JP2005316492A - モノリシック・ハード・ペリクル - Google Patents
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Abstract
【解決手段】出発ペリクル・プレートの元の厚さが約4mmから約5mmである場合には、バルク・ペリクル・プレート材料は、陥凹部分24の底部に残るペリクル・プレート材料23が、その最終的な使用又は取り付け位置に応じて、約200μmから約900μm、より好ましくは約300μmから約800μmの範囲の厚さを有するように、膜の中央部を除去することができる。しかしながら、残ったペリクル・プレート材料23は、その最終的な使用だけではなく、結果として得られるペリクル20底部の光学ペリクル部分の予め決められた所望の厚さに応じて、200μmより薄いか、又は900μmより厚い厚みを有することができる。
【選択図】図3
Description
本発明は、光リソグラフィに使用するための剛性モノリシック・ハード・ペリクルと、該ペリクルを形成する方法とに向けられる。本発明の本質的な特徴は、本モノリシック・ハード・ペリクルが、改質溶融シリカ・プレートをシリカ・フレームに結合する必要を無くし、上述のような透明膜に取り付けられたフレームを有する従来のペリクルに付随して誘発されるいかなる応力及び/又は歪みも防ぐようにする利点があることである。本発明のモノリシック・ハード・ペリクルは、一様な一体型構造体であるため、特にそのフレーム部分及びペリクル部分が位置する領域で、歪むことも、損傷することも、その特性が変化することもなく取り外し、再取り付けできる利点がある。
12:表面領域
20:モノリシック・ペリクル
22:フレーム
23:ペリクル・プレート材料
24:陥凹部分
25:内面領域
26:底面領域
30:開口部
40:フォトマスク
50:マスク
100:処理チャンバ
102:架台
Claims (30)
- 第1の厚さを有する透明プレートと、
前記第1の厚さより薄い第2の厚さを有する、前記透明プレートの陥凹部分と、
第3の厚さを有し、前記透明プレートがモノリシック光学ペリクルとなるように前記陥凹部分を完全に取り囲む、該透明プレートの周辺部と、
を備える光学ペリクル。 - 前記透明プレートが、シリカ、改質シリカ、石英、及び改質溶融シリカ石英から構成される群から選択された材料を含む、請求項1に記載の光学ペリクル。
- 前記第1の厚さが前記透明プレートの元の厚さである、請求項1に記載の光学ペリクル。
- 前記透明プレートの前記周辺部の前記第3の厚さが前記元の厚さである、請求項3に記載の光学ペリクル。
- 前記第3の厚さが前記第1の厚さより薄い、請求項1に記載の光学ペリクル。
- 前記透明プレートが、約157nm以下の波長範囲の照射放射線を通す材料を含む、請求項1に記載の光学ペリクル。
- 前記透明プレートの前記第1の厚さが、約3mmから約6mmの範囲である、請求項1に記載の光学ペリクル。
- 前記陥凹部分の前記第2の厚さが、約200μmから約900μmの範囲である、請求項7に記載の光学ペリクル。
- 前記陥凹部分の前記第2の厚さが、少なくとも、前記モノリシック光学ペリクルに加えられる力によって該陥凹部分がたわまないようにするのに十分な厚さである、請求項1に記載の光学ペリクル。
- 前記モノリシック光学ペリクルが、該モノリシック光学ペリクルに対するいかなる損傷及び歪みも防止するために、十分な剛性を持つ材料を含む、請求項1に記載の光学ペリクル。
- 前記陥凹部分が、前記透明プレートの単一の表面から該透明プレート内に延び、該透明プレート内部のある深さで止まる、請求項1に記載の光学ペリクル。
- 前記モノリシック光学ペリクルが、単一の熱膨張度を有する単一の材料を含む、請求項1に記載の光学ペリクル。
- 前記周辺部がフレーム部分を構成し、前記陥凹部分が前記モノリシック光学ペリクルの光学ペリクル部分を構成し、前記フレーム部分及び前記光学ペリクル部分が一様な一体型構造体である、請求項1に記載の光学ペリクル。
- 前記モノリシック光学ペリクルが、実質的に平坦な表面を露出する第1の面と、前記陥凹部分及び前記周辺部を露出する第2の面とを備え、少なくとも該陥凹部分が、光学的平面領域を有する、請求項1に記載の光学ペリクル。
- 前記モノリシック光学ペリクルが、長方形、正方形、及び円形から構成される群から選択された形状を有する、請求項1に記載の光学ペリクル。
- 前記モノリシック光学ペリクルをフォトマスクに取り付けた状態で前記透明プレートの前記陥凹部分全体に気体流を導入するために、該透明プレートの前記周辺部を横切って通る複数の開口部をさらに含む、請求項1に記載の光学ペリクル。
- 前記周辺部を横切って通る前記複数の開口部が、円形、楕円形、長方形、正方形、及びこれらの組み合わせから構成される群から選択された形状を有する、請求項16に記載の光学ペリクル。
- 光学ペリクルを形成する方法であって、
第1の厚さを有する透明材料のペリクル・プレートを準備し、
前記透明材料の一部分を除去して、前記ペリクル・プレートを、前記第1の厚さより薄い第2の厚さを有し、該ペリクル・プレートの第3の厚さを有する周辺フレームに完全に取り囲まれ、前記周辺フレームと一体的に形成された、該ペリクル・プレートの陥凹部分を備えるモノリシック光学ペリクルに変換する、
ステップを含む方法。 - 前記透明材料が、前記モノリシック光学ペリクルにいかなる応力及び損傷も生じないようにするために、十分な剛性を持つ材料を含む、請求項18に記載の方法。
- 前記透明材料が、単一の熱膨張度を有し、約157nm以下の波長範囲の照射放射線を通す単一の材料を含む、請求項18に記載の方法。
- 前記第1の厚さが前記ペリクル・プレートの元の厚さである、請求項18に記載の方法。
- 前記ペリクル・プレートの前記周辺フレームの前記第3の厚さが前記元の厚さである、請求項21に記載の方法。
- 前記モノリシック光学ペリクルと、該モノリシック光学ペリクルが取り付けられることになるフォトマスクとの間の隔離距離に合わせて調節するステップをさらに含み、前記隔離距離に合わせて調節するステップが、
前記ペリクル・プレートの前記周辺フレームが、当初は前記第1の厚さを持つようにし、
前記周辺フレームの前記第1の厚さから所定の厚さを除去して、該周辺フレームに該第1の厚さより薄い前記第3の厚さを与える、
ステップを含む、請求項18に記載の方法。 - 前記陥凹部分の前記第2の厚さが、少なくとも、前記モノリシック光学ペリクルに加えられる力によって該陥凹部分がたわまないようにするのに十分な厚さである、請求項18に記載の方法。
- 前記ペリクル・プレートを前記モノリシック光学ペリクルに変換する前記ステップが、
前記ペリクル・プレートを処理チャンバ内に準備し、
前記ペリクル・プレートの第1の面に、該ペリクル・プレートの周辺領域のみを覆うようにマスクを設けて、該ペリクル・プレートの前記第1の面の中央部分を露出させるようにし、
前記第1の面の前記露出した中央部分から前記ペリクル・プレートの前記透明材料を除去し、前記周辺領域の該透明材料が維持されるように前記マスクにより該ペリクル・プレートの該周辺領域を保護し、
前記陥凹部分と前記周辺フレームとを前記ペリクル・プレートの前記第1の面に一体的に形成するように、該ペリクル・プレート内部の所定の距離で前記除去を止め、
前記マスクを除去して、前記モノリシック光学ペリクルを形成する、
ステップを含む、請求項18に記載の方法。 - 前記モノリシック光学ペリクルの前記陥凹部分に第1の光学的平面を与えるように、前記ペリクル・プレートの前記第1の面の該陥凹部分を平坦化し、
前記モノリシック光学ペリクルに第2の光学的平面を与えるように、前記ペリクル・プレートの反対側の第2の面を平坦化する、
ステップをさらに含む、請求項25に記載の方法。 - 前記ペリクル・プレートの前記陥凹部分全体に気体流を導入するために、前記モノリシック光学ペリクルの該ペリクル・プレートの前記周辺フレームを横切って通る複数の開口部を設けるステップをさらに含む、請求項18に記載の方法。
- 前記周辺フレームをフォトマスクに取り付けることによって前記モノリシック光学ペリクルを前記フォトマスクに取り付けるステップをさらに含み、取り付けられた前記モノリシック光学ペリクルが、後続の処理の間、該フォトマスクを保護する、請求項27に記載の方法。
- 再加工プロセスのために前記モノリシック光学ペリクルを前記フォトマスクから取り外すステップをさらに含み、前記陥凹部分が前記周辺フレームと一体的に形成された結果として、該モノリシック光学ペリクルに対する損傷が防止される、請求項28に記載の方法。
- 光リソグラフィの間にフォトマスクを保護する方法であって、
フォトマスクを準備し、
後続の光リソグラフィ処理の間に前記フォトマスクを保護するために、モノリシック光学ペリクルを該フォトマスクに取り付ける、
ステップを含む方法。
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