JPH0123137Y2 - - Google Patents

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JPH0123137Y2
JPH0123137Y2 JP1985050919U JP5091985U JPH0123137Y2 JP H0123137 Y2 JPH0123137 Y2 JP H0123137Y2 JP 1985050919 U JP1985050919 U JP 1985050919U JP 5091985 U JP5091985 U JP 5091985U JP H0123137 Y2 JPH0123137 Y2 JP H0123137Y2
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【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案はリソグラフ法により半導体集積回路素
子を製造する際に用いる露光用フオトマスクの保
護装置に関する。
〔従来の技術〕
リソグラフ法により半導体集積回路素子を製造
する場合、フオトマスク上の薄層パターンをウエ
ーハ上へ露光転写するプロセスにおいて、通常、
フオトマスクのガラス基板上の金属薄膜パターン
が成形された面へフオトマスク保護装置を設置し
て実施する方法が採用されている。
フオトマスクへ保護装置を設置しない場合、露
光中に異物がフオトマスクのガラス基板上の金属
薄膜パターン上に直接付着すると該異物はウエー
ハ上へそのまま転写されパターン欠陥となり不良
半導体集積回路素子を製造することとなる。
上記のような場合において、フオトマスクの金
属薄膜パターン面へフオトマスク保護装置を設置
しておくと該異物はフオトマスクの金属パターン
上へ付着することなくフオトマスク保護装置のフ
オトマスク保護膜上へ付着することとなる。
フオトマスクの金属薄膜パターンをウエーハ上
へ露光する場合、金属薄膜パターンはウエーハ面
で結像するように設定されている為、フオトマス
クの金属薄膜パターン上の光学的不透明な異物は
ウエーハ上に結像するが、フオトマスク保護装置
の保護膜上の該異物はウエーハ上では結像しな
い。従つて半導体集積回路素子の欠陥化が避けら
れる。
第3図に従来のフオトマスクの保護装置の断面
図、第4図に同じ装置の斜視図を示す。第3図及
び第4図において、1は上下が開口した支持枠、
2は1の上端で接着された光学的透明なフオトマ
スク保護膜である。3は本保護装置をフオトマス
クのガラス基板上に接着固定するための接着層で
ある。尚、4はフオトマスクであり、5はガラス
基板、6は金属薄膜パターンの書かれている面で
ある。
通常、支持枠はアルマイト、ステンレス等の金
属製、フエノール樹脂等の合成樹脂製のものが採
用されており、いずれの支持枠も通常2.0〜7.0mm
(縦)、1.5〜2.5mm(横)の断面積のものが多く用
いられている。
保護膜は光学的透明性に優れる硝化綿、酢酸
綿、酢酪酸綿等が用いられ、膜の厚みは0.7〜
4.5μのものが採用されている。
〔考案が解決しようとする問題点〕
しかし、これまで第3図、第4図に示すような
フオトマスクの保護装置をフオトマスクへ設置し
た場合、フオトマスク4、支持枠1、保護膜2及
び接着層3により囲まれた部分Aは密閉状態にな
つていた。この為、気圧や温度が急激に変化した
りすると、Aの部分とAを取りまく部分(以後”
外気”という。)との間に圧力差が生じ、結果と
して透明保護膜にひずみが発生し、ウエーハ上へ
フオトマスクの金属薄膜パターンの正確な転写が
行われなくなるという問題点があつた。
上記問題点を改善すべく保護装置の支持枠に直
径0.5mm以下の微小孔を複数個所設けることが提
案されている(特開昭60−22130号公報)。しか
し、この方法では支持枠へ微小孔を複数個設ける
ことによる支持枠の強度低下、ならびにAの部分
と外気との圧力差をなくす為の空気の出入り、特
に外気よりAの部分へ空気が入る場合、微小な異
物も一緒に入り、フオトマスクの金属薄膜パター
ン上へ落下する場合があるという問題点があつ
た。
〔問題点を解決するための手段〕
本考案者らは上記の問題点を解決すべく鋭意研
究の結果、フオトマスク保護装置をフオトマスク
のガラス基板へ接着固定する為の接着層に通気手
段を設けることにより、第3図に示すAの部分と
外気との温度差、気圧差による光学的透明保護膜
のひずみ発生を防ぐことができ、且つ圧力差をな
くす為の空気の出入り、特に外気よりAの部分へ
の空気の流入時に光学的不透明異物の侵入を防ぐ
ことが可能となり、フオトマスクの金属薄膜パタ
ーンを正確にウエーハ上へ露光転写し、且つ金属
薄膜パターン上へ光学的不透明異物が付着するの
を防ぐことができることを見出し本考案を完成し
た。
即ち、本考案は、上部及び下部が開口している
支持枠と、支持枠の上端部で接着され、且つ上部
開口部を覆う透明薄膜と、支持層と粘着剤からな
り支持枠の下部に設けられた接着層とから構成さ
れるフオトマスク保護装置において、該接着層に
通気手段を設けたことを特徴とするフオトマスク
保護装置を提供するものである。
〔実施例〕
以下、本考案の実施態様を図面により説明す
る。
第1図は本考案のフオトマスク保護装置の一実
施例を示す斜視図である。第1図において、11
は支持枠、12は11の上端で接着された保護
膜、13は接着層、14はフオトマスク、15は
接着層に設けられた不連続部分である。11,1
2,13,14で囲まれた空間Bは不連続部分1
5において外気と連絡している。
保護装置の接着層は支持層の両面に粘着剤が被
覆されている両面粘着シートよりなつている。不
連続部分15の長さは0.1〜5mmが適当であり、
更に好ましくは0.2〜0.5mmである。不連続部分の
長さが長くなるとフオトマスクへのフオトマスク
保護装置の接着固定に悪影響が出てくる。又、
0.1mmより短くなると粘着剤により不連続部分が
塞がれてしまう可能性がある。
又、接着層の不連続部分の支持枠下端部にも粘
着剤を接着層より薄く被覆しておくと、不連続部
分の両端部にある粘着剤だけの場合より外気より
の空気流入時に、外気からの異物(ゴミ)をトラ
ツプするという点で極めて有効である。
第2図は本考案のフオトマスク保護装置の別の
実施例を示す斜視図である。本実施例は接着層1
3の不連続部分の外側を微小多孔性シート16で
覆つた状態を示す。本考案に使用する微小多孔性
シートは孔径0.2〜10μ程度のフイルター材が適当
であり、例えばジユラガード(ポリプラスチツク
ス(株)製)、ゴアテツクス(ダブリユー・エル・ゴ
ア社製)、タイペツク(デユポン社製)、セルボア
(積水化学(株)製)などを用いることができる。こ
れらの微小多孔性シートは該不連続部分より大き
く、その周辺を支持枠または接着層外側に粘着剤
で貼付けると良い。
更に別の実施態様として接着層の支持層の少な
くとも一部を通気性多孔質のものとしても良い。
支持層の空気流通の為の孔径は1μ〜0.5mmが好ま
しいが、3μ〜0.1mmが更に好ましい。孔径が小さ
すぎると外気との圧力差緩和に時間を要し、一方
大きすぎると支持層の強度に悪影響がある。空気
流通の経路は単純な直線より、ジグザグした複雑
なものの方が、外気よりの空気流入時に外気から
の異物(ゴミ)をトラツプするという面で有効で
ある。
上記本考案のフオトマスク保護装置において
は、フオトマスク保護装置とフオトマスクとによ
り作られる空間Bと外気とは温度、気圧等の差が
なくなり、光学的透明保護膜にひずみが発生しな
くなり、且つ、外気よりの空気の流入時に外気の
異物(ゴミ)の侵入を防ぐことが可能となる。
更に、上記実施例ではフオトマスクとしてマス
ターマスクの場合を示したが、レテイクルマスク
の場合にも適用可能であり、この場合はレテイク
ルマスクの両面にそれぞれフオトマスクの保護装
置を接着固定すれば良い。
〔考案の効果〕
本考案によれば、フオトマスク保護装置をフオ
トマスクへ接着固定する接着層に通気手段を設け
たので、保護膜のひずみ発生は防止され、フオト
マスクの金属薄膜パターンをウエーハ上に正確に
転写することが可能となり、且つフオトマスクと
フオトマスク保護装置との間にできる空間への異
物(ゴミ)の侵入を防ぐことが出来る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案のフオトマスク保護装置の一実
施例を示す斜視図、第2図は本考案のフオトマス
ク保護装置の別の実施例を示す斜視図、第3図は
従来のフオトマスク保護装置の一例を示す断面
図、第4図はその斜視図である。 1,11:支持枠、2,12:保護膜、3,1
3:接着層、4,14:フオトマスク、5:ガラ
ス基板、6:薄膜パターン、15:不連続部分、
16:微小多孔性シート。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 1 上部及び下部が開口している支持枠と、支持
    枠の上端部で接着され、且つ上部開口部を覆う
    透明薄膜と、支持層と粘着剤からなり支持枠の
    下部に設けられた接着層とから構成されるフオ
    トマスク保護装置において、該接着層に通気手
    段を設けたことを特徴とするフオトマスク保護
    装置。 2 接着層の通気手段が、不連続部分を設けるこ
    とである実用新案登録請求の範囲第1項記載の
    フオトマスク保護装置。 3 接着層の通気手段が、支持層の一部を通気性
    多孔質とすることである実用新案登録請求の範
    囲第1項記載のフオトマスク保護装置。
JP1985050919U 1985-04-05 1985-04-05 Expired JPH0123137Y2 (ja)

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JP1985050919U JPH0123137Y2 (ja) 1985-04-05 1985-04-05

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JP1985050919U JPH0123137Y2 (ja) 1985-04-05 1985-04-05

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JPS61167652U JPS61167652U (ja) 1986-10-17
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JP2001005169A (ja) * 1999-06-24 2001-01-12 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクルおよびペリクルの製造方法
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TWI724612B (zh) * 2014-11-17 2021-04-11 荷蘭商Asml荷蘭公司 護膜附接裝置

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