TWI582206B

TWI582206B - 防塵薄膜組件

Info

Publication number: TWI582206B
Application number: TW102127647A
Authority: TW
Inventors: Masahiro Kondou; Takamasa Tsumoto
Original assignee: Mitsui Chemicals
Priority date: 2012-08-02
Filing date: 2013-08-01
Publication date: 2017-05-11
Also published as: EP2881792A1; JP6030136B2; WO2014020912A1; US20150212404A1; CN104471479A; JPWO2014020912A1; KR20150032879A; US9658525B2; CN104471479B; EP2881792A4; EP2881792B1; KR101699635B1; TW201406919A

Description

防塵薄膜組件

本發明是有關於一種於例如大型積體電路(Large Scale Integration，LSI)、超大型積體電路(Very Large Scale Integration，超LSI)等半導體裝置或液晶顯示器面板等的微影(lithography)步驟中，用作為微影用遮罩遮擋灰塵的防塵薄膜組件。

防塵薄膜組件於LSI、超LSI等半導體裝置或液晶顯示器面板等的微影步驟中，安裝於微影用遮罩上，出於防止異物對遮罩的附著的目的來使用。防塵薄膜組件通常包括：防塵薄膜框、鋪設於其上端面的透明的防塵薄膜、設置於下端面且用於將防塵薄膜組件貼附於遮罩上的遮罩黏著層、以及設置於防塵薄膜框的內側面的黏著層。

設置於防塵薄膜框的內側面的黏著層不僅防止來源於防塵薄膜框的發塵(dust emission)，而且可保持在防塵薄膜框的內側的空間中懸浮的塵埃等異物，因此在防止異物對遮罩的附著方面有效。

近年來，隨著遮罩圖案的微細化，正推進曝光光的短波長化。短波長的光的例子中有KrF準分子雷射、ArF準分子雷射等準分子光等。

圖5是表示安裝於遮罩上的防塵薄膜組件的一例的示意圖。如圖5所示，曝光光通常透過遮罩5的遮光圖案9以外的部分，與防塵薄膜1的法線大致平行地射入(參照粗實線箭頭及虛線箭頭)。因此，曝光光不會對防塵薄膜框3的內側面的黏著層8直接照射。然而，曝光光的一部分在遮罩的遮光圖案9的端部(邊緣部)散射，該散射光有時照射到防塵薄膜框3的內側面的黏著層8(參照細實線箭頭)上。另外，近年來，存在使曝光光相對於防塵薄膜1的法線而傾斜地射入的情況(未圖示)。因此，由所散射的曝光光引起的對黏著層的影響變大。

現有的設置於防塵薄膜框的內側面的黏著層若照射到如上所述的高能量的短波長光，則有產生焦糊、蒸發、固化或者流動化等劣化現象的顧慮。

進而，在使用ArF準分子雷射光的微影法中，若將防塵薄膜組件長時間使用，則有時會於由防塵薄膜框包圍的空間內的遮罩上析出固體異物(產生霧度)。固體異物的析出被認為是以如下方式產生。即，若所散射的曝光光等照射到設置於防塵薄膜框的內側面的黏著層，則黏著層中的物質分解；藉此生成的釋氣(outgas)成分(離子或有機系氣體等分解氣體)釋放至由防塵薄膜框包圍的空間。而且認為，由於釋放出的釋氣成分藉由ArF準分子雷射光而產生化學反應，從而析出固體異物。因此，設置於防塵薄膜框的內側面的黏著層即便照射到ArF準分子雷射光的散射光等，亦不會產生分解氣體；藉此，要求不析出固體異物。

因此要求，設置於防塵薄膜框的內側面的黏著層具有可將懸浮的塵埃等良好地固著的優異保持性能(黏著性)、及對於如準分子光(excimer light)之類的短波長光不會產生如上所述的劣化現象或固體異物析出等的優異耐光性。

對此提出有：於防塵薄膜框的內側面具有例如包含全氟聚醚及黏度調整劑的黏著層的防塵薄膜組件(專利文獻1)；具有含有氟橡膠的黏著層的防塵薄膜組件(專利文獻3)；具有包含滑脂(grease)狀氟樹脂(A)、及高分子量氟樹脂(B)的黏著層的防塵薄膜組件(專利文獻4)等。另外，亦提出有：為了提高對ArF準分子雷射的耐光性而於防塵薄膜框的內側面具有黏著層的防塵薄膜組件等，該黏著層包含含有全氟化合物的組成物的硬化物(專利文獻2)。

[先前技術文獻]

專利文獻

專利文獻1：日本專利特開2001-222100號公報

專利文獻2：日本專利特開2011-118091號公報

專利文獻3：日本專利特開2002-202587號公報

專利文獻4：國際公開第98/22851號

然而，專利文獻1及專利文獻4的設置於防塵薄膜框的內側面的黏著層是將多種黏著材料混合而獲得。因此，會有於多種黏著材料間產生相分離的顧慮；若產生相分離，則存在難以獲得由多種黏著材料的混合帶來的效果的顧慮。

另外，專利文獻2的設置於防塵薄膜框的內側面的黏著層的黏著性不充分。另一方面，專利文獻3的設置於防塵薄膜框的內側面的黏著層雖具有良好的黏著性，但要求更高的耐光性。

本發明是鑒於上述情況而形成，目的在於提供一種於防塵薄膜框的內側面具有黏著層的防塵薄膜組件，該黏著層具有可使懸浮的塵埃等異物良好地固著的優異保持性能、及對短波長光的優異耐光性。

[1]一種防塵薄膜組件，其包括：防塵薄膜框、鋪設於上述防塵薄膜框的其中一個開口部的防塵薄膜、及設置於上述防塵薄膜框的內側面的黏著層，並且相對於上述黏著層的總重量，上述黏著層包含60質量%以上的具有下述式(1)所表示的結構單元、及下述式(2)所表示的結構單元的共聚物：-CH₂CF₂-...(1)

-CF₂CF(CF₃)-...(2)。

[2]如[1]所述的防塵薄膜組件，其中相對於上述共聚物總質量，上述共聚物中的上述式(1)所表示的結構單元的含有比例為50質量%以上、85質量%以下。

[3]如[1]或[2]所述的防塵薄膜組件，其中上述共聚物的重量平均分子量為8萬以上、16萬以下。

[4]如[1]至[3]中任一項所述的防塵薄膜組件，相對於上述共聚物總質量，上述共聚物的氟含量為64質量%以上、71質量%以下。

[5]如[1]至[4]中任一項所述的防塵薄膜組件，其中上述共聚物進而包含下述式(3)所表示的結構單元：-CF₂CF₂-...(3)。

[6]如[1]至[5]中任一項所述的防塵薄膜組件，其中上述黏著層的厚度為3μm~20μm。

依據本發明，可提供一種於防塵薄膜框的內側面具有黏著層的防塵薄膜組件，該黏著層具有可將懸浮的塵埃等異物良好地固著的保持性能、及對於如準分子光之類的短波長光的優異耐光性。因此，可提供分解氣體的產生少、防塵性優異的防塵薄膜組件。

1、14‧‧‧防塵薄膜

3、12‧‧‧防塵薄膜框

5‧‧‧遮罩

8、18、22‧‧‧黏著層

9‧‧‧遮光圖案

10‧‧‧防塵薄膜組件

16‧‧‧黏接劑層

20‧‧‧標準粒子

24‧‧‧氣槍

24A‧‧‧噴嘴

26‧‧‧減壓器

圖1是本發明的一實施方式的防塵薄膜組件的立體圖。

圖2是本發明的一實施方式的防塵薄膜組件的側剖面圖。

圖3是表示本發明的一實施方式的黏著層的保持性能的試驗的示意圖。

圖4是表示實施例1的黏著劑層中的光照射前後的紅外線吸收光譜的圖。

圖5是表示安裝於遮罩上的防塵薄膜組件的一例的示意圖。

1.防塵薄膜組件

本發明的防塵薄膜組件包括：防塵薄膜框、鋪設於該防塵薄膜框的其中一個開口部的防塵薄膜、及設置於防塵薄膜框的內側面的黏著層。

圖1是本發明的一實施方式的防塵薄膜組件的立體圖；圖2是本發明的一實施方式的防塵薄膜組件的側剖面圖。如圖1及圖2所示，本發明的一實施方式的防塵薄膜組件10包括：防塵薄膜框12、鋪設於該防塵薄膜框12的其中一個開口部的防塵薄膜14、用於將防塵薄膜14固定於防塵薄膜框12上的黏接劑層16、及設置於防塵薄膜框12的內側面的黏著層18。

防塵薄膜框12可為通常用作防塵薄膜框者。防塵薄膜框12的材質的例子中包含鋁合金、不鏽鋼、聚乙烯、經黑色耐酸鋁(alumite)處理的鋁等。該些材質中，就輕量等方面而言，較佳為鋁合金或經黑色耐酸鋁處理的鋁等。設置有黏著層18的防塵薄膜框12的表面可經非晶系氟聚合物等進一步塗佈。

防塵薄膜14經由黏接劑層16而固定於防塵薄膜框12的其中一個開口部。防塵薄膜14可為通常用作防塵薄膜者。防塵薄膜14的材質例如可列舉：硝基纖維素、乙基纖維素、乙酸纖維素、丙酸纖維素、聚三葡萄糖(pullulan)化合物、非晶性氟系聚合物、矽酮改質聚乙烯醇等。該些材質中，較佳為對於準分子光具有充分耐性的非晶性氟系聚合物。

黏著層18設置於防塵薄膜框12的內側面。黏著層18為了將在由防塵薄膜框12包圍的空間中懸浮的塵埃等充分地保持，而要求具有良好的黏著性。另一方面認為，於微影步驟中，若於遮罩的圖案的邊緣部散射的光等照射到黏著層18上，則從黏著層18中產生分解氣體；該分解氣體成分存在於由防塵薄膜框12包圍的空間中。認為該存在於由防塵薄膜框12包圍的空間中的分解氣體成分藉由曝光光而進行化學反應，使固體異物析出於遮罩上等。為了抑制此種固體異物的析出，而要求即便對黏著層18照射光，亦難以產生分解氣體；即具有高耐光性。

因此，本發明中，黏著層18包含具有下述式(1)所表示的結構單元及式(2)所表示的結構單元的共聚物作為黏著材料。

-CH₂CF₂-...(1)

-CF₂CF(CF₃)-...(2)

式(1)所表示的結構單元可對共聚物賦予橡膠彈性而使其表現出充分的黏著力。另外，式(2)所表示的結構單元可使共聚物的分子結構穩定化，因此可提高共聚物的耐光性。

例如，於將具有式(1)所表示的結構單元的聚合物、與具有式(2)所表示的結構單元的聚合物僅僅混合的情況下，會有在聚合物間產生相分離的顧慮。因此，所得的黏著層存在不顯示出充分的黏著性或耐光性的情況。與此相對，本發明中，由於使用具有式(1)所表示的結構單元及式(2)所表示的結構單元的共聚物，故而被認為難以產生如上所述的相分離。因此認為，包含上述共聚物的黏著層18具有充分的黏著性及耐光性。

相對於上述共聚物總質量，上述共聚物中的式(1)所表示的結構單元的含有比例較佳為50質量%以上、85質量%以下，更佳為55質量%以上、80質量%以下。若式(1)所表示的結構單元的含有比例為一定量以上，則容易獲得充分的黏著性。另一方面，若式(1)所表示的結構單元的含有比例為一定量以下，則不存在會顯著損及耐光性的顧慮。

相對於上述共聚物總質量，上述共聚物中的式(2)所表示的結構單元的含有比例較佳為15質量%以上、50質量%以下，更佳為20質量%以上、45質量%以下。若式(2)所表示的結構單元的含有比例為一定量以上，則容易獲得充分的耐光性。另一方面，若式(2)所表示的結構單元的含有比例為一定量以下，則不存在會顯著損及黏著性的顧慮。

上述共聚物可進而包含上述式(1)或式(2)所表示的結構單元以外的其他結構單元。其他結構單元的較佳例中包含下述式(3)所表示的結構單元。認為式(3)所表示的結構單元可對共聚物賦予耐光性。

-CF₂CF₂-...(3)

相對於上述共聚物總質量，上述共聚物中的式(3)所表示的結構單元的含有比例可設為25質量%以下。

上述共聚物較佳為：包含式(1)所表示的結構單元及式(2)所表示的結構單元的共聚物(1,1-二氟乙烯．六氟丙烯共聚物)，或者包含式(1)所表示的結構單元、式(2)所表示的結構單元及式(3)所表示的結構單元的共聚物；更佳為包含式(1)所表示的結構單元及式(2)所表示的結構單元的共聚物。市售品的例子中包含Viton(杜邦彈性體(DuPont Elastomer)(股)商品名)等。

相對於上述共聚物總質量，上述共聚物的氟含量較佳為64質量%以上、71質量%以下。若共聚物中的氟含量為一定量以上，則可進一步提高黏著層18的耐光性。若共聚物中的氟含量為一定量以下，則不存在會顯著損及黏著層18的黏著性的顧慮。可收集使共聚物燃燒分解時產生的氣體、利用離子層析法測定所收集的氣體中的氟含量，從而確認共聚物中的氟含量。氟含量的測定裝置可使用戴安(Dionex)公司製造的ICS-1500型。

上述共聚物的重量平均分子量較佳為8萬以上、16萬以下，更佳為10萬以上、16萬以下，尤佳為14萬以上、15.5萬以下。黏著層18可以後述方式，將黏著層用塗佈液塗佈於防塵薄膜框12的內側面來形成。黏著層用塗佈液可為使上述共聚物溶解於溶劑中而得者。若上述共聚物的重量平均分子量為上述範圍內，則容易使上述共聚物溶解於溶劑中，因此容易將所得塗佈液的黏度調整為適合於塗佈的範圍。另外，包含上述共聚物的黏著層用塗佈液由於具有良好的濡濕性，故而被認為容易以均勻的厚度塗佈形成。進而，若上述共聚物的重量平均分子量為一定量以上，則容易獲得良好的耐光性；若上述共聚物的重量平均分子量為一定量以下，則不存在會顯著損及黏著性的顧慮。

上述共聚物的重量平均分子量可利用凝膠滲透層析法(Gel Permeation Chromatography，GPC)，將標準物質設為聚苯乙烯來測定。

黏著層18中的上述共聚物的含量並無特別限制，為了獲得充分的黏著性及耐光性，較佳為60質量%以上，更佳為80質量%以上。

黏著層18可視需要而進而包含上述共聚物以外的其他成分。上述共聚物以外的其他成分的例子中，可為釋氣少且耐光性良好的化合物等，例如可為全氟聚醚等。

黏著層18的厚度只要是可利用黏著性而充分保持懸浮異物的程度的厚度即可，並無特別限制，通常較佳為1μm~1mm，更佳為3μm~100μm，尤佳為3μm~20μm。

黏著層18的異物的保持性能(黏著性)例如可利用以下方法來評價。圖3是表示黏著層的保持性能的試驗方法的一例的示意圖。即，

1)於基板上塗佈黏著層用塗佈液後，使其乾燥而形成厚度為10μm的黏著層。基板並無特別限定，可為玻璃基板或防塵薄膜框等。

2)繼而，於所得的黏著層表面載置標準粒子。標準粒子為模仿塵埃等異物的粒子，例如可設為粒徑為66μm~125μm的玻璃製珠粒或聚苯乙烯製珠粒等。

3)然後，如圖3所示，於保持有標準粒子20的黏著層22上，自相對於其表面而傾斜45°的方向，利用氣槍24來噴射空氣。接著，測定噴射到空氣時的標準粒子20的移動量。

4)一邊使空氣的原壓力在0.1kg/cm²G~3.0kg/cm²G的範圍內增大，一邊進行上述3)的操作。接著，將標準粒子20的移動量小於1mm時的空氣的原壓力的最大值作為「異物保持力」。

如圖3所示，氣槍24的噴嘴24A的前端較佳為設定於以直線距離計而與標準粒子20相距1cm的位置。例如，所謂空氣的原壓力為0.6kg/cm²G，是指自噴嘴24A發出的空氣的壓力為0.6kg/cm²G，實際上是將減壓器26的壓力設定設為0.6kg/cm²G時的空氣的壓力。

對於黏著層18而言，使用粒徑為66μm的聚苯乙烯製珠粒作為標準粒子20時的標準粒子20的移動量小於1mm時的空氣原壓力的最大值較佳為2.0×10^-1MPa以上，更佳為2.5×10^-1MPa 以上。

2.防塵薄膜組件的製造方法

本發明的一實施方式的防塵薄膜組件10可經過以下步驟來獲得：1)於防塵薄膜框12的內側面形成黏著層18的步驟、及2)於防塵薄膜框12的其中一個開口部鋪設防塵薄膜14的步驟。

關於1)的步驟

首先，使作為黏著材料的上述共聚物溶解於溶劑中而獲得黏著層用塗佈液。所使用的溶劑並無特別限定，只要是可將上述共聚物溶解而良好地塗佈於防塵薄膜框12的內面的溶劑即可。此種溶劑的例子中包含甲基乙基酮等酮類、酯類等。作為黏著材料的上述共聚物與溶劑的混合比率較佳為設定為滿足後述黏度的範圍。

黏著層用塗佈液的黏度若過高，則難以均勻塗佈。因此，作為黏著材料的上述共聚物於溶液中包含約5質量%~40質量%左右時23℃下的黏著層用塗佈液的黏度較佳為約10cP~820cP(約1×10^-2Pa．s~82×10^-2Pa．s)。塗佈液的黏度可利用E型黏度計來測定。

將所得的黏著層用塗佈液塗佈於防塵薄膜框12的內側面後，使其乾燥而形成黏著層18。

黏著層用塗佈液的塗佈可使用任意的塗佈手段來進行，例如可利用噴射塗佈法、浸漬塗佈法、刷塗法、刮塗法、輥塗法、流延塗佈法等來進行。流延塗佈法中，例如可於防塵薄膜框12的表面上滴加液滴後，利用夾具將該液滴延伸而塗佈為均勻的厚度。

關於2)的步驟

形成黏著層18後，可於防塵薄膜框12的其中一個開口部鋪設防塵薄膜14來獲得防塵薄膜組件10。防塵薄膜14的鋪設可利用通常的方法來進行。例如，只要將通常使用的黏接劑塗佈於防塵薄膜框12的其中一個端面而形成黏接劑層16，於該黏接劑層16上固定防塵薄膜14即可。

黏接劑可為公知者，例如可為纖維素衍生物、氯化聚丙烯、聚醯胺系黏接劑、氟樹脂系黏接劑、丙烯酸系黏接劑、環氧樹脂、聚醯亞胺系黏接劑等。

3.防塵薄膜組件的用途

以上述方式獲得的防塵薄膜組件經由設置於防塵薄膜框12的下端部的遮罩黏接劑層(未圖示)而安裝於遮罩(未圖示)上。藉此，可防止於遮罩(未圖示)上附著異物。若對附著於遮罩上的異物對準曝光光的焦點，則引起對晶圓的解析不良。因此，防塵薄膜組件10是以覆蓋遮罩(未圖示)的曝光區域的方式安裝。

所謂遮罩(未圖示)，是指配置有經圖案化的遮光膜的玻璃基板等。所謂遮光膜，可為Cr或MoSi等的金屬膜。

而且，曝光光自遮罩的遮光膜以外的部分射入，透過防塵薄膜14。曝光光通常是與防塵薄膜14的法線大致平行地射入，亦有相對於防塵薄膜14的法線而向傾斜方向射入的情況。

描畫於半導體元件上的電路圖案的形成步驟等的微影中使用的曝光光可為水銀燈的i射線(波長為365nm)、KrF準分子雷射(波長為248nm)、ArF準分子雷射(波長為193nm)等短波長的準分子光等。

如上所述，黏著層18包含上述共聚物作為黏著材料。因此，本發明中獲得的黏著層18可具有良好的黏著性、及對於如準分子光之類的短波長光的良好耐光性。

因此，藉由將防塵薄膜組件10安裝於設置有圖案的遮罩(未圖示)上，可利用黏著層18將在由防塵薄膜組件10與遮罩(未圖示)包圍的空間中懸浮的塵埃等異物良好地保持。另外，準分子光等短波長的光於遮罩的遮光圖案的端部(邊緣部)散射，或者傾斜地射入，容易照射到黏著層18上。此種情況下，黏著層18亦難以產生分解氣體，可抑制固體異物於遮罩上析出等。

實施例

以下，參照實施例來對本發明進行更詳細的說明。本發明的範圍並不受該些實施例限定來解釋。

(實施例1)

準備商品名：Viton-A100(杜邦彈性體(股)製造，1,1-二氟乙烯．六氟丙烯共聚物，-(CH₂CF₂)-的構成單元的含有比例：78質量%，-[CF₂CF(CF₃)]-的構成單元的含有比例：22質量%，重量平均分子量：14.5萬，氟含量為166質量%)。接著，於作為溶劑的甲基乙基酮(和光純藥工業(股)，特級試劑)中，以相對於溶液整體而成為30重量%的方式添加Viton-A100，攪拌而使其溶解。將所得的溶液以聚四氟乙烯(polytetrafluoroethylene，PTFE)製的過濾器(孔徑：3微米)進行過濾，去除不溶解物以及異物，獲得黏著層用塗佈液。黏著層用塗佈液的23℃下的黏度為170cP。

1)異物保持力的評價

一邊由具有內徑為0.5mm的噴出口(橫孔)且外徑為1.5mm的針自該噴出口將所得的黏著層用塗佈液滴加於鋁合金製防塵薄膜框的內側面，一邊均勻地延伸而塗佈。然後，使所得的塗膜乾燥，形成厚度為10μm的黏著層。黏著層中的上述共聚物的含量為100質量%。

進行所得黏著層的異物保持力的評價A~評價C。

(1-1)異物保持力的評價A

使粒徑為105μm~125μm的玻璃製標準粒子附著於設置在防塵薄膜框的內側面的黏著層上，獲得樣品。繼而，使所得的樣品自1m的高度落下，觀察所附著的標準粒子的脫落的有無，評價黏著層的異物保持力。

實施例1中獲得的樣品中，未確認到標準粒子的脫落。

(1-2)異物保持力的評價B

使用馬毛，使粒徑為66μm的聚苯乙烯製標準粒子附著於設置在防塵薄膜框的內側面的黏著層上，獲得樣品。繼而，從以直線距離計而與樣品的黏著層上的標準粒子相距1cm的位置，自相對於黏著層表面而傾斜45度的角度，利用氣槍鼓風10秒鐘，測定此時的標準粒子的移動量(參照圖3)。一邊在0.1kg/cm²G~3.0kg/cm²G(0.981×10^-2MPa~2.94×10^-1MPa)的範圍內階段性地增大空氣原壓力，一邊進行鼓風。接著，將由鼓風(air blow)引起的標準粒子的移動量小於1mm時的空氣原壓力的最大值作為「異物保持力」。

另外，目視觀察有無由鼓風引起的波紋。所謂由鼓風引起的波紋，是指被鼓風的部分的黏著層表面起伏或者凹陷而產生形狀變化的現象。

實施例1中獲得的樣品中，即便空氣原壓力為3.0kg/cm²G(2.94×10^-1MPa)，亦均未看到標準粒子的移動以及由鼓風引起引起的波紋。

(1-3)異物保持力的評價C

除了將聚苯乙烯製標準粒子的粒徑設為92μm以外，以與評價B相同的方式評價異物保持力。

實施例1中獲得的5個樣品中的3個樣品中，即便空氣原壓力為2.0kg/cm²G(1.96×10^-1MPa)，亦未看到標準粒子的移動。另一方面，其餘2個樣品中，當空氣原壓力為2.0kg/cm²G(1.96×10^-1MPa)時，看到標準粒子的微小移動(但小於1mm)。全部5個樣品中，即便空氣原壓力為2.0kg/cm²G(1.96×10^-1MPa)，亦未看到由鼓風引起的波紋。

(2)耐光性評價

將黏著層用塗佈液塗佈於石英玻璃的板上後，使其乾燥，獲得厚度為30μm的黏著層。黏著層中的上述共聚物的含量為100質量%。而且，利用以下方法來評價所得黏著層的耐光性。

(2-1)紅外線吸收光譜

1)首先，使用日本分光(股)製造的FT-IR6000來測定光照射前的黏著層的紅外線吸收光譜。

2)繼而，使用浜松光電(Hamamatsu Photonics)(股)製造的L5837，於空氣環境下，使波長為193nm的ArF準分子雷射光對黏著層直接照射。照射條件是設為：頻率為500Hz、能量密度為1(mJ/cm²)/脈衝、照射量為500或者1000(J/cm²)。

3)繼而，以與上述相同的方式測定光照射後的黏著層的紅外線吸收光譜。

4)接著，將光照射前後的紅外線吸收光譜進行對照。而且，於光照射後的紅外線吸收光譜中，確認新的吸收峰值的生成、或吸收峰值(特別是波長為1350cm^-1~1120cm^-1的吸收峰值)的消失等的有無，藉此確認黏著層中所含的樹脂的化學結構的變化的有無。

將實施例1的黏著劑層中的光照射前後的紅外線吸收光譜的測定結果示於圖4中。如圖4所示，相對於實施例1中所得的黏著層的光照射前的紅外線吸收光譜，光照射後的黏著層的紅外線吸收光譜中，未看到新的吸收峰值的生成或吸收峰值的消失。

(2-2)氣相層析質譜法(Gas Chromatograph Mass Spectrometry，GCMS)

對所得的黏著層，使用浜松光電(股)製造的L5837，於空氣環境下直接照射波長為193nm的ArF準分子雷射光。照射條件設為：頻率為500Hz、能量密度為1(mJ/cm²)/脈衝、照射量為500或者1000(J/cm²)。

而且，使用氣相層析質譜(GC-MS)計(島津製作所(股)製造，型號：GCMS-QP2010)，利用下述條件來測定光照射後的黏著層的ArF準分子雷射光的照射部以及未照射部的釋氣(例如低級烴等)的合計量。

氣體收集條件：於150℃下加熱30分鐘

其結果為，未照射部的釋氣量為2.1ppm；照射部的釋氣量於照射量500(J/cm²)下為7.1ppm，且於照射量1000(J/cm²)下為15.1ppm。

(比較例1)

除了代替Viton而使用商品名：Aflas(旭硝子(股)製造，1,1-二氟乙烯．四氟乙烯．丙烯共聚物，[-(C₂H₂F₂)a-(C₂F₄)b-(C₃H₆)c-]，重量平均分子量：11萬，氟含量：50質量%)以外，以與實施例1相同的方式獲得黏著層用塗佈液。

而且，除了使用所得的黏著層用塗佈液以外，以與實施例1相同的方式進行異物保持力的評價A、評價B以及評價C與耐光性(紅外線吸收光譜，GCMS)的評價。

其結果為，異物保持力的評價A中，未看到標準粒子的脫落。

另外，異物保持力的評價B中，標準粒子的移動量小於1mm時的空氣原壓力的最大值為2.0kg/cm²G(1.96×10^-1MPa)以下。另外，未看到空氣原壓力為2.0kg/cm²G(1.96×10^-1MPa)時的由鼓風引起的波紋。

另外，異物保持力的評價C中，標準粒子的移動量小於1mm時的空氣原壓力的最大值小於1.5kg/cm²G(1.47×10^-1MPa)。另外，未看到由鼓風引起的波紋。

另外，照射ArF準分子雷射光後的黏著層的紅外線吸收光譜中，未看到新的吸收峰值的生成或吸收峰值的消失，可知黏著層具有耐光性。另外，氣相層析質譜法中，未照射部的釋氣量為7.1ppm；相對於此，照射部的釋氣量於照射量為500(J/cm²)時為11.6ppm，於照射量為1000(J/cm²)時為27.3ppm。

(比較例2)

準備商品名：Fomblin YHVAC140/13(奧斯蒙K.K.(Ausimont K.K.)製造，全氟聚醚，CF₃-[(O-CF(CF₃)-CF₂)n-(O-CF₂)m]-O-CF₃(n及m為整數)，數量平均分子量：約7000，20℃下的動黏度：1400±200cSt(1.4×10^-3±0.2×10^-3m²/s)、20℃下的蒸氣壓：5×10^-13Torr(6.67×10^-11Pa)以下)。接著，於作為氟溶劑的全氟(2-丁烯四氫呋喃)中溶解Fomblin YHVAC140/13，獲得黏著層用塗佈液。所得塗佈液中的氟溶劑的含量設為20質量%。

而且，除了使用所得的黏著層用塗佈液以外，以與實施例1相同的方式進行異物保持力的評價A以及評價B。

其結果為，異物保持力的評價A中，看到標準粒子的脫落。另外，異物保持力的評價B中，標準粒子的移動量小於1mm時的空氣原壓力的最大值為0.1kg/cm²G(0.981×10^-2MPa)以下。另外，當空氣原壓力為0.1kg/cm²G(0.981×10^-2MPa)時，亦看到由鼓風引起的波紋。

(比較例3)

準備商品名：鐵氟龍(Teflon)(註冊商標)AF1601(杜邦(DuPont)公司製造，氟樹脂，重量平均分子量：約20萬~22萬)、及商品名：Fomblin YHVAC18/8(奧斯蒙K.K.製造，全氟聚醚，CF₃-[(O-CF(CF₃)-CF₂)n-(O-CF₂)m]-O-CF₃(n及m為整數)，數量平均分子量：約3000，20℃下的動黏度：180±20cSt(0.18×10^-3±0.02×10^-3m²/s)，20℃下的蒸氣壓：2×10^-8Torr(2.66×10^-6Pa)以下)。

首先，使鐵氟龍(Teflon)(註冊商標)AF1601(氟樹脂)溶解於作為氟溶劑的全氟(2-丁烯四氫呋喃)中。繼而，以成為以下調配比的方式進而添加Fomblin YHVAC18/8(全氟聚醚)，以成為均勻溶液的方式利用攪拌器(stirrer)來充分地攪拌混合，獲得黏著層用塗佈液。鐵氟龍(註冊商標)AF1601(氟樹脂)與Fomblin YHVAC18/8(全氟聚醚)的調配比以質量比計設為1：3。黏著層用塗佈液中的氟溶劑的含量設為20質量%。

接著，以與實施例1的異物保持力的評價方法相同的方式，將所得的黏著層用塗佈液塗佈於鋁合金製防塵薄膜框的內側面。繼而，將所得的防塵薄膜框於100℃、200mmHg(2.67×10⁴Pa)的條件下進行1小時處理後，於室溫下放置1小時，形成厚度為10μm的黏著層。接著，以與實施例1相同的方式進行異物保持力的評價A以及評價B。

其結果為，異物保持力的評價A中，看到標準粒子的脫落。另外，異物保持力的評價B中，標準粒子的移動量小於1mm時的空氣原壓力的最大值為1.5kg/cm²G(1.47×10^-1MPa)。另外，當空氣原壓力為1.5kg/cm²G(1.47×10^-1MPa)時，亦看到少許由鼓風引起的波紋。

將實施例1及比較例1~比較例3的評價結果歸納於表1中。

如表1所示，可知，包含具有式(1)所表示的構成單元、及式(2)所表示的構成單元的共聚物的實施例1的黏著層具有良好的異物保持力，且具有高耐光性。

與此相對，可知，包含不具有式(2)所表示的構成單元的樹脂的比較例1的黏著層尤其於光照射量多的情況下，照射部的藉由GCMS來測定的釋氣量多，耐光性低。另外可知，包含不具有式(1)所表示的構成單元的樹脂的比較例2及比較例3的黏著層的異物保持力低。

本申請案主張基於2012年8月2日提出申請的日本專利特願2012-171829的優先權。該申請案說明書以及圖式中記載的內容全部引用於本申請案說明書中。

[產業上之可利用性]

依據本發明，可提供一種包括黏著層的防塵薄膜組件，該黏著層具有可使塵埃等懸浮物良好地固著的保持性能、及對短波長光的優異耐光性。

10‧‧‧防塵薄膜組件

12‧‧‧防塵薄膜框

14‧‧‧防塵薄膜

16‧‧‧黏接劑層

18‧‧‧黏著層

Claims

一種防塵薄膜組件，其包括：防塵薄膜框、鋪設於上述防塵薄膜框的其中一個開口部的防塵薄膜、以及設置於上述防塵薄膜框的內側面的黏著層，並且相對於上述黏著層的總重量，上述黏著層包含60質量%以上的具有下述式(1)所表示的結構單元、及下述式(2)所表示的結構單元的共聚物，其中上述共聚物的重量平均分子量為8萬以上、16萬以下：-CH₂CF₂-...(1) -CF₂CF(CF₃)-...(2)。
如申請專利範圍第1項所述的防塵薄膜組件，其中相對於上述共聚物總質量，上述共聚物中的上述式(1)所表示的結構單元的含有比例為50質量%以上、85質量%以下。
如申請專利範圍第1項所述的防塵薄膜組件，其中相對於上述共聚物總質量，上述共聚物的氟含量為64質量%以上、71質量%以下。
如申請專利範圍第1項所述的防塵薄膜組件，其中上述共聚物進而包含下述式(3)所表示的結構單元：-CF₂CF₂-...(3)。
如申請專利範圍第1項所述的防塵薄膜組件，其中上述黏著層的厚度為3μm~20μm。