JP6156998B2 - ペリクル - Google Patents
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Description
本発明は、半導体デバイス、ＩＣパッケージ、プリント基板、液晶ディスプレイ又は有機ＥＬディスプレイ等を製造する際のゴミよけとして使用されるペリクルに関し、その辺長が５００ｍｍを超える大型のペリクルに関する。
ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体又は液晶ディスプレイ等の製造においては、半導体ウエハー又は液晶用ガラス板に紫外光を照射してパターンを作製するが、この時に用いるフォトマスクにゴミが付着していると、このゴミが紫外光を遮ったり、反射してしまうために、転写したパターンの変形、短絡などが発生し、品質が損なわれるという問題があった。
このため、これらの作業は、通常クリーンルームで行われているが、それでもフォトマスクを常に清浄に保つことが難しいので、フォトマスク表面にゴミよけとしてペリクルを貼り付けた後に露光を行っている。この場合、異物はフォトマスクの表面には直接付着せずペリクル上に付着するために、リソグラフィー時に焦点をフォトマスクのパターン上に合わせておけば、ペリクル上の異物は転写に無関係となる。
このようなペリクルは、一般に、光を良く透過させるニトロセルロース、酢酸セルロース又はフッ素樹脂などからなる透明なペリクル膜を、アルミニウム、ステンレスなどからなるフレームの上端面に貼り付けるか接着して構成されており、フレームの下端にはフォトマスクに装着するためのポリブデン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂等からなる粘着層および粘着層の保護を目的とした離型層（セパレータ）が設けられている。
ペリクル膜は、一般に薄い樹脂であるので、これを弛み無くフレームに接着し支持させるために、フレームに適切な大きさの張力が付加されている。したがって、一般に用いられている矩形のペリクルでは、ペリクル膜が貼り付けられた後のフレームは、ペリクル膜の張力によりいくらか内側への撓みが生じている。この現象は、例えばプリント基板や液晶ディスプレイ製造に用いられるフレームの辺長が大きい大型のペリクルの他、半導体製造用の小型のペリクルでも材質や寸法上の制約で低剛性のフレームを採用したペリクルにおいても、顕著に現れる。
一方、フォトマスクは、低コスト化のためにできるだけ露光領域を確保したいという要求があるが、上記のようなフレームの内側への撓みを出来るだけ小さくしないと、利用できる露光領域が減少するという問題がある。そのため、撓み量をできるだけ抑制しつつ、より幅の狭いフレームを開発し、内側の露光可能面積を広くすることができれば、コスト低減の効果はより大きいことになる。
ところで、フォトマスクおよびペリクルの外寸は、露光機毎に定められているのが実情である。例えばペリクルの外形は、フォトマスクの外形からフォトマスクの支持領域、ハンドリングで使用する領域などを差し引いて、外寸から５〜３０ｍｍ程度内側の寸法に設計されている。このような設計は、露光機だけでなく、検査機やペリクルマウント装置など、露光工程に関連する装置全ての仕様を前提に行われており、実際上これを変更することは難しいのが実情である。
そこで、従来から、より広い露光領域を達成するための手段が工夫されている。例えば、特許文献１には、短辺のフレーム幅を長辺よりも細くする大型ペリクル用枠体が記載されているが、この枠体では、例えば、辺長が１０００ｍｍを超えるような特に大型のフレームになると、剛性を維持するのが困難なために、大型のフレームに適用できないという問題がある。また、この枠体は、短辺については適用可能であるが、長辺については、フレームが撓むことから細くできないために、短軸方向に露光領域を拡大することができないという問題もある。
このようなフレームの撓みを解決する手段として、例えば、特許文献２には、枠体の少なくとも一対の辺において、中央部が外側凸の円弧形状部、その両側に外側凹の円弧形状部、さらにその外側に直線形状部を有するペリクルフレームが記載されている。このような形状のペリクルフレームによれば、ペリクル膜の張力によるフレームの内側への撓みが防止され、露光領域の減少を防止することができるとされているが、このような効果は、適切な設計によってペリクルフレームの撓み量を一定の値以下に制御することができた場合に限られる。
しかし、できるだけフレーム幅を細くしようとした場合、理屈から言えば、どのようなフレーム幅でも張力とバランスを取って、フレームの直線形状を得ることはできるはずであるが、一方で、そのような形状が得られたとしても剛性は確実に低下するために、変位が大きすぎてハンドリングができなかったり、わずかの外力でペリクル膜にシワが発生したりといった不具合が生じるため、このような方法だけでは実用に耐えられないという問題がある。
そこで、本発明の目的は、上記のような事情に鑑み、幅を細くしたフレームによって大きな露光面積を確保すると共に、ペリクルの製造、輸送中にもフレームの変形やシワが発生することがなく、所望の寸法精度でペリクル膜をフォトマスクに貼り付けることができるペリクルを提供することである。
本発明者らは、フォトマスクの実際の使用状況を鋭意調査し検討したところ、フォトマスクの長軸方向及び短軸方向の両方向で、より広い露光領域が必要とされるケースは極めて稀であり、実際の露光作業で要求されるのは、長軸方向および短軸方向のどちらか一方向がほとんどであることを見出したので、実質的な露光領域を最大限に得るために、露光パターンに使用しない領域をあえて犠牲にすることを発案し、本発明に至ったものである。
すなわち、本発明のペリクルは、少なくとも一対のフレームの辺長が５００ｍｍを超える矩形のペリクルであって、少なくとも一対の対向するフレームの辺長の４０〜８０％の辺中心を中心とした領域において、該フレームの幅がフレームの内側壁を凹にすることにより細くなっていると共に、その細くなっている領域のフレーム幅は３ｍｍ以上６ｍｍ以下であり、前記フレームの幅が細い部位の両端から隣接する辺に、又は対向する辺の同じ部位まで補強手段が接続されていると共に、該補強手段のフォトマスク側表面には、マスク粘着層が設けられておらず、ペリクル貼付後において、前記補強手段はフォトマスク表面から離間していることを特徴とするものである。
本発明のペリクルは、少なくとも一対のフレームの辺長が５００ｍｍを超える矩形のペリクルであって、少なくとも一対の対向するフレームの辺長の４０〜８０％の辺中心を中心とした領域において、該フレームの幅がフレームの内側壁を凹にすることにより細くなっていると共に、その細くなっている領域のフレーム幅は３ｍｍ以上６ｍｍ以下であり、そのフレームの幅が細い部位の両端から隣接する辺に、又は対向する辺の同じ部位まで補強手段が接続されていると共に、該補強手段の断面形状は、フォトマスク側に頂点を有する三角形状又はフォトマスク側の面幅が狭くなった台形状であることを特徴とするものである。
本発明のペリクルは、少なくとも一対のフレームの辺長が５００ｍｍを超える矩形のペリクルであって、少なくとも一対の対向するフレームの辺長の４０〜８０％の辺中心を中心とした領域において、該フレームの幅がフレームの内側壁を凹にすることにより細くなっていると共に、その細くなっている領域のフレーム幅は３ｍｍ以上６ｍｍ以下であり、マスク粘着層は、ペリクル全周にわたって同一の幅で設けられると共に、フレームの外周形状に沿った形状で配置されていることを特徴とするものである。
さらに、補強手段のペリクル膜側表面は、フレームのペリクル膜側表面と同一の平面上にあると共に、その表面上にはペリクル膜接着層が設けられ、ペリクル膜が接着されていることが好ましく、補強手段は、フレームと一体で加工されていることが好ましい。
本発明によれば、辺長の４０〜８０％の領域において、フレーム幅がフレーム内壁を凹ませて細くなっているので、ペリクルフレーム全体の剛性を維持しつつ、実際に使用する露光領域を拡大することができるから、ハンドリングの際にペリクル膜にシワが発生するなどの不具合がなく、所望の寸法精度を維持したままペリクル膜をフォトマスクに貼り付けることが可能となる。
以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明は、これに限定されるものではない。
図１〜４は、本発明のペリクルの実施形態（１）を示すものである。ペリクル１０を構成するフレーム１１は、長辺１１ａ、短辺１１ｂからなり、短辺１１ｂの中央部は、矢印Ａに示す領域において、その幅が内側方向から外側方向に向かって細くなっている。この領域Ａは、短辺１１ｂの内寸長の４０〜８０％とすることが有効であり、また領域Ａにおけるフレーム幅は、３ｍｍ以上６ｍｍ以下とすることが求められる。
このような領域Ａの長さは、使用するフォトマスクのパターン範囲に応じて適宜選択することが好ましいが、辺長の８０％を超えると剛性低下が顕著になるうえ、後述する補強手段を設けることができなくなるために、辺長の８０％以下とすることが有効である。また、領域Ａの下限は特に設けられないが、コストの面から判断すれば４０％を切ると好ましくない。また、領域Ａにおけるフレーム幅は、３ｍｍ以下ではマスク粘着層の領域やペリクル貼り付け時の加圧領域を確保することができず、また、６ｍｍ以上ではコスト的なメリットが小さくなるから、３ｍｍ以上６ｍｍ以下とすることが求められる。
フレーム１１は、アルミニウム合金、鉄鋼、ステンレス鋼、各種エンジニアリングプラスチック、繊維強化プラスチックなどの材料を用いて製作することができるが、機械切削加工又は鋳造や射出成形などの熱的な加工法により一体で製作され、その表面には反射、酸化及び発塵防止のための表面処理が施されることが好ましい。
図１〜４の実施形態（１）では、短辺１１ｂについてフレーム幅の細い領域Ａを設けているが、これは、長辺１１ａ側に設けられていてもよく、また、長辺、短辺の両方に設けられていてもよい。この領域Ａの両端は、剛性および発塵防止の観点から、テーパ状に幅を太くするなどして、その外側の領域と滑らかに接続されていることが好ましい。さらに、フレーム幅の細い領域Ａにおいて、例えば特許文献２に記載された従来技術のように、フレームを外側に突出させた構成を組み合わせて、フレーム内側への撓みを減少させるようにすることも特に好ましい。
フレーム１１の長辺１１ａには、通気孔１２および異物の侵入を防止するＰＴＦＥ多孔質膜などからなるシート状のフィルタ１３が粘着層（図示しない）を介して取り付けられている。また、フレーム１１上には、長辺１１ａの外側面にハンドリングのための非貫通の治具孔１４、短辺外側面にハンドリングのための溝１５が配置されている。
フレーム１１の一面には、ゴム系粘着剤、ホットメルト粘着剤、シリコーン粘着剤などからなるマスク粘着層１６が設けられ、その表面には必要に応じて粘着層保護のためのセパレータ（図示しない）が設けられる。マスク粘着層１６は、フレーム１１の外周形状に沿って、全周にわたって同じ幅で設けられ、フレーム幅が細くなっている領域Ａにおいても直線状に配置されている。
ここで、「外周形状に沿って」とは、外周に沿ってマスク粘着層が設けられることの他に、外周から一定距離の間隔を置いて配置されることも含まれる。また、フレーム１１のコーナー部などで局所的に外周形状と違いがあるものも本発明の思想に含まれる。
フレーム１１の逆の一面には、アクリル系接着剤、フッ素系接着剤、シリコーン系接着剤などからなるペリクル膜接着層１７が設けられ、その上面にセルロース系樹脂、フッ素系樹脂などからなる厚さ２〜１０μｍのペリクル膜１８が適切な張力で弛みなく接着される。
図５〜９には、本発明の別の実施形態（以下、実施形態（２）という）を示す。この実施形態（２）では、ペリクル５０は、長辺５１ａ、短辺５１ｂからなるフレーム５１から構成されるが、短辺５１ｂの中央付近の矢印Ｃの領域は、前記の実施形態（１）と同様に、フレーム５１の内側から外側に向かってペリクルフレーム幅が細くなっている。そして、この実施形態（２）では、さらに領域Ｃの両端部Ｄから隣接する長辺５１ａに向かって補強手段５１ｃが設けられている。
フレーム５１は、前記実施形態（１）と同様に、アルミニウム合金、鉄鋼、ステンレス鋼、各種エンジニアリングプラスチック、繊維強化プラスチックなどの材料を用いて製作することができるが、機械切削加工又は鋳造や射出成形などの熱的な加工法により一体で製作され、その表面には反射、酸化および発塵防止のための表面処理が施されることが好ましい。
補強手段５１ｃは、フレーム５１と同様の材料で製作することができる。別体で製作した補強手段５１ｃを接着剤、ネジ、リベットなどの固定手段で取り付けることもできるが、発塵防止の処理が煩雑であるため、機械切削加工又は鋳造、射出成形などの熱的な成形手段により長辺５１ａ、短辺５１ｂと一体で加工されることが好ましい。また、その接続部は、必要に応じてＲ面取りなどを設けて、発塵しにくい形状に設計されていることがさらに好ましい。
補強手段５１ｃの断面形状は、図９（ａ）に示すように、フォトマスク側に頂点を有する三角形状又は図９（ｂ）に示すように、フォトマスク側が狭い面幅となった台形状であることが好ましい。なお、ここで二点鎖線９０はペリクル５０を貼り付けた際のフォトマスク表面位置を示す仮想線であり、二点鎖線９１はフォトマスク上のパターンを示す仮想線である。
補強手段５１ｃの三角形状又は台形状は、その一つの側面はフォトマスクに対して垂直面、その反対側の面は傾斜面となっているが、このとき、垂直面がフォトマスクのパターン９１が配置されている方（内側）に配置され、傾斜面がパターン９１のない方（外側）に配置されていることが好ましい。補強手段５１ｃをこの向きで配置することで、露光時の乱反射が露光品質に及ぼす影響を低減することができる。そして、補強手段５１ｃの幅や隣接する辺への接続位置（角度）は、剛性向上の観点から検討して決定すれば良いが、概ね３〜１５ｍｍの範囲が好ましい。
フレーム５１の一つの面にはマスク粘着層５６が、また、その逆の面にはペリクル膜接着層５７がそれぞれ設けられているが、この補強手段５１ｃにはマスク粘着層５６は設けない方が良い。また、補強手段５１ｃの下面はフレームの長辺５１ａならびに短辺５１ｂの下面と同一面、もしくは高い位置にある方が良く、ペリクル貼付後にフォトマスク表面から離間した位置となることが好ましい。これは、外的な力により補強手段５１ｃがフォトマスク表面９０に接触して発塵することを防ぐためであり、離間する高さは少なくとも１ｍｍを確保することが好ましい。
そして、マスク粘着層５６は前記実施形態（１）と同様にして、フレーム５１の外形形状に沿って設けられることが好ましい。マスク粘着層５６は、補強手段５１ｃ上には設けられておらず、フレーム５１の外周形状に沿って、全周にわたって同じ幅で設けられ、フレーム幅が細くなっている領域Ｃにおいても直線状に配置されている。ここで、「外周形状に沿って」とは、上記実施形態（１）と同様に、外周に沿ってマスク粘着層が設けられることの他に、外周から一定距離の間隔を置いて配置されることも含まれる。また、フレーム５１のコーナー部などで局所的に外周形状と違いがあるものも本発明の思想に含まれる。
このような補強手段５１ｃのペリクル膜側表面は、長辺５１ａ、短辺５１ｂのペリクル膜側表面と同一の平面上にあることが良く、その表面上には長辺５１ａ、短辺５１ｂ上のペリクル膜接着層と連続して形成されたペリクル膜接着層５７が設けられ、さらにその表面にペリクル膜５８が適切な張力で弛みなく接着されていることが好ましい。
なお、この実施形態（２）でも、フレーム５１上には通気孔５２、フィルタ５３、治具孔５４、溝５５などが設けられているが、これらの好ましい態様は前記実施形態（１）と同様なので説明は省略する。
図１０は、さらに別の実施形態（３）の上平面図を示したもので、長辺１０１ａ、短辺１０１ｂからなるフレーム１０１において、長辺１０１ａ上の幅が細くなった領域Ｅの両端Ｆから対向する辺に亘って補強手段１０１ｃが接続されている。そして、このような補強手段１０１ｃにより長辺１０１ａの剛性が確保されるため、フレーム幅の細い領域Ｅにおいても膜張力が維持されると共に、フレームの貼付精度も確保される。この実施形態（３）では、補強手段１０１ｃの配置以外の求められる実施態様は、上記実施形態（１）、（２）と同様なので、以後の説明は省略する。
図１１は、パターン１１１が描画されたフォトマスク１１０に上記実施形態（２）のペリクル５０を貼り付けた状態の平面図を示す。上記実施形態（１）、（２）および（３）は、補強手段の有無又はその配置が異なっているが、これらは、使用するフォトマスクのパターン１１１の形状によって適宜使い分ければ良い。
実施形態（１）は、最も簡素な構成であり、フレームの加工が容易であると共に、ペリクル内の構成要素が少ないことから、製造だけでなく使用中においても品質を維持しやすいという利点がある。また、実施形態（２）および（３）では、補強手段の効果により、実施形態（１）の場合よりもフレーム幅をさらに細くした設計が可能なので、より広い露光領域を確保することができるという効果がある。さらに、実施形態（３）は、実施形態（２）に比べて、フレームの加工、製作が比較的容易という利点があるが、一方で、短辺側については、対向する辺までの距離が長く、補強手段がきわめて長いものとなるために、適用しにくいという欠点がある。
ところで、前記したように、フォトマスク上で実際にパターンが描画される範囲は、製造される商品により様々だが、長軸方向、短軸方向の両方向においてぎりぎりまで露光領域が要求されることは稀であり、図１１に示すように、露光に必要な領域は長軸方向、短軸方向の何れか一方向だけであることが多い。したがって、大半の場合では、露光に影響のない領域が存在するために、フレーム幅を細くする必要が無かったり、補強手段を設けるようなことが可能となるから、数種類のモデルを設定しておけば、大半の事例について対応することが可能となる。
また、本発明のペリクルでは、その外形は標準的なペリクルと同一形状に揃えることができるので、一般に使用されている貼付装置を使用することが可能であり、また、検査機などの工程も、検査領域を変更するだけでよいので、極めて導入しやすいという利点がある。
以下、本発明の実施例について、さらに具体的に説明する。
〈実施例１〉
図１〜４に示すような実施態様（１）のペリクル１０を製作した。フレーム１１はアルミニウム合金を機械加工して製作し、外寸７５０ｘ９０４．５ｍｍ、内寸７３４ｘ８９０．５ｍｍ、高さ５．８ｍｍとした。フレーム１１の短辺１１ｂには幅の細い領域Ａがあり、この領域Ａの長さは５８０ｍｍとした。また、短辺１１ｂの幅は７ｍｍとしたが、この領域Ａでのフレーム幅は４ｍｍと細くなっている。このフレーム１１には、通気孔１２、治具孔１４、溝１５を設けると共に、全面に黒色アルマイト処理を施した。
〈実施例１〉
図１〜４に示すような実施態様（１）のペリクル１０を製作した。フレーム１１はアルミニウム合金を機械加工して製作し、外寸７５０ｘ９０４．５ｍｍ、内寸７３４ｘ８９０．５ｍｍ、高さ５．８ｍｍとした。フレーム１１の短辺１１ｂには幅の細い領域Ａがあり、この領域Ａの長さは５８０ｍｍとした。また、短辺１１ｂの幅は７ｍｍとしたが、この領域Ａでのフレーム幅は４ｍｍと細くなっている。このフレーム１１には、通気孔１２、治具孔１４、溝１５を設けると共に、全面に黒色アルマイト処理を施した。
次いで、このフレーム１１をクラス１０のクリーンルーム中に持ち込み、界面活性剤と純水で洗浄し、良く乾燥させた。そして、フレーム１１の下側の面にはマスク粘着層１６としてシリコーン粘着剤（信越化学工業製）をディスペンサにより塗布し、加熱して硬化させた。このマスク粘着層１６は、フレーム１１の外形形状に沿って幅４ｍｍの一定幅で設けられている。
また、その反対側の面にはペリクル膜接着層１７としてシリコーン粘着剤（信越化学工業製）を塗布し、これを加熱して完全に硬化させた。そして、通気孔１２を覆うように、ＰＴＦＥ製のメンブレンフィルタ１３をアクリル製粘着シートを介して取り付けた。
さらに、石英基板上にフッ素系樹脂（商品名：サイトップ、旭硝子株式会社製）を溶媒で希釈してダイコート法にて均一に塗布した後、オーブン中で加熱して溶媒を除去して乾燥膜を得た。その後、基板外形と同寸の枠状治具を基板上の膜に接着して、この枠状治具を基板より持ち上げることで膜を剥離し、厚さ約４μｍのペリクル膜１８を作製した。そして、このペリクル膜１８を製作したフレーム１１上のペリクル膜接着層１７に接着させ、周囲の余剰な部分をカッターにて切り出して、ペリクル１０を完成させた。
この完成したペリクル１０について、ペリクル膜１８を良く観察したところ、シワや弛みは一切見受けられず、良好な状態を維持していた。また、その後に、８００ｘ９２０ｘ厚さ１０ｍｍの石英基板（図示しない）にこのペリクル１０を貼り付けてみたが、ハンドリングの際にも、フレーム１１に大きな撓みが生じたり、ペリクル膜１８にシワが発生するようなことはなかった。さらに、貼付後の寸法を確認したところ、長辺、短辺の寸法が規定通りであり、長辺と短辺の間の直角度も維持されていた。
<実施例２>
図５〜９に示すような実施態様（２）のペリクル５０を製作した。このペリクルの大きさは、外寸１１４６ｘ１３６６ｍｍ、内寸１１２２ｘ１３４２ｍｍ、高さ５．８ｍｍとした。フレーム５１の短辺５１ｂには幅の細い領域Ｃがあり、この領域Ｃの長さは８８０ｍｍとした。短辺５１ｂの幅は１２ｍｍだが、この領域Ｃでのフレーム幅は５．５ｍｍと細く形成した。
図５〜９に示すような実施態様（２）のペリクル５０を製作した。このペリクルの大きさは、外寸１１４６ｘ１３６６ｍｍ、内寸１１２２ｘ１３４２ｍｍ、高さ５．８ｍｍとした。フレーム５１の短辺５１ｂには幅の細い領域Ｃがあり、この領域Ｃの長さは８８０ｍｍとした。短辺５１ｂの幅は１２ｍｍだが、この領域Ｃでのフレーム幅は５．５ｍｍと細く形成した。
また、補強手段５１ｃは、領域Ｃ両端のＤ部から隣接する長辺５１ａと接続するように、長辺５１ａ、短辺５１ｃと一体加工されている。ここで、補強手段５１ｃは幅６ｍｍｍ、高さ５．８ｍｍで、長辺５１ａ、短辺５１ｂとの接続部は半径２ｍｍのＲで滑らかに接続し、長辺５１ａとなす角度は３０度と設定した。さらに、このフレーム５１には、直径１．５ｍｍの通気孔５２、治具孔５４、溝５５を設け、全面に黒色アルマイト処理を施した。
このフレーム５１について、前記実施例１と同様に、マスク粘着層５６、ペリクル膜接着層５７を設け、ペリクル膜５８を接着してペリクル５０を仕上げ、その後全体を観察したところ、フレーム５１の短辺５１ｂは剛性が維持されており、ハンドリングの際にもペリクル膜５８にはシワや弛みは全く観察されなかった。また、このペリクル５０を１２２０ｘ１４００ｘ１３ｍｍの石英基板（図示しない）に貼り付けてみたが、各辺の寸法および長辺と短辺の間の直角度は所定の精度に維持されていた。
<比較例１>
比較例１では、上記実施例１と同じ外寸のペリクルを同一の工程にて製作した。ただし、このペリクルは、図１２に示す従来のような外形で、外寸７５０ｘ９０４．５ｍｍ、内寸７３４ｘ８９６．５ｍｍ、高さ５．８ｍｍであり、短辺の全長全てが幅４ｍｍと細くなっている。
比較例１では、上記実施例１と同じ外寸のペリクルを同一の工程にて製作した。ただし、このペリクルは、図１２に示す従来のような外形で、外寸７５０ｘ９０４．５ｍｍ、内寸７３４ｘ８９６．５ｍｍ、高さ５．８ｍｍであり、短辺の全長全てが幅４ｍｍと細くなっている。
この完成したペリクルを確認したところ、フレーム短辺を軽く指で触った程度でも短辺中央付近のペリクル膜にはシワが発生し、取扱いには非常に注意を要するものであった。また、８００ｘ９２０ｘ１０ｍｍの石英基板（図示しない）に貼りつけたところ、短辺中央部付近のペリクル膜にわずかな斜め方向のシワが認められたほか、その寸法も正規の位置から約１．５ｍｍずれた平行四辺形状となっており、使用することができない状態のものであった。
<比較例２>
比較例２では、上記実施例２と同じ外寸のペリクルを同一の工程にて製作した。ただし、このペリクルも、図１２に示す従来のような外形で、外寸１１４６ｘ１３６６ｍｍ、内寸１１１６ｘ１３５４ｍｍ、高さ５．８ｍｍであり、短辺の全長全てが幅６ｍｍと細くなっている。
比較例２では、上記実施例２と同じ外寸のペリクルを同一の工程にて製作した。ただし、このペリクルも、図１２に示す従来のような外形で、外寸１１４６ｘ１３６６ｍｍ、内寸１１１６ｘ１３５４ｍｍ、高さ５．８ｍｍであり、短辺の全長全てが幅６ｍｍと細くなっている。
この完成したペリクルを確認したところ、一応、ペリクルの形状は維持されていたが、フレーム短辺を軽く指で触れただけで付近のペリクル膜にはシワが発生した。また、このペリクルを水平状態から垂直に立てようとしたところ、フレーム短辺の撓みが大きすぎて塑性変形の恐れがあるために、短辺中央を下から支えないと垂直に立てることができなかった。さらに、垂直に立てた状態でも、ちょっとした外力でフレームが変形してしまうため、貼り付け作業をはじめ、通常に使用するのが極めて困難な状態のものであった。
１０ ペリクル
１１ フレーム
１１ａ 長辺
１１ｂ 短辺
１２ 通気孔
１３ フィルタ
１４ 治具孔
１５ 溝
１６ マスク粘着層
１７ ペリクル膜接着層
１８ ペリクル膜
５０ ペリクル
５１ フレーム
５１ａ 長辺
５１ｂ 短辺
５１ｃ 補強手段
５２ 通気孔
５３ フィルタ
５４ 治具孔
５５ 溝
５６ マスク粘着層
５７ ペリクル膜接着層
５８ ペリクル膜
９０ フォトマスク表面
９１ パターン
１０１ フレーム
１０１ａ 長辺
１０１ｂ 短辺
１０１ｃ 補強手段
１１０ フォトマスク基板
１１１ パターン部
１１ フレーム
１１ａ 長辺
１１ｂ 短辺
１２ 通気孔
１３ フィルタ
１４ 治具孔
１５ 溝
１６ マスク粘着層
１７ ペリクル膜接着層
１８ ペリクル膜
５０ ペリクル
５１ フレーム
５１ａ 長辺
５１ｂ 短辺
５１ｃ 補強手段
５２ 通気孔
５３ フィルタ
５４ 治具孔
５５ 溝
５６ マスク粘着層
５７ ペリクル膜接着層
５８ ペリクル膜
９０ フォトマスク表面
９１ パターン
１０１ フレーム
１０１ａ 長辺
１０１ｂ 短辺
１０１ｃ 補強手段
１１０ フォトマスク基板
１１１ パターン部
Claims (5)
- 少なくとも一対のフレームの辺長が５００ｍｍを超える矩形のペリクルであって、少なくとも一対の対向するフレームの辺長の４０〜８０％の辺中心を中心とした領域において、該フレームの幅がフレームの内側壁を凹にすることにより細くなっていると共に、その細くなっている領域のフレーム幅は３ｍｍ以上６ｍｍ以下であり、前記フレームの幅が細い部位の両端から隣接する辺に、又は対向する辺の同じ部位まで補強手段が接続されていると共に、該補強手段のフォトマスク側表面には、マスク粘着層が設けられておらず、ペリクル貼付後において、前記補強手段はフォトマスク表面から離間していることを特徴とするペリクル。
- 少なくとも一対のフレームの辺長が５００ｍｍを超える矩形のペリクルであって、少なくとも一対の対向するフレームの辺長の４０〜８０％の辺中心を中心とした領域において、該フレームの幅がフレームの内側壁を凹にすることにより細くなっていると共に、その細くなっている領域のフレーム幅は３ｍｍ以上６ｍｍ以下であり、前記フレームの幅が細い部位の両端から隣接する辺に、又は対向する辺の同じ部位まで補強手段が接続されていると共に、該補強手段の断面形状は、フォトマスク側に頂点を有する三角形状又はフォトマスク側の面幅が狭くなった台形状であることを特徴とするペリクル。
- 少なくとも一対のフレームの辺長が５００ｍｍを超える矩形のペリクルであって、少なくとも一対の対向するフレームの辺長の４０〜８０％の辺中心を中心とした領域において、該フレームの幅がフレームの内側壁を凹にすることにより細くなっていると共に、その細くなっている領域のフレーム幅は３ｍｍ以上６ｍｍ以下であり、マスク粘着層は、ペリクル全周にわたって同一の幅で設けられると共に、フレームの外周形状に沿った形状で配置されていることを特徴とするペリクル。
- 前記補強手段のペリクル膜側表面は、フレームのペリクル膜側表面と同一の平面上にあると共に、その表面上にはペリクル膜接着層が設けられ、ペリクル膜が接着されていることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載のペリクル。
- 前記補強手段は、フレームと一体で加工されていることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載のペリクル。
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