JP4343775B2 - ペリクルフレーム及びフォトリソグラフィー用ペリクル - Google Patents
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(実施例)
図1に示すような形状のアルミニウム合金製ペリクルフレーム10を機械加工により製作した。このペリクルフレームの寸法を計測したところ、外寸(12−12間および11−11間)は782×474mmの長方形、内寸は、長辺が幅(14−14間)が768mm、外側に突出した円弧の半径Rが約73730mmの円弧形状、短辺の直線部が455.4mmであり、ペリクルフレームの高さは5mmであった。なお、ペリクルフレームの外周及び内周の各コーナー部は、フレーム内周の場合半径Rが2mm、フレーム外周の場合半径Rが9mmの円弧状に滑らかになるように加工した。
図3に示すように、各辺の外側及び内側がいずれも直線になるように形成されたアルミニウム合金製ペリクルフレーム30を機械加工により製作した。このペリクルフレームの寸法を計測したところ、外寸782×474mm、内寸768×456mmであり、フレーム高さは5mmであった。なお、ペリクルフレームの外周及び内周の各コーナー部は、フレーム内周の場合半径Rが2mm、フレーム外周の場合半径Rが9mmの円弧状に滑らかになるように加工した。
Claims (3)
- フォトリソグラフィー用ペリクルのペリクルフレームであって、該フレームの少なくとも一対の辺の外側の形状が直線であり、且つ該辺の内側の形状が外側方向に向かって凸状に形成されているものであり、前記外側に向かって凸状に形成されている内側の辺の形状が、ペリクルフレームにペリクル膜を貼付した時に直線状になることを特徴とするペリクルフレーム。
- 前記外側に向かって凸状に形成されている内側の辺の形状が、円弧状、放物線状または多角形状であることを特徴とする請求項1記載のペリクルフレーム。
- 少なくとも請求項1または請求項2に記載のペリクルフレームを具備することを特徴とするフォトリソグラフィー用ペリクル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004172107A JP4343775B2 (ja) | 2004-06-10 | 2004-06-10 | ペリクルフレーム及びフォトリソグラフィー用ペリクル |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2005352096A JP2005352096A (ja) | 2005-12-22 |
JP4343775B2 true JP4343775B2 (ja) | 2009-10-14 |
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JP (1) | JP4343775B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20200066177A (ko) | 2018-11-30 | 2020-06-09 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 펠리클 프레임 및 펠리클 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5521464B2 (ja) * | 2009-09-29 | 2014-06-11 | 凸版印刷株式会社 | ペリクル、フォトマスク、および半導体デバイス |
JP2011158585A (ja) * | 2010-01-29 | 2011-08-18 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ペリクルおよびペリクルの製造方法 |
JP6156998B2 (ja) * | 2013-10-22 | 2017-07-05 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル |
JP6293045B2 (ja) * | 2014-12-17 | 2018-03-14 | 信越化学工業株式会社 | リソグラフィー用ペリクルの作製方法 |
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KR20200066177A (ko) | 2018-11-30 | 2020-06-09 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 펠리클 프레임 및 펠리클 |
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JP2005352096A (ja) | 2005-12-22 |
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