JP3575516B2 - 気圧調整用孔保護フィルター付きペリクル - Google Patents
気圧調整用孔保護フィルター付きペリクル Download PDFInfo
- Publication number
- JP3575516B2 JP3575516B2 JP1203797A JP1203797A JP3575516B2 JP 3575516 B2 JP3575516 B2 JP 3575516B2 JP 1203797 A JP1203797 A JP 1203797A JP 1203797 A JP1203797 A JP 1203797A JP 3575516 B2 JP3575516 B2 JP 3575516B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- filter
- filter portion
- frame
- pore size
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
- G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Prevention Of Fouling (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、特にLSI,超LSIなどの半導体装置や液晶表示板を製造する際の異物よけとして使用される、実質的に波長500nm以下の光を用いる露光方式に有用なペリクルに関し、特に気圧調整用の通気孔がペリクルフレームに設けられ、この通気孔を覆ってパーティクル侵入防止用のフィルターが貼付された気圧調整用のペリクルに関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
LSI,超LSIなどの半導体装置あるいは液晶表示板等の製造においては、半導体ウェハーあるいは液晶用原版に光を照射してパターニングを作成するのであるが、この場合に用いる露光原版に異物が付着していると、この異物が光を吸収したり、光を曲げてしまうため、転写したパターニングが変形したり、エッジががさついたものとなるほか、白地が黒く汚れたりして、寸法、品質、外観などが損なわれ、半導体装置や液晶表示板等の性能や製造歩留りの低下を来すという問題があった。
【0003】
このため、これらの作業は通常クリーンルームで行われているが、このクリーンルーム内でも露光原版を常に清浄に保つことが難しいので、露光原版の表面に異物よけのための露光用の光を良く通過させるペリクルを貼着する方法が採用されている。
【0004】
この場合、異物は、露光原版の表面上には直接付着せず、ペリクル上に付着するため、リソグラフィー時に焦点を露光原版のパターン上に合わせておけば、ペリクル上の異物は転写に無関係となるものである。このペリクル膜は通常光を良く通過させるニトロセルロース、酢酸セルロース等からなる透明なペリクル膜をアルミニウム、ステンレス、ポリエチレン等からなるペリクルフレームの上端面にペリクル膜の良溶媒を塗布し、風乾して接着する(特開昭58−219023号公報参照)か、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等の接着剤で接着し(米国特許第4861402号明細書、特公昭63−27707号公報参照)、更に、ペリクルフレームの下端には、露光原版に装着するためのポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂等からなる粘着層、及び粘着層の保護を目的とした離型層(セパレーター)が形成される。
【0005】
また、このペリクルについては、ペリクルを露光原版に貼り付けた状態において、ペリクルフレーム内部の露光原版に囲まれた空間と外部との気圧差をなくすことを目的として、ペリクルフレームの一部に気圧調整用の小孔を設け、小孔を通じて移動する空気からの異物侵入を防ぐためのフィルターを設置する等の工夫がされている(実公昭63−393703号公報参照)。この場合、気圧調整用通気孔に貼着されるフィルターは、フレームの外側に設けるのが機能上最も好ましい。
【0006】
しかしながら、気圧調整用通気孔は、通常、孔径が0.05〜1.0mmと小さく、フィルターを通気孔を覆いこの通気孔対向箇所以外の全面をフレーム外側面に接着すると、フィルターの有効面積が通気孔と同じ面積になる。このため、フィルター孔径が小さいとパーティクルの捕集効率は良好になるが、通気能力が低下し、実用上問題が生じる。また、フィルターをその内面外周縁側のみでフレーム外側面で接着すると、フィルターのフレーム外側面と接着されていない(浮いている)内面とがこすれるおそれがあり、好ましくない。
【0007】
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、パーティクルの捕集効率が良く、かつ通気能力の高い気圧調整用孔保護フィルター付きペリクルを提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】
本発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結果、ペリクルフレームの側部に形成される気圧調整用通気孔を覆ってペリクルフレーム外側面に取り付けられるフィルターの構成を、内側(通気孔側)でフィルター孔径を大きくし、外側でフィルター孔径を小さくすることにより、フィルターの通気孔と対向する部分以外の内面全面をフレーム外側面と接着し、従ってフィルター内側部におけるフィルターの有効面積が通気孔と同じ面積になっても、フィルター内側部における孔径は大きいので通気性は十分確保される一方、フィルター外側部はフィルター有効面積を通気孔面積より大きくすることができるので、孔径が小さくても通気孔を確保し得、従って全体として十分な通気能力を有し、しかもフィルター外側部の孔径が小さいので異物(パーティクル)捕集効率が優れていることを知見し、本発明をなすに至った。
【0009】
従って、本発明は、ペリクルフレームの上端面にペリクル膜が張設され、かつ上記ペリクルフレームの側部に気圧調整用通気孔が設けられていると共に、このペリクルフレームの外側面に上記通気孔を覆ってパーティクル侵入防止用のフィルターを設けたペリクルにおいて、上記フィルターが外側フィルター部と内側フィルター部とを有し、外側フィルター部より内側フィルター部が大きい孔径を有していることを特徴とする気圧調整用孔保護フィルター付きペリクルを提供する。
【0010】
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明のペリクルは、例えば図1に示すように、四角枠状のペリクルフレーム1の上端面にペリクル膜2が張設され、かつ下端面にレチクル貼着用粘着剤層3が形成された構成とすることができるが、この場合、図1,2に示すように、ペリクルフレーム1の側部に気圧調整用通気孔4が形成され、この通気孔4を覆ってペリクルフレーム1の外側面にパーティクル侵入防止用フィルター5が取り付けられているものである。
【0011】
ここで、フィルター5は、内側(通気孔4側)の孔径が大きく、外側の孔径が小さく形成されており、孔径の大きい内側フィルター部5aを覆って孔径の小さい外側フィルター部5bが積層された積層構造を有している。そして、上記フィルター5の内面が、上記通気孔4に対向する部分を除く全面においてフレーム1外側面に接着されている。
【0012】
この場合、上記通気孔4は、0.3〜2.0mm、特に0.4〜0.7mm程度の直径を有するように形成することが好適である。
【0013】
また、フィルター5はその内側フィルター部5aの孔径が3〜100μm、特に10〜30μmであり、外側フィルター部5bの孔径が0.1〜3.0μm、特に0.3〜1.0μmであることが好ましく、この場合内側フィルター部5aの最大孔径が外側フィルター部5bの最小孔径の2倍以上、特に5倍以上であることが好ましい。
【0014】
更に、フィルター5は、その厚さが0.1〜0.5mm、特に0.2〜0.4mmに形成されることが有効であるが、本発明の目的から上記内側フィルター部5aは0.05mm以上、特に0.1mm以上であることが好ましく、またフィルター5の全厚に対し20%以上、特に20〜50%であることが好ましい。なお、フィルター面積は通常通気孔面積の50倍以上、特に100倍以上とすることが有効面積を確保する点から好適である。
【0015】
【実施例】
以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
【0016】
〔実施例1〕
縦149mm,横122mm,高さ5.8mm,幅2mmのアルミフレームの上端面に、パーフルオロブテニルビニルエーテルを主成分とする重合体からなる厚さ1.63μmのペリクル膜を貼り付け、更に上記フレームの短辺側部中央部に直径0.5mmの気圧調整用通気孔を形成した。
【0017】
一方、孔径10μmの内側フィルター部上に、これと同じ厚さの孔径1μmの外側フィルター部が積層された2層構造を有し、縦4mm,横10mm,全厚み0.25mmのフィルターを用意し、このフィルターを、上記通気孔を覆い、通気孔と対向する部分以外の内面全面を上記アルミフレームに接着することによりフレームに取り付けた。
【0018】
このようにして得られたペリクルを石英基板に貼り付け、250mmHg下に置いたところ、ペリクル膜が5mm程度膨らんだ。そのまま放置すると、約30分後にペリクル膜は元の形状に戻った。
【0019】
〔実施例2〕
内側フィルター部の孔径が10μmで厚さが0.05mmであり、外側フィルター部の孔径が1μmで厚さが0.2mmであるフィルターを用いる以外は実施例1と同様にしてペリクルを得た。
【0020】
得られたペリクルを、実施例1と同様にして石英基板に貼着して評価したところ、ペリクル膜は最初5mm程度膨らんだが、そのまま放置すると、約30分で元の形状に戻った。
【0021】
〔比較例〕
孔径が1μmの単層構造で、縦4mm,横10mm,厚み0.2mmのフィルターを用いた以外は、実施例1と同様にペリクルを得た。
【0022】
得られたペリクルを、実施例1と同様にして評価したところ、ペリクル膜は最初5mm程度膨らみ、そのまま放置しても、元に戻るのに約90分もかかった。
【0023】
【発明の効果】
本発明のペリクルによれば、気圧調整用の通気孔付近のフィルター部孔径を大きくすることで、その外側の小孔径フィルター部の有効面積を高めることができ、このため異物捕集効率を低下させることなく通気能力を上げることができるものであり、従って気圧変動のある環境下、例えば露光原版(レチクル)にペリクルを貼り付けた状態で空輸するような場合において、確実にかつ迅速にフレーム内外の気圧調整がなされる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す斜視図である。
【図2】フィルターをペリクルフレームに取り付けた状態を説明する拡大断面図である。
【符号の説明】
1 ペリクルフレーム
2 ペリクル膜
3 レチクル貼着用粘着剤層
4 気圧調整用通気孔
5 フィルター
5a 内側フィルター部
5b 外側フィルター部
Claims (4)
- ペリクルフレームの上端面にペリクル膜が張設され、かつ上記ペリクルフレームの側部に気圧調整用通気孔が設けられていると共に、このペリクルフレームの外側面に上記通気孔を覆ってパーティクル侵入防止用のフィルターを設けたペリクルにおいて、上記フィルターが外側フィルター部と内側フィルター部とを有し、外側フィルター部より内側フィルター部が大きい孔径を有していることを特徴とする気圧調整用孔保護フィルター付きペリクル。
- 大きい孔径を有する内側フィルター部の最大孔径が小さい孔径を有する外側フィルター部の最小孔径の2倍以上である請求項1記載のペリクル。
- 内側フィルター部の厚さが0.05mm以上である請求項1又は2記載のペリクル。
- 内側フィルター部の厚さがフィルター全厚の20%以上である請求項1,2又は3記載のペリクル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1203797A JP3575516B2 (ja) | 1997-01-07 | 1997-01-07 | 気圧調整用孔保護フィルター付きペリクル |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1203797A JP3575516B2 (ja) | 1997-01-07 | 1997-01-07 | 気圧調整用孔保護フィルター付きペリクル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10198021A JPH10198021A (ja) | 1998-07-31 |
JP3575516B2 true JP3575516B2 (ja) | 2004-10-13 |
Family
ID=11794417
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1203797A Expired - Fee Related JP3575516B2 (ja) | 1997-01-07 | 1997-01-07 | 気圧調整用孔保護フィルター付きペリクル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3575516B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001133960A (ja) * | 1999-11-08 | 2001-05-18 | Shin Etsu Chem Co Ltd | リソグラフィー用ペリクル及びペリクルの使用方法 |
JP2001201845A (ja) * | 1999-11-09 | 2001-07-27 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 大型ペリクル |
WO2004040374A2 (en) | 2002-10-29 | 2004-05-13 | Dupont Photomasks, Inc. | Photomask assembly and method for protecting the same from contaminants generated during a lithography process |
US7110195B2 (en) * | 2004-04-28 | 2006-09-19 | International Business Machines Corporation | Monolithic hard pellicle |
JP5047232B2 (ja) * | 2009-06-26 | 2012-10-10 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル |
JP5199217B2 (ja) * | 2009-11-02 | 2013-05-15 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル |
EP3079013B1 (en) | 2015-03-30 | 2018-01-24 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Pellicle |
JP6395320B2 (ja) * | 2015-03-30 | 2018-09-26 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル |
-
1997
- 1997-01-07 JP JP1203797A patent/JP3575516B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH10198021A (ja) | 1998-07-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0752621B1 (en) | Frame-supported pellicle for photomask protection | |
JP2992585B2 (ja) | 圧力解放性ペリクル | |
JP5047232B2 (ja) | ペリクル | |
TWI718143B (zh) | 防塵薄膜的製造方法及帶防塵薄膜的光罩的製造方法 | |
JP3575516B2 (ja) | 気圧調整用孔保護フィルター付きペリクル | |
JP2008256925A (ja) | ペリクル | |
JP2009025562A (ja) | ペリクルフレーム | |
US5814381A (en) | Pellicle assembly having a vented frame | |
JP6861596B2 (ja) | ペリクルフレーム及びペリクル | |
JP3356897B2 (ja) | ペリクル収納容器 | |
JP2005316492A (ja) | モノリシック・ハード・ペリクル | |
JPH0968792A (ja) | フィルター付ペリクル | |
KR102207853B1 (ko) | 펠리클용 벤트 필터 및 이를 포함하는 펠리클 | |
CN106950796A (zh) | 防尘薄膜组件 | |
JP4358683B2 (ja) | ペリクルフレーム及びフォトリソグラフィー用ペリクル | |
JP4173239B2 (ja) | リソグラフィー用ペリクル | |
JP4380910B2 (ja) | ペリクル | |
JPH0968793A (ja) | ペリクル | |
JPH1062966A (ja) | リソグラフィー用ペリクル | |
JP4100813B2 (ja) | ペリクルフレームおよびこれを用いたリソグラフィー用ペリクル | |
US5656342A (en) | End surface-protected frame-supported pellicle for photolithography | |
JPH09160223A (ja) | ペリクル用フィルター及びその作製方法 | |
WO2021230262A1 (ja) | ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付露光原版、半導体の製造方法、液晶表示板の製造方法及び露光方法 | |
JP4319757B2 (ja) | ペリクルの製造方法 | |
JP3642145B2 (ja) | ペリクルの製造方法及びペリクルのレチクル貼着用粘着剤層への貼着用ライナー |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040602 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040616 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040629 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100716 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130716 Year of fee payment: 9 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |