JP2002131892A - ペリクルの剥離方法及びその装置 - Google Patents
ペリクルの剥離方法及びその装置Info
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- JP2002131892A JP2002131892A JP2000328310A JP2000328310A JP2002131892A JP 2002131892 A JP2002131892 A JP 2002131892A JP 2000328310 A JP2000328310 A JP 2000328310A JP 2000328310 A JP2000328310 A JP 2000328310A JP 2002131892 A JP2002131892 A JP 2002131892A
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明はマスク上に粘着固定されているペリ
クルを簡単かつ確実に剥離することが出来るペリクルの
剥離方法と、その方法を実施する装置を目的とする。 【解決手段】 マスク５上に粘着材４を介して固定され
たペリクル１を該マスク５より剥離する装置Ａであっ
て、マスク５を押えることが出来る固定治具７が設けら
れ、かつペリクルフレーム２の治具穴６内に挿入し得る
ピン状の治具８が設けられ、更に該治具８を前進或は後
進させる治具穴挿入用レバー９と、治具８を引き上げる
ことが出来る引上げレバー１０とが夫々設けられて構成
された構造である。
クルを簡単かつ確実に剥離することが出来るペリクルの
剥離方法と、その方法を実施する装置を目的とする。 【解決手段】 マスク５上に粘着材４を介して固定され
たペリクル１を該マスク５より剥離する装置Ａであっ
て、マスク５を押えることが出来る固定治具７が設けら
れ、かつペリクルフレーム２の治具穴６内に挿入し得る
ピン状の治具８が設けられ、更に該治具８を前進或は後
進させる治具穴挿入用レバー９と、治具８を引き上げる
ことが出来る引上げレバー１０とが夫々設けられて構成
された構造である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ペリクルの一部を
構成するペリクルフレームをレチクルまたはマスク（以
下単にマスクという）より簡単に剥離し得るペリクルフ
レームの剥離方法及びその装置に関するものである。
構成するペリクルフレームをレチクルまたはマスク（以
下単にマスクという）より簡単に剥離し得るペリクルフ
レームの剥離方法及びその装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ペリクルは、一定幅を有するペリクル枠
に透明薄膜からなるペリクル膜を接着剤等を用いて張着
されたものであり、ペリクル膜はマスクとは所定の距離
（ペリクル枠高さ）をおいてマスク上に位置させ、マス
ク上に塵埃等の異物等が付着するのを防止するものであ
る。
に透明薄膜からなるペリクル膜を接着剤等を用いて張着
されたものであり、ペリクル膜はマスクとは所定の距離
（ペリクル枠高さ）をおいてマスク上に位置させ、マス
ク上に塵埃等の異物等が付着するのを防止するものであ
る。
【０００３】フォトリソグラフィ工程において、異物等
がペリクル上に付着したとしても、それ等の像はフォト
レジストが塗布された半導体ウェハ上には結像しない。
従って、マスクをペリクルで保護することにより、異物
等の像による半導体集積回路の短絡や断線等、また液晶
ディスプレイ（以下、「ＬＣＤ」という）の欠陥を防止
することが出来、フォトリソグラフィ工程での製造歩留
りが向上する。
がペリクル上に付着したとしても、それ等の像はフォト
レジストが塗布された半導体ウェハ上には結像しない。
従って、マスクをペリクルで保護することにより、異物
等の像による半導体集積回路の短絡や断線等、また液晶
ディスプレイ（以下、「ＬＣＤ」という）の欠陥を防止
することが出来、フォトリソグラフィ工程での製造歩留
りが向上する。
【０００４】更にマスクのクリーニング回数が減少し
て、その寿命を延ばす等の効果がペリクルにより得られ
る。
て、その寿命を延ばす等の効果がペリクルにより得られ
る。
【０００５】半導体用ペリクル及びＬＣＤ用ペリクルに
おいては、共に露光工程におけるスループット向上のた
めに露光する光の透過率が高いことが要求される。その
ために、透明薄膜の片面或いは両面に反射防止層が設け
られるようになってきている。反射防止層は単層或いは
２層以上の層で構成されることもある。
おいては、共に露光工程におけるスループット向上のた
めに露光する光の透過率が高いことが要求される。その
ために、透明薄膜の片面或いは両面に反射防止層が設け
られるようになってきている。反射防止層は単層或いは
２層以上の層で構成されることもある。
【０００６】最外層に用いる反射防止層の材料として
は、特開昭61-209449号公報に開示されたテトラフルオ
ロエチレン−ビニリデンフルオライド−ヘキサフルオロ
プロピレンポリマー、或いは特開平1-100549号公報に開
示されたポリフルオロアクリレート、或いは特開平3-39
963号公報に開示された主鎖に環状構造を有するフッ素
ポリマーであるデュポン社製のテフロンＡＦ（商品
名）、或いは旭硝子社製のサイトップ（商品名）等が提
案されている。
は、特開昭61-209449号公報に開示されたテトラフルオ
ロエチレン−ビニリデンフルオライド−ヘキサフルオロ
プロピレンポリマー、或いは特開平1-100549号公報に開
示されたポリフルオロアクリレート、或いは特開平3-39
963号公報に開示された主鎖に環状構造を有するフッ素
ポリマーであるデュポン社製のテフロンＡＦ（商品
名）、或いは旭硝子社製のサイトップ（商品名）等が提
案されている。
【０００７】最外層の反射防止層の材料の多くは、フッ
素含有ポリマーや、フッ化カルシウムやフッ化マグネシ
ウム等の無機フッ素系材料が用いられている。透明薄膜
層（中心層）材料の多くはニトロセルロースやセルロー
スアセテートプロピオネート、カーボネート化アセチル
セルロース等のセルロース誘導体及びこれらの混合物が
用いられている。
素含有ポリマーや、フッ化カルシウムやフッ化マグネシ
ウム等の無機フッ素系材料が用いられている。透明薄膜
層（中心層）材料の多くはニトロセルロースやセルロー
スアセテートプロピオネート、カーボネート化アセチル
セルロース等のセルロース誘導体及びこれらの混合物が
用いられている。
【０００８】ＬＣＤではＴＦＴ（薄膜トランジスタ）の
実用化により大画面化、高精細化、大容量化等が達成さ
れつつあるが、ＴＦＴ−ＬＣＤ製造で使用されるペリク
ルもこれに対応して大型化及び面内の光透過性の均一性
が求められ、また半導体製造用のペリクルにおいても均
一な高光線透過率を持つペリクル膜が求められている
が、更にペリクル自身及びその周辺からミクロンオーダ
ーの塵埃等の異物の発生も許されないペリクルが求めら
れている。
実用化により大画面化、高精細化、大容量化等が達成さ
れつつあるが、ＴＦＴ−ＬＣＤ製造で使用されるペリク
ルもこれに対応して大型化及び面内の光透過性の均一性
が求められ、また半導体製造用のペリクルにおいても均
一な高光線透過率を持つペリクル膜が求められている
が、更にペリクル自身及びその周辺からミクロンオーダ
ーの塵埃等の異物の発生も許されないペリクルが求めら
れている。
【０００９】前述のフォトリソグラフィ工程の作業が完
了した後で、マスクからペリクルを剥離するに当って
は、例えば図３に示すような手段が用いられていた。
了した後で、マスクからペリクルを剥離するに当って
は、例えば図３に示すような手段が用いられていた。
【００１０】即ち、図３に於て、５１はペリクルであっ
て、ペリクルフレーム５２にペリクル膜５３が貼着され
て形成されており、かつ該ペリクルフレーム５２は粘着
材５４を介してマスク５５に粘着固定されている。図中
５２ａはペリクルフレーム５２の外周面に設けられたフ
レーム溝であり、５６は作業台、５７はマスク５５を固
定する固定治具である。
て、ペリクルフレーム５２にペリクル膜５３が貼着され
て形成されており、かつ該ペリクルフレーム５２は粘着
材５４を介してマスク５５に粘着固定されている。図中
５２ａはペリクルフレーム５２の外周面に設けられたフ
レーム溝であり、５６は作業台、５７はマスク５５を固
定する固定治具である。
【００１１】前述のペリクル５１をマスク５５より剥離
するに当っては、先端に折曲先端部５８ａを有する剥離
治具５８を使用し、その剥離治具５８の折曲先端部５８
ａをペリクルフレーム５２とマスク５５との間に介在さ
れる粘着材５４内に喰い込ませて押入するか、或は剥離
治具５８の折曲先端部５８ａを前記フレーム溝５２ａ内
に挿入し、剥離治具５８を折曲先端部５８ａの折曲外周
面を支点として揺動することによって、テコの原理でペ
リクル５１をマスク５５より剥離していた。
するに当っては、先端に折曲先端部５８ａを有する剥離
治具５８を使用し、その剥離治具５８の折曲先端部５８
ａをペリクルフレーム５２とマスク５５との間に介在さ
れる粘着材５４内に喰い込ませて押入するか、或は剥離
治具５８の折曲先端部５８ａを前記フレーム溝５２ａ内
に挿入し、剥離治具５８を折曲先端部５８ａの折曲外周
面を支点として揺動することによって、テコの原理でペ
リクル５１をマスク５５より剥離していた。
【００１２】また、前述のような剥離治具５８を使用し
ても、ペリクル５１がマスク５５より容易に剥離しない
ような場合には、ペリクルフレーム５２の剥離を容易に
するために、ペリクルフレーム５２とマスク５５との間
に介在される粘着材５４に所定の剥離液を塗着し、この
剥離液を用いてペリクルフレーム５２の剥離を容易にし
ていた。
ても、ペリクル５１がマスク５５より容易に剥離しない
ような場合には、ペリクルフレーム５２の剥離を容易に
するために、ペリクルフレーム５２とマスク５５との間
に介在される粘着材５４に所定の剥離液を塗着し、この
剥離液を用いてペリクルフレーム５２の剥離を容易にし
ていた。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】然るに、前述の図３に
示す従来技術に於ては、剥離治具５８を使用し、その先
端部をテコのように揺動しながらペリクルフレーム５２
を強制的にマスク５５より剥離させるので、折曲先端部
５８ａが当接されるマスク５５の表面に傷を付け、マス
ク５５が再使用出来なくなる問題があった。
示す従来技術に於ては、剥離治具５８を使用し、その先
端部をテコのように揺動しながらペリクルフレーム５２
を強制的にマスク５５より剥離させるので、折曲先端部
５８ａが当接されるマスク５５の表面に傷を付け、マス
ク５５が再使用出来なくなる問題があった。
【００１４】また、ペリクルフレーム５２の周りの粘着
材５４に剥離液を塗着する場合には、この剥離液によっ
てマスク５５の表面を汚染することがあった。また、こ
のような汚染を防止するためには、マスク５５の再洗浄
が必要となり、余分な工程が増えるので作業性が悪くコ
スト高になる問題もあった。
材５４に剥離液を塗着する場合には、この剥離液によっ
てマスク５５の表面を汚染することがあった。また、こ
のような汚染を防止するためには、マスク５５の再洗浄
が必要となり、余分な工程が増えるので作業性が悪くコ
スト高になる問題もあった。
【００１５】本発明は、前述の従来の多くの問題点に鑑
み開発された全く新しい技術であって、特にペリクルの
ペリクルフレームに治具穴を設け、この治具穴に治具を
挿入すると共に該治具を移動させることによって、ペリ
クルをマスクから剥離する方法及びその装置に関する全
く新しい技術を提供するものである。
み開発された全く新しい技術であって、特にペリクルの
ペリクルフレームに治具穴を設け、この治具穴に治具を
挿入すると共に該治具を移動させることによって、ペリ
クルをマスクから剥離する方法及びその装置に関する全
く新しい技術を提供するものである。
【００１６】
【課題を解決するための手段】本発明に係るペリクルの
剥離方法は、前述の従来の多くの剥離技術の問題点を根
本的に改善した技術であって、その発明の要旨は、レチ
クルまたはマスク上に粘着材を介して貼り付けられたペ
リクルを該レチクルまたはマスクから剥離する方法に於
て、ペリクルのペリクルフレームの所定位置に治具穴を
設け、かつ治具を該治具穴に挿入すると共に該治具を移
動させることによって、ペリクルをレチクルまたはマス
クから剥離することを特徴としたペリクルの剥離方法で
ある。
剥離方法は、前述の従来の多くの剥離技術の問題点を根
本的に改善した技術であって、その発明の要旨は、レチ
クルまたはマスク上に粘着材を介して貼り付けられたペ
リクルを該レチクルまたはマスクから剥離する方法に於
て、ペリクルのペリクルフレームの所定位置に治具穴を
設け、かつ治具を該治具穴に挿入すると共に該治具を移
動させることによって、ペリクルをレチクルまたはマス
クから剥離することを特徴としたペリクルの剥離方法で
ある。
【００１７】前述の本発明に係るペリクルの剥離方法
は、ペリクルのペリクルフレームの所定位置に治具穴を
設け、この治具穴に治具を挿入した後で、治具を移動さ
せるようにしたので、治具の移動と共にペリクルフレー
ムを移動させて、前述の従来のようにマスクの表面を損
傷することなく、ペリクルをマスクから簡単に剥離する
ことが出来る。
は、ペリクルのペリクルフレームの所定位置に治具穴を
設け、この治具穴に治具を挿入した後で、治具を移動さ
せるようにしたので、治具の移動と共にペリクルフレー
ムを移動させて、前述の従来のようにマスクの表面を損
傷することなく、ペリクルをマスクから簡単に剥離する
ことが出来る。
【００１８】また、本発明の方法を実施するに当って
は、ペリクルフレームに多数の治具穴を穿設し、これ等
の多数の治具穴に夫々治具を挿入して治具を移動するこ
とによって、ペリクルフレームを変形させることがなく
スムーズに剥離することが出来る。
は、ペリクルフレームに多数の治具穴を穿設し、これ等
の多数の治具穴に夫々治具を挿入して治具を移動するこ
とによって、ペリクルフレームを変形させることがなく
スムーズに剥離することが出来る。
【００１９】本発明に係るペリクルの剥離装置の第１発
明の要旨は、レチクルまたはマスク上に粘着材を介して
貼り付けられたペリクルを該レチクルまたはマスクから
剥離する装置に於て、前記ペリクルのペリクルフレーム
に設けられた治具穴に挿入し得る治具を自在に移動させ
て該ペリクルをレチクルまたはマスクから剥離する剥離
手段を具備させて構成したことを特徴としたペリクルの
剥離装置である。
明の要旨は、レチクルまたはマスク上に粘着材を介して
貼り付けられたペリクルを該レチクルまたはマスクから
剥離する装置に於て、前記ペリクルのペリクルフレーム
に設けられた治具穴に挿入し得る治具を自在に移動させ
て該ペリクルをレチクルまたはマスクから剥離する剥離
手段を具備させて構成したことを特徴としたペリクルの
剥離装置である。
【００２０】前述の第１発明の剥離装置に於ては、前記
ペリクルフレームの治具穴に挿入し得る治具を自在に移
動させるような手段を具備して構成したので、該治具を
前記治具穴に挿入しかつ移動させることによって、ペリ
クルをマスクから簡単かつ確実に剥離することが出来
る。
ペリクルフレームの治具穴に挿入し得る治具を自在に移
動させるような手段を具備して構成したので、該治具を
前記治具穴に挿入しかつ移動させることによって、ペリ
クルをマスクから簡単かつ確実に剥離することが出来
る。
【００２１】本発明に係るペリクルの剥離装置の第２発
明の要旨は、前記第１発明のペリクルの剥離装置に於
て、前記ペリクルのペリクルフレームの治具穴に挿入し
得る治具の近傍に、該ペリクルフレームとレチクルまた
はマスクとの間に介在される粘着材内に挿入し得る第２
治具を併設して構成したことを特徴としたペリクルの剥
離装置である。
明の要旨は、前記第１発明のペリクルの剥離装置に於
て、前記ペリクルのペリクルフレームの治具穴に挿入し
得る治具の近傍に、該ペリクルフレームとレチクルまた
はマスクとの間に介在される粘着材内に挿入し得る第２
治具を併設して構成したことを特徴としたペリクルの剥
離装置である。
【００２２】前述のペリクルの剥離装置の第２発明に於
ては、ペリクルフレームの治具穴に挿入し得る治具の近
傍に第２治具を併設して構成したので、前記治具を治具
穴に挿入する際に、第２治具をペリクルフレームとマス
クとの間に介在される粘着材内に喰い込ませて挿入する
ことが出来、これ等の２個の治具を同時に移動すること
によって、マスクからペリクルをより容易に剥離するこ
とが出来る。
ては、ペリクルフレームの治具穴に挿入し得る治具の近
傍に第２治具を併設して構成したので、前記治具を治具
穴に挿入する際に、第２治具をペリクルフレームとマス
クとの間に介在される粘着材内に喰い込ませて挿入する
ことが出来、これ等の２個の治具を同時に移動すること
によって、マスクからペリクルをより容易に剥離するこ
とが出来る。
【００２３】
【発明の実施の形態】図により本発明に係るペリクルの
剥離方法及びその装置の一実施例を具体的に説明する
と、図１は本発明に係るペリクルの剥離装置の斜視説明
図、図２は本発明に係る他例のペリクルの剥離装置の要
部の簡略説明図である。
剥離方法及びその装置の一実施例を具体的に説明する
と、図１は本発明に係るペリクルの剥離装置の斜視説明
図、図２は本発明に係る他例のペリクルの剥離装置の要
部の簡略説明図である。
【００２４】図１に於て、１はペリクルであって、ペリ
クルフレーム２に接着剤（図示せず）を介してペリクル
膜３を張着し、かつこのペリクルフレーム２に粘着材４
を塗着することによって構成されている。前記ペリクル
１は粘着材４を介して透明基板からなるマスク５に粘着
固定されている。また、ペリクルフレーム２には多数の
治具穴６が所定場所に夫々設けられている。前記治具穴
６は図に示す如く、ペリクルフレーム２の外側から内側
に向って途中まで穴があけられている。
クルフレーム２に接着剤（図示せず）を介してペリクル
膜３を張着し、かつこのペリクルフレーム２に粘着材４
を塗着することによって構成されている。前記ペリクル
１は粘着材４を介して透明基板からなるマスク５に粘着
固定されている。また、ペリクルフレーム２には多数の
治具穴６が所定場所に夫々設けられている。前記治具穴
６は図に示す如く、ペリクルフレーム２の外側から内側
に向って途中まで穴があけられている。
【００２５】ペリクルフレーム２としては、ペリクル膜
３を支持し得る枠であればどのような材質であっても良
いが、表面をアルマイト処理したアルミフレームやクロ
ムメッキ等を施した金属枠等の支持枠、更にはエンジニ
アリングプラスチック等で製造した樹脂支持枠等が用い
られ、その形状も方形、円形等、他の種々の形状であっ
ても良い。通常は、製造の容易さ、強度等の点から金属
枠が用いられる。
３を支持し得る枠であればどのような材質であっても良
いが、表面をアルマイト処理したアルミフレームやクロ
ムメッキ等を施した金属枠等の支持枠、更にはエンジニ
アリングプラスチック等で製造した樹脂支持枠等が用い
られ、その形状も方形、円形等、他の種々の形状であっ
ても良い。通常は、製造の容易さ、強度等の点から金属
枠が用いられる。
【００２６】ペリクル膜３の透明薄膜層（中心層）材料
としては、ニトロセルロース、セルロースアセテート、
セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテー
トプロピオネート、エチルセルロース、カーボネート化
アセチルセルロース等のセルロース誘導体が使用出来
る。
としては、ニトロセルロース、セルロースアセテート、
セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテー
トプロピオネート、エチルセルロース、カーボネート化
アセチルセルロース等のセルロース誘導体が使用出来
る。
【００２７】これらのセルロース誘導体は、夫々単独で
用いても良いが、２種以上のセルロース誘導体との混合
物を用いても良い。使用するセルロース誘導体は、高分
子量のもの程、薄膜の形状保持性が良いため好ましい。
用いても良いが、２種以上のセルロース誘導体との混合
物を用いても良い。使用するセルロース誘導体は、高分
子量のもの程、薄膜の形状保持性が良いため好ましい。
【００２８】即ち、数平均分子量が３万以上、好ましく
は５万以上である。このような材料のうち、ニトロセル
ロースは旭化成工業株式会社製、セルロースアセテー
ト、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセ
テートプロピオネートはイーストマン・コダック社製の
ものが夫々市販されており、容易に入手することが出来
る。
は５万以上である。このような材料のうち、ニトロセル
ロースは旭化成工業株式会社製、セルロースアセテー
ト、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセ
テートプロピオネートはイーストマン・コダック社製の
ものが夫々市販されており、容易に入手することが出来
る。
【００２９】セルロース誘導体の溶媒としては、２−ブ
タノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、
酢酸ブチル、酢酸イソブチル、乳酸エチル、酢酸セロソ
ルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート等、及びこれ等の溶媒の混合系が使用される。
タノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、
酢酸ブチル、酢酸イソブチル、乳酸エチル、酢酸セロソ
ルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート等、及びこれ等の溶媒の混合系が使用される。
【００３０】セルロース誘導体等の溶液は、予め異物除
去のための濾過をしてから、スピンコートする。透明薄
膜（中心層）の膜厚は、溶液粘度や基板の回転速度を変
化させることにより適宜変化させることが出来る。基板
上に形成された薄膜に含まれている溶媒はホットプレー
ト、オーブン等で揮発させる。
去のための濾過をしてから、スピンコートする。透明薄
膜（中心層）の膜厚は、溶液粘度や基板の回転速度を変
化させることにより適宜変化させることが出来る。基板
上に形成された薄膜に含まれている溶媒はホットプレー
ト、オーブン等で揮発させる。
【００３１】ペリクル膜３の反射防止層は単層或いは２
層以上の層で構成されるが、単層の場合（表裏に反射防
止層を形成すると、ペリクル膜３の層数は３層）は、反
射防止層の屈折率ｎ１が透明薄膜（中心層）の屈折率ｎ
Ｃに対してｎ１＝（ｎＣ）1/ 2の時に反射防止効果は最
大となり、この値に近い反射防止層材料を選択する程、
反射防止効果は大きくなる。反射防止層の厚みｄは、反
射防止すべき波長をλとするとｎ１×ｄ＝λ／４とすれ
ば良い。
層以上の層で構成されるが、単層の場合（表裏に反射防
止層を形成すると、ペリクル膜３の層数は３層）は、反
射防止層の屈折率ｎ１が透明薄膜（中心層）の屈折率ｎ
Ｃに対してｎ１＝（ｎＣ）1/ 2の時に反射防止効果は最
大となり、この値に近い反射防止層材料を選択する程、
反射防止効果は大きくなる。反射防止層の厚みｄは、反
射防止すべき波長をλとするとｎ１×ｄ＝λ／４とすれ
ば良い。
【００３２】また、反射防止層が２層の場合（前述と同
様に表裏に反射防止層を形成するとペリクル膜３の層数
は５層）は、透明薄膜層に接する層を高屈折率反射防止
層にし、最外層を低屈折率反射防止層とするが、最外層
の反射防止層から順に屈折率と厚みをｎ１、ｄ１及びｎ
２、ｄ２とすると、ｎ２／ｎ１＝（ｎＣ）1/2の時に反
射防止効果は最大となり、この値に近いｎ２／ｎ１の反
射防止層材料を選択する程、反射防止効果は大きくな
る。
様に表裏に反射防止層を形成するとペリクル膜３の層数
は５層）は、透明薄膜層に接する層を高屈折率反射防止
層にし、最外層を低屈折率反射防止層とするが、最外層
の反射防止層から順に屈折率と厚みをｎ１、ｄ１及びｎ
２、ｄ２とすると、ｎ２／ｎ１＝（ｎＣ）1/2の時に反
射防止効果は最大となり、この値に近いｎ２／ｎ１の反
射防止層材料を選択する程、反射防止効果は大きくな
る。
【００３３】反射防止層の厚みｄ１、ｄ２は、反射防止
すべき波長をλとすると、ｎ１×ｄ１＝ｎ２×ｄ２＝λ
／４とすれば良い。中心層にはセルロース誘導体、ポリ
ビニルブチラール、ポリビニルプロピオナール等を使用
することが出来、その場合にはこれらの屈折率は１．５
前後であるから、（ｎＣ）1/2が約１．２２となる。従
って、反射防止層材料の屈折率としては、反射防止層が
単層の場合、ｎ２／ｎ１が１．２２に近い程、反射防止
効果が大きくなり、好ましい。
すべき波長をλとすると、ｎ１×ｄ１＝ｎ２×ｄ２＝λ
／４とすれば良い。中心層にはセルロース誘導体、ポリ
ビニルブチラール、ポリビニルプロピオナール等を使用
することが出来、その場合にはこれらの屈折率は１．５
前後であるから、（ｎＣ）1/2が約１．２２となる。従
って、反射防止層材料の屈折率としては、反射防止層が
単層の場合、ｎ２／ｎ１が１．２２に近い程、反射防止
効果が大きくなり、好ましい。
【００３４】最外層として用いる低屈折率反射防止層の
材料としては、テトラフルオロエチレン−ビニリデンフ
ルオライド−ヘキサフルオロプロピレンポリマー、ポリ
フルオロアクリレート、主鎖に環状構造を有するフッ素
ポリマーであるデュポン社製のテフロンＡＦ（商品
名）、旭硝子社製のサイトップ（商品名）等のフッ素系
材料が使用出来る。
材料としては、テトラフルオロエチレン−ビニリデンフ
ルオライド−ヘキサフルオロプロピレンポリマー、ポリ
フルオロアクリレート、主鎖に環状構造を有するフッ素
ポリマーであるデュポン社製のテフロンＡＦ（商品
名）、旭硝子社製のサイトップ（商品名）等のフッ素系
材料が使用出来る。
【００３５】テフロンＡＦは、γ線、電子線、α線等の
放射線や遠紫外線等の光を照射することにより、濾過
性、制電性、ペリクル膜３とペリクルフレーム２との接
着性が向上する。
放射線や遠紫外線等の光を照射することにより、濾過
性、制電性、ペリクル膜３とペリクルフレーム２との接
着性が向上する。
【００３６】図１により本発明に係るペリクルの剥離装
置Ａについて説明すると、７はマスク５を押えることが
出来る一対の固定治具、８は該固定治具７の一部より突
出し得るピン状の治具であって、この治具８は前記ペリ
クルフレーム２の治具穴６に挿入し得るように構成され
ている。
置Ａについて説明すると、７はマスク５を押えることが
出来る一対の固定治具、８は該固定治具７の一部より突
出し得るピン状の治具であって、この治具８は前記ペリ
クルフレーム２の治具穴６に挿入し得るように構成され
ている。
【００３７】前述のように固定治具７の一部より突出し
得るピン状の治具８は、剥離装置Ａの両端側に設けられ
た治具穴挿入用レバー９の操作によって、ペリクル１に
向って前進或は後進し得るように構成されている。
得るピン状の治具８は、剥離装置Ａの両端側に設けられ
た治具穴挿入用レバー９の操作によって、ペリクル１に
向って前進或は後進し得るように構成されている。
【００３８】１０は固定治具７の上部に取付けられた引
上げレバーであって、この引上げレバー１０を操作する
ことによって、治具８を引上げると共に、治具穴６に挿
通された治具８を介してペリクルフレーム２をマスク５
より剥離し得るように構成されている。
上げレバーであって、この引上げレバー１０を操作する
ことによって、治具８を引上げると共に、治具穴６に挿
通された治具８を介してペリクルフレーム２をマスク５
より剥離し得るように構成されている。
【００３９】前述のような構成を有する剥離装置Ａを稼
働してペリクル１をマスク５より剥離する場合は、図１
に示す如く、先ず一対の固定治具７でマスク５の両側部
を夫々固定する。
働してペリクル１をマスク５より剥離する場合は、図１
に示す如く、先ず一対の固定治具７でマスク５の両側部
を夫々固定する。
【００４０】次に、治具穴挿入用レバー９を操作してピ
ン状の治具８をペリクルフレーム２の治具穴６に挿入
し、その後で引上げレバー１０を操作することによって
治具８と共にペリクルフレーム２を上昇せしめ、これに
よってペリクルフレーム２をマスク５より強制的に剥離
することが出来る。
ン状の治具８をペリクルフレーム２の治具穴６に挿入
し、その後で引上げレバー１０を操作することによって
治具８と共にペリクルフレーム２を上昇せしめ、これに
よってペリクルフレーム２をマスク５より強制的に剥離
することが出来る。
【００４１】ペリクルフレーム２には、例えば図１に示
す如く、その両側に夫々複数の治具穴６を設けることが
出来るので、その場合には本発明に係る前述の剥離装置
Ａを複数個並列した状態で使用することが出来る。ま
た、１個の剥離装置Ａに、所定の間隔を保って複数の治
具８を並列した状態で取付けて構成することが出来る。
す如く、その両側に夫々複数の治具穴６を設けることが
出来るので、その場合には本発明に係る前述の剥離装置
Ａを複数個並列した状態で使用することが出来る。ま
た、１個の剥離装置Ａに、所定の間隔を保って複数の治
具８を並列した状態で取付けて構成することが出来る。
【００４２】前記実施例に於ては、治具穴挿入用レバー
９と引上げレバー１０とを夫々手動で操作するように構
成したが、モーターを付けることによって、自動的に操
作することも可能である。また、治具穴挿入用レバー９
と引上げレバー１０とを夫々相互に連動するように構成
すれば、始動スイッチ（図示せず）を押すことによっ
て、ペリクル１の剥離を全て自動的に実施することも可
能である。
９と引上げレバー１０とを夫々手動で操作するように構
成したが、モーターを付けることによって、自動的に操
作することも可能である。また、治具穴挿入用レバー９
と引上げレバー１０とを夫々相互に連動するように構成
すれば、始動スイッチ（図示せず）を押すことによっ
て、ペリクル１の剥離を全て自動的に実施することも可
能である。
【００４３】図２に於て、１１はＵ字形の二股治具であ
って、上方にペリクルフレーム２の治具穴６に挿入し得
る第１治具１１ａを有し、その下方にペリクルフレーム
２とマスク５との間に介在されている粘着材４に喰い込
ませて挿入し得る第２治具１１ｂを有している。
って、上方にペリクルフレーム２の治具穴６に挿入し得
る第１治具１１ａを有し、その下方にペリクルフレーム
２とマスク５との間に介在されている粘着材４に喰い込
ませて挿入し得る第２治具１１ｂを有している。
【００４４】従って、この二股治具１１を使用する場合
には、ペリクルフレーム２の治具穴６内に第１治具１１
ａを挿入する時に、第２治具１１ｂを粘着材４内に同時
に挿入することが出来、これによって二股治具１１を引
上げた際に、ペリクルフレーム２を上下の二段に於て支
持しながら安定した状態でかつ容易に剥離することが出
来る。前記実施例に於ては、二股治具１１を使用した
が、必要に応じて第１治具１１ａと第２治具１１ｂは個
々に独立させて使用することも可能である。
には、ペリクルフレーム２の治具穴６内に第１治具１１
ａを挿入する時に、第２治具１１ｂを粘着材４内に同時
に挿入することが出来、これによって二股治具１１を引
上げた際に、ペリクルフレーム２を上下の二段に於て支
持しながら安定した状態でかつ容易に剥離することが出
来る。前記実施例に於ては、二股治具１１を使用した
が、必要に応じて第１治具１１ａと第２治具１１ｂは個
々に独立させて使用することも可能である。
【００４５】
【発明の効果】前述の本発明に係るペリクルの剥離方法
は、前述のようにペリクルのペリクルフレームの所定位
置に治具穴を設け、この治具穴に治具を挿入した後で、
治具を移動させるようにしたので、治具の移動と共にペ
リクルフレームを移動させて、前述の従来のようにマス
クの表面を損傷することなく、ペリクルをマスクから簡
単に剥離することが出来る効果を有している。
は、前述のようにペリクルのペリクルフレームの所定位
置に治具穴を設け、この治具穴に治具を挿入した後で、
治具を移動させるようにしたので、治具の移動と共にペ
リクルフレームを移動させて、前述の従来のようにマス
クの表面を損傷することなく、ペリクルをマスクから簡
単に剥離することが出来る効果を有している。
【００４６】また、本発明の方法を実施するに当って
は、ペリクルフレームに多数の治具穴を穿設し、これ等
の多数の治具穴に夫々治具を挿入して治具を移動するこ
とによって、ペリクルフレームを変形させることがなく
スムーズに剥離することが出来る等の効果も有してい
る。
は、ペリクルフレームに多数の治具穴を穿設し、これ等
の多数の治具穴に夫々治具を挿入して治具を移動するこ
とによって、ペリクルフレームを変形させることがなく
スムーズに剥離することが出来る等の効果も有してい
る。
【００４７】本発明の剥離装置に於ては、前述のように
前記ペリクルフレームの治具穴に挿入し得る治具を自在
に移動させるような手段を具備して構成したので、該治
具を前記治具穴に挿入しかつ移動させることによって、
ペリクルをマスクから簡単かつ確実に剥離することが出
来る効果を有している。
前記ペリクルフレームの治具穴に挿入し得る治具を自在
に移動させるような手段を具備して構成したので、該治
具を前記治具穴に挿入しかつ移動させることによって、
ペリクルをマスクから簡単かつ確実に剥離することが出
来る効果を有している。
【００４８】さらに、前述の剥離装置のペリクルフレー
ムの治具穴に挿入し得る治具の近傍に第２治具を併設し
て構成した場合には、前記治具を治具穴に挿入する際
に、第２治具をペリクルフレームとマスクとの間に介在
される粘着材内に喰い込ませて挿入することが出来、こ
れ等の２個の治具を同時に移動することによって、マス
クからペリクルをより容易に剥離することが出来る効果
を有している。
ムの治具穴に挿入し得る治具の近傍に第２治具を併設し
て構成した場合には、前記治具を治具穴に挿入する際
に、第２治具をペリクルフレームとマスクとの間に介在
される粘着材内に喰い込ませて挿入することが出来、こ
れ等の２個の治具を同時に移動することによって、マス
クからペリクルをより容易に剥離することが出来る効果
を有している。
【図１】本発明に係るペリクルの剥離装置の斜視説明図
ある。
ある。
【図２】本発明に係る他例のペリクルの剥離装置の要部
の簡略説明図である。
の簡略説明図である。
【図３】従来のペリクルの剥離装置を示す説明図であ
る。
る。
Ａ …剥離装置 １ …ペリクル ２ …ペリクルフレーム ３ …ペリクル膜 ４ …粘着材 ５ …マスク ６ …治具穴 ７ …固定治具 ８ …治具 ９ …治具穴挿入用レバー １０ …引上げレバー １１ …二股治具 １１ａ…第１治具 １１ｂ…第２治具 ５１ …ペリクル ５２ …ペリクルフレーム ５２ａ…フレーム溝 ５３ …ペリクル膜 ５４ …粘着材 ５５ …マスク ５６ …作業台 ５７ …固定治具 ５８ …剥離治具 ５８ａ…折曲先端部
Claims (3)
- 【請求項１】 レチクルまたはマスク上に粘着材を介し
て貼り付けられたペリクルを該レチクルまたはマスクか
ら剥離する方法に於て、ペリクルのペリクルフレームの
所定位置に治具穴を設け、かつ治具を該治具穴に挿入す
ると共に該治具を移動させることによって、ペリクルを
レチクルまたはマスクから剥離することを特徴としたペ
リクルの剥離方法。 - 【請求項２】 レチクルまたはマスク上に粘着材を介し
て貼り付けられたペリクルを該レチクルまたはマスクか
ら剥離する装置に於て、前記ペリクルのペリクルフレー
ムに設けられた治具穴に挿入し得る治具を自在に移動さ
せて該ペリクルをレチクルまたはマスクから剥離する剥
離手段を具備させて構成したことを特徴としたペリクル
の剥離装置。 - 【請求項３】 前記請求項２のペリクルの剥離装置に於
て、前記ペリクルのペリクルフレームの治具穴に挿入し
得る治具の近傍に、該ペリクルフレームとレチクルまた
はマスクとの間に介在される粘着材内に挿入し得る第２
治具を併設して構成したことを特徴としたペリクルの剥
離装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000328310A JP2002131892A (ja) | 2000-10-27 | 2000-10-27 | ペリクルの剥離方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000328310A JP2002131892A (ja) | 2000-10-27 | 2000-10-27 | ペリクルの剥離方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002131892A true JP2002131892A (ja) | 2002-05-09 |
Family
ID=18805182
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000328310A Pending JP2002131892A (ja) | 2000-10-27 | 2000-10-27 | ペリクルの剥離方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002131892A (ja) |
Cited By (14)
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2000
- 2000-10-27 JP JP2000328310A patent/JP2002131892A/ja active Pending
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