JPH10198021A - 気圧調整用孔保護フィルター付きペリクル - Google Patents

気圧調整用孔保護フィルター付きペリクル

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JPH10198021A
JPH10198021A JP1203797A JP1203797A JPH10198021A JP H10198021 A JPH10198021 A JP H10198021A JP 1203797 A JP1203797 A JP 1203797A JP 1203797 A JP1203797 A JP 1203797A JP H10198021 A JPH10198021 A JP H10198021A
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • G03F1/64Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor

Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 ペリクルフレーム(1)の上端面にペリ
クル膜(2)が張設され、かつ上記ペリクルフレーム
(1)の側部に気圧調整用通気孔(4)が設けられてい
ると共に、このペリクルフレーム(1)の外側面に上記
通気孔(4)を覆ってパーティクル侵入防止用のフィル
ター(5)を設けたペリクルにおいて、上記フィルター
(5)が外側フィルター部(5b)と内側フィルター部
(5a)とを有し、外側フィルター部(5b)より内側
フィルター部(5a)が大きい孔径を有していることを
特徴とする気圧調整用孔保護フィルター付きペリクル。 【効果】 本発明のペリクルによれば、気圧調整用の通
気孔付近のフィルター部孔径を大きくすることで、その
外側の小孔径フィルター部の有効面積を高めることがで
き、このため異物捕集効率を低下させることなく通気能
力を上げることができるものであり、従って気圧変動の
ある環境下、例えば露光原版(レチクル)にペリクルを
貼り付けた状態で空輸するような場合において、確実に
かつ迅速にフレーム内外の気圧調整がなされる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、特にLSI,超L
SIなどの半導体装置や液晶表示板を製造する際の異物
よけとして使用される、実質的に波長500nm以下の
光を用いる露光方式に有用なペリクルに関し、特に気圧
調整用の通気孔がペリクルフレームに設けられ、この通
気孔を覆ってパーティクル侵入防止用のフィルターが貼
付された気圧調整用のペリクルに関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】LS
I,超LSIなどの半導体装置あるいは液晶表示板等の
製造においては、半導体ウェハーあるいは液晶用原版に
光を照射してパターニングを作成するのであるが、この
場合に用いる露光原版に異物が付着していると、この異
物が光を吸収したり、光を曲げてしまうため、転写した
パターニングが変形したり、エッジががさついたものと
なるほか、白地が黒く汚れたりして、寸法、品質、外観
などが損なわれ、半導体装置や液晶表示板等の性能や製
造歩留りの低下を来すという問題があった。
【0003】このため、これらの作業は通常クリーンル
ームで行われているが、このクリーンルーム内でも露光
原版を常に清浄に保つことが難しいので、露光原版の表
面に異物よけのための露光用の光を良く通過させるペリ
クルを貼着する方法が採用されている。
【0004】この場合、異物は、露光原版の表面上には
直接付着せず、ペリクル上に付着するため、リソグラフ
ィー時に焦点を露光原版のパターン上に合わせておけ
ば、ペリクル上の異物は転写に無関係となるものであ
る。このペリクル膜は通常光を良く通過させるニトロセ
ルロース、酢酸セルロース等からなる透明なペリクル膜
をアルミニウム、ステンレス、ポリエチレン等からなる
ペリクルフレームの上端面にペリクル膜の良溶媒を塗布
し、風乾して接着する(特開昭58−219023号公
報参照)か、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等の接着剤で
接着し(米国特許第4861402号明細書、特公昭6
3−27707号公報参照)、更に、ペリクルフレーム
の下端には、露光原版に装着するためのポリブテン樹
脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂等からなる粘着
層、及び粘着層の保護を目的とした離型層(セパレータ
ー)が形成される。
【0005】また、このペリクルについては、ペリクル
を露光原版に貼り付けた状態において、ペリクルフレー
ム内部の露光原版に囲まれた空間と外部との気圧差をな
くすことを目的として、ペリクルフレームの一部に気圧
調整用の小孔を設け、小孔を通じて移動する空気からの
異物侵入を防ぐためのフィルターを設置する等の工夫が
されている(実公昭63−393703号公報参照)。
この場合、気圧調整用通気孔に貼着されるフィルター
は、フレームの外側に設けるのが機能上最も好ましい。
【0006】しかしながら、気圧調整用通気孔は、通
常、孔径が0.05〜1.0mmと小さく、フィルター
を通気孔を覆いこの通気孔対向箇所以外の全面をフレー
ム外側面に接着すると、フィルターの有効面積が通気孔
と同じ面積になる。このため、フィルター孔径が小さい
とパーティクルの捕集効率は良好になるが、通気能力が
低下し、実用上問題が生じる。また、フィルターをその
内面外周縁側のみでフレーム外側面で接着すると、フィ
ルターのフレーム外側面と接着されていない(浮いてい
る)内面とがこすれるおそれがあり、好ましくない。
【0007】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、パーティクルの捕集効率が良く、かつ通気能力の高
い気圧調整用孔保護フィルター付きペリクルを提供する
ことを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結
果、ペリクルフレームの側部に形成される気圧調整用通
気孔を覆ってペリクルフレーム外側面に取り付けられる
フィルターの構成を、内側(通気孔側)でフィルター孔
径を大きくし、外側でフィルター孔径を小さくすること
により、フィルターの通気孔と対向する部分以外の内面
全面をフレーム外側面と接着し、従ってフィルター内側
部におけるフィルターの有効面積が通気孔と同じ面積に
なっても、フィルター内側部における孔径は大きいので
通気性は十分確保される一方、フィルター外側部はフィ
ルター有効面積を通気孔面積より大きくすることができ
るので、孔径が小さくても通気孔を確保し得、従って全
体として十分な通気能力を有し、しかもフィルター外側
部の孔径が小さいので異物(パーティクル)捕集効率が
優れていることを知見し、本発明をなすに至った。
【0009】従って、本発明は、ペリクルフレームの上
端面にペリクル膜が張設され、かつ上記ペリクルフレー
ムの側部に気圧調整用通気孔が設けられていると共に、
このペリクルフレームの外側面に上記通気孔を覆ってパ
ーティクル侵入防止用のフィルターを設けたペリクルに
おいて、上記フィルターが外側フィルター部と内側フィ
ルター部とを有し、外側フィルター部より内側フィルタ
ー部が大きい孔径を有していることを特徴とする気圧調
整用孔保護フィルター付きペリクルを提供する。
【0010】以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明のペリクルは、例えば図1に示すように、四角枠
状のペリクルフレーム1の上端面にペリクル膜2が張設
され、かつ下端面にレチクル貼着用粘着剤層3が形成さ
れた構成とすることができるが、この場合、図1,2に
示すように、ペリクルフレーム1の側部に気圧調整用通
気孔4が形成され、この通気孔4を覆ってペリクルフレ
ーム1の外側面にパーティクル侵入防止用フィルター5
が取り付けられているものである。
【0011】ここで、フィルター5は、内側(通気孔4
側)の孔径が大きく、外側の孔径が小さく形成されてお
り、孔径の大きい内側フィルター部5aを覆って孔径の
小さい外側フィルター部5bが積層された積層構造を有
している。そして、上記フィルター5の内面が、上記通
気孔4に対向する部分を除く全面においてフレーム1外
側面に接着されている。
【0012】この場合、上記通気孔4は、0.3〜2.
0mm、特に0.4〜0.7mm程度の直径を有するよ
うに形成することが好適である。
【0013】また、フィルター5はその内側フィルター
部5aの孔径が3〜100μm、特に10〜30μmで
あり、外側フィルター部5bの孔径が0.1〜3.0μ
m、特に0.3〜1.0μmであることが好ましく、こ
の場合内側フィルター部5aの最大孔径が外側フィルタ
ー部5bの最小孔径の2倍以上、特に5倍以上であるこ
とが好ましい。
【0014】更に、フィルター5は、その厚さが0.1
〜0.5mm、特に0.2〜0.4mmに形成されるこ
とが有効であるが、本発明の目的から上記内側フィルタ
ー部5aは0.05mm以上、特に0.1mm以上であ
ることが好ましく、またフィルター5の全厚に対し20
%以上、特に20〜50%であることが好ましい。な
お、フィルター面積は通常通気孔面積の50倍以上、特
に100倍以上とすることが有効面積を確保する点から
好適である。
【0015】
【実施例】以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。
【0016】〔実施例1〕縦149mm,横122m
m,高さ5.8mm,幅2mmのアルミフレームの上端
面に、パーフルオロブテニルビニルエーテルを主成分と
する重合体からなる厚さ1.63μmのペリクル膜を貼
り付け、更に上記フレームの短辺側部中央部に直径0.
5mmの気圧調整用通気孔を形成した。
【0017】一方、孔径10μmの内側フィルター部上
に、これと同じ厚さの孔径1μmの外側フィルター部が
積層された2層構造を有し、縦4mm,横10mm,全
厚み0.25mmのフィルターを用意し、このフィルタ
ーを、上記通気孔を覆い、通気孔と対向する部分以外の
内面全面を上記アルミフレームに接着することによりフ
レームに取り付けた。
【0018】このようにして得られたペリクルを石英基
板に貼り付け、250mmHg下に置いたところ、ペリ
クル膜が5mm程度膨らんだ。そのまま放置すると、約
30分後にペリクル膜は元の形状に戻った。
【0019】〔実施例2〕内側フィルター部の孔径が1
0μmで厚さが0.05mmであり、外側フィルター部
の孔径が1μmで厚さが0.2mmであるフィルターを
用いる以外は実施例1と同様にしてペリクルを得た。
【0020】得られたペリクルを、実施例1と同様にし
て石英基板に貼着して評価したところ、ペリクル膜は最
初5mm程度膨らんだが、そのまま放置すると、約30
分で元の形状に戻った。
【0021】〔比較例〕孔径が1μmの単層構造で、縦
4mm,横10mm,厚み0.2mmのフィルターを用
いた以外は、実施例1と同様にペリクルを得た。
【0022】得られたペリクルを、実施例1と同様にし
て評価したところ、ペリクル膜は最初5mm程度膨ら
み、そのまま放置しても、元に戻るのに約90分もかか
った。
【0023】
【発明の効果】本発明のペリクルによれば、気圧調整用
の通気孔付近のフィルター部孔径を大きくすることで、
その外側の小孔径フィルター部の有効面積を高めること
ができ、このため異物捕集効率を低下させることなく通
気能力を上げることができるものであり、従って気圧変
動のある環境下、例えば露光原版(レチクル)にペリク
ルを貼り付けた状態で空輸するような場合において、確
実にかつ迅速にフレーム内外の気圧調整がなされる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す斜視図である。
【図2】フィルターをペリクルフレームに取り付けた状
態を説明する拡大断面図である。
【符号の説明】
1 ペリクルフレーム 2 ペリクル膜 3 レチクル貼着用粘着剤層 4 気圧調整用通気孔 5 フィルター 5a 内側フィルター部 5b 外側フィルター部

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ペリクルフレームの上端面にペリクル膜
    が張設され、かつ上記ペリクルフレームの側部に気圧調
    整用通気孔が設けられていると共に、このペリクルフレ
    ームの外側面に上記通気孔を覆ってパーティクル侵入防
    止用のフィルターを設けたペリクルにおいて、上記フィ
    ルターが外側フィルター部と内側フィルター部とを有
    し、外側フィルター部より内側フィルター部が大きい孔
    径を有していることを特徴とする気圧調整用孔保護フィ
    ルター付きペリクル。
  2. 【請求項2】 大きい孔径を有する内側フィルター部の
    最大孔径が小さい孔径を有する外側フィルター部の最小
    孔径の2倍以上である請求項1記載のペリクル。
  3. 【請求項3】 内側フィルター部の厚さが0.05mm
    以上である請求項1又は2記載のペリクル。
  4. 【請求項4】 内側フィルター部の厚さがフィルター全
    厚の20%以上である請求項1,2又は3記載のペリク
    ル。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001201845A (ja) * 1999-11-09 2001-07-27 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 大型ペリクル
WO2004040374A2 (en) * 2002-10-29 2004-05-13 Dupont Photomasks, Inc. Photomask assembly and method for protecting the same from contaminants generated during a lithography process
JP2005316492A (ja) * 2004-04-28 2005-11-10 Internatl Business Mach Corp <Ibm> モノリシック・ハード・ペリクル
KR100746864B1 (ko) * 1999-11-08 2007-08-07 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 포토리소그래피 포토마스크의 보호용 프레임식 펠리클
CN102053484A (zh) * 2009-11-02 2011-05-11 信越化学工业株式会社 防尘薄膜组件
KR101383438B1 (ko) * 2009-06-26 2014-04-08 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 펠리클
KR20160117170A (ko) 2015-03-30 2016-10-10 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 펠리클
JP2016191902A (ja) * 2015-03-30 2016-11-10 信越化学工業株式会社 ペリクル

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100746864B1 (ko) * 1999-11-08 2007-08-07 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 포토리소그래피 포토마스크의 보호용 프레임식 펠리클
JP2001201845A (ja) * 1999-11-09 2001-07-27 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 大型ペリクル
US7531275B2 (en) 2002-10-29 2009-05-12 Toppan Photomasks, Inc. Photomask assembly and method for protecting the same from contaminants generated during a lithography process
WO2004040374A2 (en) * 2002-10-29 2004-05-13 Dupont Photomasks, Inc. Photomask assembly and method for protecting the same from contaminants generated during a lithography process
WO2004040374A3 (en) * 2002-10-29 2004-09-02 Dupont Photomasks Inc Photomask assembly and method for protecting the same from contaminants generated during a lithography process
US7094505B2 (en) 2002-10-29 2006-08-22 Toppan Photomasks, Inc. Photomask assembly and method for protecting the same from contaminants generated during a lithography process
JP2005316492A (ja) * 2004-04-28 2005-11-10 Internatl Business Mach Corp <Ibm> モノリシック・ハード・ペリクル
KR101383438B1 (ko) * 2009-06-26 2014-04-08 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 펠리클
CN102053484A (zh) * 2009-11-02 2011-05-11 信越化学工业株式会社 防尘薄膜组件
KR20160117170A (ko) 2015-03-30 2016-10-10 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 펠리클
EP3079013A2 (en) 2015-03-30 2016-10-12 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Pellicle
JP2016191902A (ja) * 2015-03-30 2016-11-10 信越化学工業株式会社 ペリクル
US9817308B2 (en) 2015-03-30 2017-11-14 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Pellicle
KR20210153018A (ko) 2015-03-30 2021-12-16 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 펠리클
KR20230130588A (ko) 2015-03-30 2023-09-12 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 펠리클

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