클을 150 mm×150 mm의 마스크 기판에 첩부한 후에, 이 마스크 기판을 감압 박스에 넣어 서서히 감압을 행했다. 이 때, 펠리클막(20)이 파괴되지 않도록 감압 속도를 조절한 바, 1 kPa까지 감압하는 데에 10분을 요하는 것이 확인되었다.
<실시예 4>
실시예 4는, 도 8, 9에 나타내는 바와 같이, 펠리클 프레임(21)의 장변 외측에 형성한 돌출부(29)에 통기공(25)의 개구부를 펠리클 상부를 향하여 형성한 경우이다. 즉, 실시예 4에서는, 실시예 3과 동일한 외치수 149.4 mm×116.6 mm×1.7 mm, 내치수 145.4 mm×112.6 mm×1.7 mm의 알루미늄 합금제 펠리클 프레임(21)을 준비하고, 펠리클 프레임(21)의 장변 외측에 형성한 돌출부(29)에 통기공(25)의 개구부를 형성하기 위해, 두께 1.7 mm의 돌출부(29)를 펠리클 프레임(21)의 장변 외측에 형성했다. 이들 돌출부(29)에는, 길이 30 mm, 폭 10 mm의 개구부(27)를 펠리클 상부를 향하여 형성함과 동시에, 또한, 펠리클 프레임(21)의 내측면에 직경 1 mm의 개구부(28)를 형성함으로써 통기공(25)으로 했다.
다음으로, 통기공(25)을 형성한 펠리클 프레임(21)을 순수로 세정하고, 펠리클 프레임(21)의 하단면에 실리콘 점착제(신에츠 화학 공업(주) 제조)를 도포했다. 그 후, 가로 세로 30 mm, 10 mm이고, 여과 정밀도 0.3 ㎛인 SUS제 필터(22)를 펠리클 프레임(21)의 돌출부에 설치한 통기공(25) 내에 설치했다. 이 때, 필터(22)의 외주부를 실리콘 포팅제(신에츠 화학 공업(주) 제조, KE-101A/B)로 시일했다.
또한, 펠리클 프레임(21)의 상단면에는 실리콘 포팅제(신에츠 화학 공업(주) 제조)를 도포하고, 펠리클막으로서 다공부에 의해 지지된 단결정 실리콘의 펠리클막(20)을 첩부함과 동시에, 펠리클 프레임(21)보다 외측의 부분을 제거하여, 실시예 4의 펠리클을 제작했다.
마지막으로, 이 펠리클을 150 mm×150 mm의 마스크 기판에 첩부한 후에, 이 마스크 기판을 감압 박스에 넣어 서서히 감압을 행했다. 이 때, 펠리클막(20)이 파괴되지 않도록 감압 속도를 조절한 바, 1 kPa까지 감압하는 데에 5분을 요하는 것이 확인되었다.
<실시예 5>
실시예 5는, 돌출부(29)를 펠리클 프레임의 내측 전체 둘레에 걸쳐 따르도록 형성한 경우이다. 실시예 5에서는, 외치수 151 mm×118.5 mm×1.5 mm, 내치수 143 mm×110.5 mm×1.5 mm의 수퍼인바제 펠리클 프레임(21)을 준비했다. 여기서는, 도 16 및 도 17에 나타내는 바와 같이, 펠리클 프레임(21)의 내측의 부분이 돌출부(29)에 상당하고, 이곳에 통기공(25)의 개구부를 형성한다. 즉, 펠리클 프레임(21)에는 길이 10.2 mm, 폭 2.7 mm의 개구부를 펠리클 상부를 향하여 16개 형성함과 동시에, 또한, 펠리클 프레임(21)의 외측면에 각 개구부에 대하여 2개씩 직경 0.8 mm의 개구부를 형성함으로써 통기공(25)으로 했다.
다음으로, 통기공(25)을 형성한 펠리클 프레임(21)을 순수로 초음파 세정하고, 펠리클 프레임(21)의 하단면에 실리콘 점착제(신에츠 화학 공업(주) 제조, X-40-3264)를 도포했다. 그 후, 가로 세로 10 mm, 2.5 mm이고, 여과 정밀도 0.3 ㎛인 SUS제 필터(22)를 펠리클 프레임(21)의 돌출부(29)에 형성한 통기공(25) 내에 설치했다.
또한, 펠리클 프레임(21)의 상단면에는 실리콘 포팅제(신에츠 화학 공업(주) 제조, KE-101)를 도포하고, 펠리클막(20)으로서 폴리실리콘 박막을 첩부하여, 실시예 5의 펠리클을 제작했다.
마지막으로, 이 펠리클을 152 mm×152 mm의 마스크 기판에 첩부한 후에, 이 마스크 기판을 감압 박스에 넣어 서서히 감압을 행했다. 이 때, 펠리클막(20)이 파괴되지 않도록 감압 속도를 조절한 바, 1 kPa까지 감압하는 데에 5분을 요하는 것이 확인되었다.
<비교예 1>
비교예 1에서는, 처음에, 실시예 1과 동일한 외치수 149 mm×115 mm×2.5 mm, 내치수 145 mm×111 mm×2.5 mm의 알루미늄 합금제 펠리클 프레임을 준비했다. 그리고, 도 11에 나타내는 바와 같이, 펠리클 프레임(11)의 펠리클막 접착층(13)의 면 또는 마스크 점착층(14)의 설치면에 대하여 수직인 2면을 관통하도록, 직경 1 mm의 통기공(15)을 4개소에 형성했다.
다음으로, 이 통기공(15)을 형성한 펠리클 프레임(11)을 순수로 세정하고, 펠리클 프레임(11)의 하단면에는 실리콘 점착제(신에츠 화학 공업(주) 제조)를 도포하고, 상단면에는 사이톱 접착제(아사히 가라스(주) 제조, CTX-A)를 도포했다. 그 후, 130℃까지 펠리클 프레임(11)을 가열하여, 점착제 및 접착제를 경화시켰다.
또한, 외치수 10 mm×2 mm의 PTFE 필터(12)의 외주부에는 폭 0.5 mm의 점착제를 도포하고, 펠리클 프레임(11)의 외측면의 개구부(18)를 막도록 PTFE 필터(12)(유효 필터 면적 9 mm2)를 설치했다. 그 후, 사이톱(아사히 가라스(주) 제조, CTX-S)을 이용하여 두께 0.28 ㎛의 펠리클막(10)을 제작하고, 펠리클 프레임(11)보다 큰 알루미늄 프레임에 첩부했다. 이 펠리클막(10)을 펠리클 프레임(11)의 접착층측에 첩부함과 동시에, 펠리클 프레임(11)보다 외측의 부분을 제거하여, 비교예 1의 펠리클을 제작했다.
마지막으로, 이 펠리클을 150 mm×150 mm의 마스크 기판에 첩부한 후에, 이 마스크 기판을 감압 박스에 넣어 10초간 33 kPa의 감압을 행했다. 이 때, 펠리클막(10)은, 펠리클 폐공간 내외의 압력차에 의해 중앙부가 3 mm 팽창했는데, 그대로 감압을 유지한 바, 펠리클막(10)의 팽창은 서서히 작아지기는 했지만, 팽창이 완전히 해소되기까지 40분을 요하는 것이 확인되었다.
<비교예 2>
비교예 2에서는, 처음에, 실시예 2와 동일한 외치수 149.4 mm×116.6 mm×1.7 mm, 내치수 145.4 mm×112.6 mm×1.7 mm의 알루미늄 합금제 펠리클 프레임(11)을 준비했다. 그리고, 비교예 1과 동일하게, 펠리클 프레임(11)의 펠리클막 접착층(13)의 면 또는 마스크 점착층(14)의 설치면에 대하여 수직인 2면을 관통하도록, 직경 1 mm의 통기공(15)을 4개소에 형성했다.
다음으로, 이 통기공(15)을 형성한 펠리클 프레임(11)을 순수로 세정하고, 펠리클 프레임(11)의 하단면에 실리콘 점착제(신에츠 화학 공업(주) 제조)를 도포했다. 그 후, 직경 1.7 mm이고, 여과 정밀도 0.3 ㎛인 SUS제 필터(12)를 펠리클 프레임(11)의 외측면의 개구부(18)를 막도록 설치했다. 이 때, 필터(12)의 외주부를 실리콘 포팅제(신에츠 화학 공업(주) 제조, KE-101A/B)로 시일했다.
또한, 펠리클 프레임(11)의 상단면에는, 실리콘 포팅제(신에츠 화학 공업(주) 제조)를 도포하고, 펠리클막으로서 실시예 2와 동일한 다공부에 의해 지지된 단결정 실리콘의 펠리클막(10)을 첩부함과 동시에, 펠리클 프레임(11)보다 외측의 부분을 제거하여, 비교예 2의 펠리클을 제작했다.
마지막으로, 이 펠리클을 150 mm×150 mm의 마스크 기판에 첩부한 후에, 이 마스크 기판을 감압 박스에 넣어 감압을 행했다. 그리고, 실시예 2와 동일한 속도로 감압하면, 펠리클막(10)은 파괴되었다. 그래서, 펠리클막(10)이 파괴되지 않도록 감압 속도를 조절한 바, 1 kPa까지 감압하는 데에 2시간을 요하는 것이 확인되었다.
이상의 결과로부터, 본 발명의 펠리클에서는, 그 통기공의 개구부나 나아가서는 필터의 유효 면적을 크게 할 수 있기 때문에, 펠리클 폐공간 내외의 압력차를 신속히 완화하는 것이 가능하고, 펠리클막의 파괴 등의 문제를 억제하는 것이 가능한 것이 확인되었다.
10: 펠리클막
11: 펠리클 프레임
12: 필터
13: 펠리클막 접착층
14: 마스크 점착층
15: 통기공
16: 펠리클 폐공간
17: 펠리클 폐공간 내측의 개구부
18: 펠리클 폐공간 외측의 개구부
20: 펠리클막
21: 펠리클 프레임
22: 필터
23: 펠리클막 접착층
24: 마스크 점착층
25: 통기공
26: 펠리클 폐공간
27: 펠리클 폐공간 내측의 개구부
28: 펠리클 폐공간 외측의 개구부
29: 돌출부

Claims (21)

  1. 사각형 형상의 펠리클 프레임과, 상기 펠리클 프레임에 형성된 펠리클 폐공간의 내외를 통기하기 위한 통기공과, 상기 통기공의 적어도 일부를 막도록 형성된 필터를 포함한 펠리클로서,
    상기 통기공의 펠리클 폐공간 내측의 개구부 및 펠리클 폐공간 외측의 개구부 중 적어도 어느 한쪽이, 펠리클 상부 또는 펠리클 하부를 향하여 형성되고,
    상기 펠리클 상부 또는 펠리클 하부를 향하여 형성된 개구부는 상기 사각형 형상의 코너부를 제외한 변의 부분에 형성되고,
    상기 변의 부분에 형성된 개구부는 변의 길이 방향으로 연장되는 형태로 형성되어 있는 펠리클.
  2. 제1항에 있어서, EUV 노광에 이용되는 펠리클.
  3. 제1항에 있어서, 진공하 또는 감압하에서의 노광에 사용되는 펠리클.
  4. 삭제
  5. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 펠리클 프레임의 높이가 1.5∼2.5 mm인 펠리클.
  6. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 펠리클 프레임의 폭이 4∼8 mm인 펠리클.
  7. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 통기공은 굴곡 또는 만곡되어 있는 것을 특징으로 하는 펠리클.
  8. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 펠리클 상부 또는 펠리클 하부를 향하여 형성되어 있는 개구부의 크기는 펠리클의 높이보다 큰 펠리클.
  9. 노광 원판에 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 펠리클이 장착되어 있는 펠리클 부착 노광 원판.
  10. 제9항에 기재된 펠리클 부착 노광 원판을 이용하여 EUV 노광하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  11. 제9항에 기재된 펠리클 부착 노광 원판을 이용하여 진공하 또는 감압하에서 노광하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  12. 제9항에 기재된 펠리클 부착 노광 원판에 의하여 노광하는 공정을 포함하는 반도체의 제조 방법.
  13. 제9항에 기재된 펠리클 부착 노광 원판에 의하여 노광하는 공정을 포함하는 액정 표시판의 제조 방법.
  14. 펠리클의 제조에 이용되는 펠리클 프레임으로서,
    펠리클 폐공간의 내외를 통기하기 위한 통기공을 갖고,
    상기 통기공의 펠리클 폐공간 내측의 개구부 및 펠리클 폐공간 외측의 개구부 중 적어도 어느 한쪽이, 펠리클 상부 또는 펠리클 하부를 향하여 형성되고,
    상기 펠리클 상부 또는 펠리클 하부를 향하여 형성된 개구부는 사각형 형상의 코너부를 제외한 변의 부분에 형성되고,
    상기 변의 부분에 형성된 개구부는 변의 길이 방향으로 연장되는 형태로 형성되어 있는 펠리클 프레임.
  15. 제14항에 있어서, EUV 노광에 사용되는 펠리클의 제조에 이용되는 펠리클 프레임.
  16. 제14항에 있어서, 진공하 또는 감압하에서의 노광에 사용되는 펠리클의 제조에 이용되는 펠리클 프레임.
  17. 삭제
  18. 제14항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 그 높이가 1.5∼2.5 mm인 펠리클 프레임.
  19. 제14항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 그 폭이 4∼8 mm인 펠리클 프레임.
  20. 제14항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 통기공은 굴곡 또는 만곡되어 있는 펠리클 프레임.
  21. 제14항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 펠리클 상부 또는 펠리클 하부를 향하여 형성되어 있는 개구부의 크기는 펠리클의 높이보다 큰 펠리클 프레임.
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