JP4403775B2 - ペリクルおよびフォトマスク - Google Patents
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Description
を形成し、その内部を真空排気兼リーク用のバルブを介して行うという方法とペリクルフレームに取り付けた吸盤により行うという方法である。しかし、この手段ではペリクルがマスクに装着されてしまうと外部からペリクルとマスクの空間をN2ガスでパージ処理することはできない。
剤および接着剤を用いずにマスク2に装着することができる。この方法を用いれば、マスク2からのペリクル取り外しも圧力調整によって行えるため、マスクの再生作業が簡便になる。また、接着剤および粘着剤からのマスク2やペリクルへの汚染を防止することができる。
で挟まれた内部空間20の圧力が外側の圧力よりも低くなるため、外部から圧着を取り除いた後、ペリクルとマスク2が装着された状態になる。すなわち、前記内部空間は、外部の大気より減圧となりペリクルとマスク2が密着した状態で装着される(図2(b)参照)。
2…マスク
3…シーリング材
4…ペリクルフレーム
5…ガス供給管
6…ガス排出管
7…バルブ
8…接着剤
9…粘着剤
10…ペリクル
20…(ペリクルとマスクを装着時の)内部空間
30…(ペリクルとマスクを装着するための外部からの)荷重
40…(内部空間内を排気及び特定ガスを充填する)パージ処理
Claims (2)
- フォトマスクを保護するために用いるペリクルにおいて、
ペリクル膜と、
前記ペリクル膜を支持するペリクルフレームと、
前記ペリクル膜と前記ペリクルフレームとを接着する第1のシーリング材と、
前記ペリクルフレームに設けられた通気穴と、
保護対象の前記フォトマスクと前記ペリクルフレームとを接着する第2のシーリング材と、を備え、
前記通気穴は複数設けられており、
前記第1のシーリング材および前記第2のシーリング材は、フッ素樹脂を含み、
前記ペリクル膜は、F 2 を添加したSiO 2 ガラスであること
を特徴とするペリクル。 - 請求項1に記載のペリクルを取り付けたフォトマスク。
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