JP2002318451A - ペリクル用枠体及びその製造方法 - Google Patents
ペリクル用枠体及びその製造方法Info
- Publication number
- JP2002318451A JP2002318451A JP2001125410A JP2001125410A JP2002318451A JP 2002318451 A JP2002318451 A JP 2002318451A JP 2001125410 A JP2001125410 A JP 2001125410A JP 2001125410 A JP2001125410 A JP 2001125410A JP 2002318451 A JP2002318451 A JP 2002318451A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- pellicle frame
- aluminum alloy
- frame
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
金で一体的に成形された精度が良く、均一で強度の大き
いペリクル用枠体を目的とする。 【解決手段】 上縁にペリクル膜5を展張して貼着支持
し得るペリクル3のペリクル用枠体1であって、各辺1
a、1b、1c、1dがダイキャストによってアルミ合
金を用いて一体的に成形された構造である。
Description
て貼付支持し得るペリクル用枠体及びその製造方法に係
り、特に、IC(集積回路)、LSI(大規模集積回
路)、TFTLCD(薄膜トランジスタ液晶ディスプレ
イ)等の半導体装置を製造する際のリソグラフィー工程
で使用されるフォトマスクやレティクル(以下、「マス
ク」という)に固着して使用されるペリクルのペリクル
用枠体であって、該枠体の各辺がダイキャストを用いて
アルミ合金で一体的に成形されたペリクル用枠体及びそ
の製造方法に関するものである。
枠体に透明薄膜からなるペリクル膜を接着剤等を用いて
張着されたものであり、ペリクル膜はマスクとは所定の
距離(ペリクル枠高さ)をおいてマスク上に位置させ、
マスク上に塵埃等の異物等が付着するのを防止するもの
である。
がペリクル上に付着したとしても、それ等の像はフォト
レジストが塗布された半導体ウェハ上には結像しない。
従って、マスクをペリクルで保護することにより、異物
等の像による半導体集積回路の短絡や断線等、また液晶
ディスプレイ(以下、「LCD」という)の欠陥を防止
することが出来、フォトリソグラフィ工程での製造歩留
りが向上する。
て、その寿命を延ばす等の効果がペリクルにより得られ
る。
おいては、共に露光工程におけるスループット向上のた
めに露光する光の透過率が高いことが要求される。その
ために、透明薄膜の片面或いは両面に反射防止層が設け
られるようになってきている。反射防止層は単層或いは
2層以上の層で構成されることもある。
は、特開昭61-209449号公報に開示されたテトラフルオ
ロエチレン−ビニリデンフルオライド−ヘキサフルオロ
プロピレンポリマー、或いは特開平1-100549号公報に開
示されたポリフルオロアクリレート、或いは特開平3-39
963号公報に開示された主鎖に環状構造を有するフッ素
ポリマーであるデュポン社製のテフロンAF(商品
名)、或いは旭硝子社製のサイトップ(商品名)等が提
案されている。
素含有ポリマーや、フッ化カルシウムやフッ化マグネシ
ウム等の無機フッ素系材料が用いられている。透明薄膜
層(中心層)材料の多くはニトロセルロースやセルロー
スアセテートプロピオネート、カーボネート化アセチル
セルロース等のセルロース誘導体及びこれらの混合物が
用いられている。
実用化により大画面化、高精細化、大容量化等が達成さ
れつつあるが、TFT−LCD製造で使用されるペリク
ルもこれに対応して大型化及び面内の光透過性の均一性
が求められ、また半導体製造用のペリクルにおいても均
一な高光線透過率を持つペリクル膜が求められている
が、更にペリクル自身及びその周辺からミクロンオーダ
ーの塵埃等の異物の発生も許されないペリクルが求めら
れている。
ルは、ペリクル用枠体と、該ペリクル用枠体の一側面に
接着剤を介して張着されたペリクル膜とから構成される
ものである。従来のペリクル用枠体は、大きな寸法を持
った金属板材、或は押し出し成形金属材を削り出し加工
することによって製造されていた。
のペリクル用枠体は、大きな寸法を持った金属板材或は
押し出し成形された金属材を削り出して製造しなければ
ならないので、その削り出し作業は熟練者が慎重に作業
をしなければならず、ペリクル用枠体が大きくなるほど
削り出し加工時間が長くなる等の問題があった。
前述のように多くの部分を切削するので、ペリクル用枠
体を形成する部材以外の材料は全て無駄になり、従って
出来上がったペリクル用枠体は極めてコスト高になる等
の問題があった。
方法は、前述の従来の多くの問題点に鑑み開発された全
く新しい発明であって、特にペリクル用枠体の各辺をダ
イキャストによってアルミ合金を用いて一体的に成形し
たペリクル用枠体と、ダイキャスト用成形金型を用いて
その内部のキャビティ内でアルミ合金製のペリクル用枠
体をダイキャストで一体成形して製造する方法の技術を
提供するものである。
枠体は、前述の従来の問題点を根本的に改善した発明で
あって、その要旨は、ペリクル膜を展張して貼付支持し
得るペリクル用枠体であって、該ペリクル用枠体の各辺
がダイキャストによってアルミ合金を用いて一体的に成
形されて構成されていることを特徴としたペリクル用枠
体である。
ペリクル膜を展張して展張支持し得るペリクル用枠体が
ダイキャストによってアルミ合金を用いて一体的に成形
されて構成されているので、極めて精度が良くかつ大き
な強度を持ったペリクル用枠体を均一な品質で安価に構
成することが出来る。
前述の従来の製造方法を根本的に改善した方法であっ
て、その発明の要旨は、ペリクル膜を展張して貼付支持
し得るペリクル用枠体を製造する方法に於いて、ダイキ
ャスト用成形金型内に前記ペリクル用枠体を一体的に成
形し得るキャビティを予め形成し、溶融アルミ合金をプ
ランジャーを介して前記ダイキャスト用成形金型のキャ
ビティ内に圧入し、該溶融アルミ合金が冷却固化した後
でキャビティを開いてペリクル用枠体を取出すことを特
徴としたペリクル用枠体の製造方法である。
キャスト用成形金型を使用し、その金型内にペリクル用
枠体を一体的に成形し得るキャビティを予め形成し、こ
のキャビティ内に溶融アルミ合金を圧入することによっ
てペリクル用枠体を一体的に成形する方法であるので、
成形が容易で均一なものを安価に大量生産することが出
来る。
比較して、従来のような寸法の大きな金属板或は押出成
形金属材から枠体を削り出す必要がないので、作業を極
めて簡単にすることが出来、かつ従来のように切削して
廃棄する材料部分が全くないので、材料の無駄を無く
し、安いコストで製造することが出来る。
枠体及びその製造方法の一実施例を具体的に説明する
と、図1は本発明に係るペリクル用枠体の斜視図、図2
は図1のペリクル用枠体を用いてペリクルを構成した状
態の斜視説明図、図3は本発明の製造方法の原理を示す
ダイキャストの断面簡略説明図である。
用枠体であって、前後辺1a、1b及び左右辺1c、1
dの合計4辺によって矩形状に形成されている。これ等
の各辺1a、1b、1c、1dは後述のように、アルミ
合金を材料に用いてダイキャストによって一体的に成形
されている。ペリクル用枠体1の周側面には、ペリクル
を持上げることが出来るペリクルホルダーの先端部を挿
入し得る溝2が設けられている。
述の図1のペリクル用枠体1の上縁(上面)に接着剤4
を介してペリクル膜5が展張して貼着されている。かつ
ペリクル用枠体1の下縁(下面)には粘着材6が塗着さ
れて構成されている。
やレティクル(以下単にマスクという)に貼り付ける際
に使用されるものであって、この粘着材6の下面には、
ペリクル3をマスクに貼着する時に、粘着材6より簡単
に剥離し得る保護フィルム7が貼着されている。この保
護フィルム7の側縁所定位置には耳片7aが一体的に突
設されている。
層(中心層)材料としては、ニトロセルロース、セルロ
ースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セ
ルロースアセテートプロピオネート、エチルセルロー
ス、カーボネート化アセチルセルロース等のセルロース
誘導体が使用出来る。
用いても良いが、2種以上のセルロース誘導体との混合
物を用いても良い。使用するセルロース誘導体は、高分
子量のもの程、薄膜の形状保持性が良いため好ましい。
は5万以上である。このような材料のうち、ニトロセル
ロースは旭化成株式会社製、セルロースアセテート、セ
ルロースアセテートブチレート、セルロースアセテート
プロピオネートはイーストマン・コダック社製のものが
夫々市販されており、容易に入手することが出来る。
タノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、
酢酸ブチル、酢酸イソブチル、乳酸エチル、酢酸セロソ
ルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート等、及びこれ等の溶媒の混合系が使用される。
去のための濾過をしてから、スピンコートする。透明薄
膜(中心層)の膜厚は、溶液粘度や基板の回転速度を変
化させることにより適宜変化させることが出来る。基板
上に形成された薄膜に含まれている溶媒はホットプレー
ト、オーブン等で揮発させる。
層以上の層で構成されるが、単層の場合(表裏に反射防
止層を形成すると、ペリクル膜5の層数は3層)は、反
射防止層の屈折率n1が透明薄膜(中心層)の屈折率n
Cに対してn1=(nC)1/ 2の時に反射防止効果は最
大となり、この値に近い反射防止層材料を選択する程、
反射防止効果は大きくなる。反射防止層の厚みdは、反
射防止すべき波長をλとするとn1×d=λ/4とすれ
ば良い。
様に表裏に反射防止層を形成するとペリクル膜5の層数
は5層)は、透明薄膜層に接する層を高屈折率反射防止
層にし、最外層を低屈折率反射防止層とするが、最外層
の反射防止層から順に屈折率と厚みをn1、d1及びn
2、d2とすると、n2/n1=(nC)1/2の時に反
射防止効果は最大となり、この値に近いn2/n1の反
射防止層材料を選択する程、反射防止効果は大きくな
る。
すべき波長をλとすると、n1×d1=n2×d2=λ
/4とすれば良い。中心層にはセルロース誘導体、ポリ
ビニルブチラール、ポリビニルプロピオナール等を使用
することが出来、その場合にはこれらの屈折率は1.5
前後であるから、(nC)1/2が約1.22となる。従
って、反射防止層材料の屈折率としては、反射防止層が
単層の場合、n2/n1が1.22に近い程、反射防止
効果が大きくなり、好ましい。
材料としては、テトラフルオロエチレン−ビニリデンフ
ルオライド−ヘキサフルオロプロピレンポリマー、ポリ
フルオロアクリレート、主鎖に環状構造を有するフッ素
ポリマーであるデュポン社製のテフロンAF(商品
名)、旭硝子社製のサイトップ(商品名)等のフッ素系
材料が使用出来る。
放射線や遠紫外線等の光を照射することにより、濾過
性、制電性、ペリクル膜5とペリクル用枠体1との接着
性が向上する。
の一実施例について説明する。先ず、セルロースアセテ
ートプロピオネート(イーストマン・コダック社製、
「CAP482−20」、以下「CAP」という)を、
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに
溶解し、CAP溶液を作製する。
を、フィルターで濾過し、その濾過液を上記中心層の上
に数cc滴下し、600rpmで30秒間回転させた
後、風乾し、更にホットプレート上で乾燥し、反射防止
層を形成した。
で塗布用基板により剥離し、更に含フッ素樹脂溶液数c
cを上記基板から剥離した2層膜の中心層露出面に滴下
し、600rpmで30秒間回転させた後、風乾して反
射防止層を形成し、3層膜よりなるペリクル膜5を得
た。このように製造したペリクル膜5を前述のようにダ
イキャストで一体成形されたアルミ合金のペリクルの上
面に接着剤4を介して接着して、図2に示すようなペリ
クル3を構成した。
クル用枠体1は、次に例示するようなアルミダイキャス
トを実施することが出来る鋳造装置を用いて製造するこ
とが出来る。
を実施する鋳造装置に於いては、可動型8aと固定型8
bとよりなる成形金型8の内側に、前記ペリクル用枠体
1の外形と同一の内径を有するキャビティ9を予め設け
る。そしてキャビティ9の入口部にはゲート(湯口)1
0を設け、かつそのキャビティ9の反対側にはオーバー
フロー空間11を設ける。
合し、このスリーブ12の筒内12aと前記ゲート10
との間に湯道13を連通する。該スリーブ12の外壁所
定位置には、融解アルミ合金14を流入させることが出
来る流入口15を穿設し、さらにスリーブ12の一端に
は、スリーブ12の筒内12aを挿入し得るプランジャ
ー16を先端に有する油圧シリンダー17を取付け固定
して構成する。
明に係るペリクル用枠体1を製造するに当っては、図示
しない溶解炉から溶解したアルミ合金14を柄杓ですく
い、スリーブ12の流入口15からスリーブ12の内筒
12a内に流入させる。
その先端のプランジャー16をスリーブ12の内筒12
a内に押し込むことによって、前述のように内筒12a
内に流入されていた溶融アルミ合金14をゲート10か
らキャビティ9内に圧入させて、キャビティ9の内周面
に沿った形状のアルミ合金の固まりを形成する。
後で、成形金型8の可動型8aと固定型8bとを開却
し、固化したアルミ合金の固まりを取出し、かつ該固ま
りの周りに付着した前記ゲート10或はオーバーフロー
空間11に対応する突起物(図示せず)を除去すること
によって、図1に示す如きペリクル用枠体1を製造する
ことが出来る。
よって、4辺1a、1b、1c、1dが夫々アルミ合金
によって一体的に成形されたペリクル用枠体1を極めて
精度良く、均一で大きな強度を持った構造に大量生産す
ることが出来る。また、前述のような周側面の一部にペ
リクルホルダーの先端部を挿入し得る溝2も前記ペリク
ル用枠体1の成形と同時に形成することが出来る。
は、ペリクル膜を展張して展張支持し得るペリクル用枠
体がダイキャストによってアルミ合金を用いて一体的に
成形されて構成されているので、極めて精度が良くかつ
大きな強度を持ったペリクル用枠体を均一な品質で安価
に構成することが出来る効果を有している。
は、ダイキャスト用成形金型を使用し、その金型内にペ
リクル用枠体を一体的に成形し得るキャビティを予め形
成し、このキャビティ内に溶融アルミ合金を圧入するこ
とによってペリクル用枠体を一体的に成形する方法であ
るので、成形が容易で均一なものを安価に大量生産する
ことが出来る効果を有している。
と比較して、従来のような寸法の大きな金属板或は押出
成形金属材から枠体を削り出す必要がないので、作業を
極めて簡単にすることが出来、かつ従来のように切削し
て廃棄する材料部分が全くないので、材料の無駄を無く
し、安いコストで製造することが出来る効果も有してい
る。
した状態の斜視説明図である。
断面簡略説明図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 ペリクル膜を展張して貼付支持し得るペ
リクル用枠体であって、該ペリクル用枠体の各辺がダイ
キャストによってアルミ合金を用いて一体的に成形され
て構成されていることを特徴としたペリクル用枠体。 - 【請求項2】 ペリクル膜を展張して貼付支持し得るペ
リクル用枠体を製造する方法に於いて、ダイキャスト用
成形金型内に前記ペリクル用枠体を一体的に成形し得る
キャビティを予め形成し、溶融アルミ合金をプランジャ
ーを介して前記ダイキャスト用成形金型のキャビティ内
に圧入し、該溶融アルミ合金が冷却固化した後でキャビ
ティを開いてペリクル用枠体を取出すことを特徴とした
ペリクル用枠体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001125410A JP2002318451A (ja) | 2001-04-24 | 2001-04-24 | ペリクル用枠体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001125410A JP2002318451A (ja) | 2001-04-24 | 2001-04-24 | ペリクル用枠体及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002318451A true JP2002318451A (ja) | 2002-10-31 |
Family
ID=18974636
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001125410A Pending JP2002318451A (ja) | 2001-04-24 | 2001-04-24 | ペリクル用枠体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002318451A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100730039B1 (ko) * | 2006-03-17 | 2007-06-20 | 김학성 | 펠리클 프레임의 제조방법 |
KR20130112737A (ko) | 2012-04-04 | 2013-10-14 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 펠리클 프레임 및 펠리클 |
WO2014020912A1 (ja) * | 2012-08-02 | 2014-02-06 | 三井化学株式会社 | ペリクル |
JP2014085435A (ja) * | 2012-10-22 | 2014-05-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクルフレーム及びこのペリクルフレームで構成されたペリクル |
JP2015081968A (ja) * | 2013-10-22 | 2015-04-27 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0190044U (ja) * | 1987-12-07 | 1989-06-14 | ||
JPH09236908A (ja) * | 1996-02-29 | 1997-09-09 | Sky Alum Co Ltd | 耐光性に優れた低反射回路転写装置用防塵枠部材およびその製造方法 |
JPH10166546A (ja) * | 1996-12-11 | 1998-06-23 | Riso Kagaku Corp | スクリーン枠 |
JPH1177233A (ja) * | 1997-08-29 | 1999-03-23 | Toyota Motor Corp | 金型鋳造用離型剤 |
JPH1192850A (ja) * | 1997-09-18 | 1999-04-06 | Tokyo Tungsten Co Ltd | ダイキャスト金型用材料 |
JPH11244992A (ja) * | 1998-03-05 | 1999-09-14 | Toyota Motor Corp | 金型鋳造用黒鉛系離型剤及びその製造方法 |
JP2000117935A (ja) * | 1998-10-12 | 2000-04-25 | Ise Electronics Corp | スクリーン印刷方法及びスクリーン製版枠 |
JP2000257518A (ja) * | 1999-03-10 | 2000-09-19 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 内燃機関用エアヒータ |
JP2000335133A (ja) * | 1999-06-01 | 2000-12-05 | Murakami:Kk | スクリーン印刷用版及びその製造方法 |
JP2000343198A (ja) * | 1999-06-08 | 2000-12-12 | Hitachi Metals Ltd | ダイカスト鋳造方法 |
JP2001003807A (ja) * | 2000-01-01 | 2001-01-09 | Honda Motor Co Ltd | シリンダスリーブ構造 |
-
2001
- 2001-04-24 JP JP2001125410A patent/JP2002318451A/ja active Pending
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0190044U (ja) * | 1987-12-07 | 1989-06-14 | ||
JPH09236908A (ja) * | 1996-02-29 | 1997-09-09 | Sky Alum Co Ltd | 耐光性に優れた低反射回路転写装置用防塵枠部材およびその製造方法 |
JPH10166546A (ja) * | 1996-12-11 | 1998-06-23 | Riso Kagaku Corp | スクリーン枠 |
JPH1177233A (ja) * | 1997-08-29 | 1999-03-23 | Toyota Motor Corp | 金型鋳造用離型剤 |
JPH1192850A (ja) * | 1997-09-18 | 1999-04-06 | Tokyo Tungsten Co Ltd | ダイキャスト金型用材料 |
JPH11244992A (ja) * | 1998-03-05 | 1999-09-14 | Toyota Motor Corp | 金型鋳造用黒鉛系離型剤及びその製造方法 |
JP2000117935A (ja) * | 1998-10-12 | 2000-04-25 | Ise Electronics Corp | スクリーン印刷方法及びスクリーン製版枠 |
JP2000257518A (ja) * | 1999-03-10 | 2000-09-19 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 内燃機関用エアヒータ |
JP2000335133A (ja) * | 1999-06-01 | 2000-12-05 | Murakami:Kk | スクリーン印刷用版及びその製造方法 |
JP2000343198A (ja) * | 1999-06-08 | 2000-12-12 | Hitachi Metals Ltd | ダイカスト鋳造方法 |
JP2001003807A (ja) * | 2000-01-01 | 2001-01-09 | Honda Motor Co Ltd | シリンダスリーブ構造 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100730039B1 (ko) * | 2006-03-17 | 2007-06-20 | 김학성 | 펠리클 프레임의 제조방법 |
KR20130112737A (ko) | 2012-04-04 | 2013-10-14 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 펠리클 프레임 및 펠리클 |
WO2014020912A1 (ja) * | 2012-08-02 | 2014-02-06 | 三井化学株式会社 | ペリクル |
CN104471479A (zh) * | 2012-08-02 | 2015-03-25 | 三井化学株式会社 | 防护膜组件 |
JPWO2014020912A1 (ja) * | 2012-08-02 | 2016-07-21 | 三井化学株式会社 | ペリクル |
TWI582206B (zh) * | 2012-08-02 | 2017-05-11 | Mitsui Chemicals | 防塵薄膜組件 |
US9658525B2 (en) | 2012-08-02 | 2017-05-23 | Mitsui Chemicals Inc. | Pellicle |
CN104471479B (zh) * | 2012-08-02 | 2019-01-18 | 三井化学株式会社 | 防护膜组件 |
JP2014085435A (ja) * | 2012-10-22 | 2014-05-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクルフレーム及びこのペリクルフレームで構成されたペリクル |
JP2015081968A (ja) * | 2013-10-22 | 2015-04-27 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101303795B1 (ko) | 초극자외선용 펠리클 및 그 제조방법 | |
EP2555052B1 (en) | Photomask unit and method of manufacturing same | |
WO1988004070A1 (en) | Dust cover with excellent light transmittance for photomask reticle | |
JP5279862B2 (ja) | ペリクル膜、その製造方法及び該膜を張ったペリクル | |
KR20170045659A (ko) | 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된 블랙뱅크를 포함하는 디스플레이 장치 | |
US9658526B2 (en) | Mask pellicle indicator for haze prevention | |
JP2002318451A (ja) | ペリクル用枠体及びその製造方法 | |
JP2002131892A (ja) | ペリクルの剥離方法及びその装置 | |
JP5441148B2 (ja) | レジストの積層構造体およびレジストパターンの形成方法 | |
US20090042107A1 (en) | Pellicle for high numerical aperture exposure device | |
JP2951337B2 (ja) | ペリクル | |
CN109581807A (zh) | 表膜 | |
JP2000199967A (ja) | 樹脂製ブラックマトリクスの製造方法、該ブラックマトリクスを用いたカラ―フィルタの製造方法、及び該製造方法で製造されたカラ―フィルタを用いた液晶素子 | |
EP1850177B1 (en) | Litographic pellicle | |
KR20120081667A (ko) | 펠리클 막 및 그 제조방법 | |
TWI443383B (zh) | 微透鏡及微透鏡陣列 | |
KR101970059B1 (ko) | 펠리클 | |
JP2004240010A (ja) | ペリクルの収納方法 | |
JP2001343738A (ja) | ペリクル | |
JP4345882B2 (ja) | 大型ペリクル | |
JPH06230560A (ja) | ペリクル | |
TWI387522B (zh) | 一種光學元件及光學元件之製造方法 | |
JP2001350252A (ja) | ペリクル | |
JP3027470B2 (ja) | ペリクルの製造方法 | |
JP2002040229A (ja) | カラーフィルターの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20050617 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20080130 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080418 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20090401 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100706 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100902 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101005 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110215 |