JP4396354B2 - フォトマスク - Google Patents
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に照射されることを防止する方法が必要である。
ため、表面汚染による露光光の透過率低下などのトラブル発生率を低減でき、歩留りの向上に繋がる。
、下底部溝8には下部接着層4の粘着剤が形成され、上及び下底部溝7、8より外部にはみ出すことなく設置される。上底部溝7及び下底部溝8の大きさは、ペリクルフレーム5の強度が十分に維持でき、上部接着層2の接着剤および下部接着層4の粘着剤が各々の機能を十分に発揮できる分量だけ設置できる大きさで、接着層が外部にはみ出すことがない形状あればよい。なお、ペリクルフレ−ム5の下面部80でも図2(a)と同様な凹型の溝、下底部溝8が形成されている。
2…上部接着層
3…従来のペリクルフレーム
4…下部接着層
5…ペリクルフレーム
6…遮光膜
7…上底部溝
8…下底部溝
9…回路パターン
10…遮光パターン
11…フォトマスク
20…超清浄なクリーンエリア
30…従来のペリクル
50…本発明のペリクル
70…上面部
80…下面部
Claims (3)
- ペリクルが装着されたフォトマスクにおいて、
ペリクル材と、
前記ペリクル材を支持するペリクルフレームと、
前記ペリクルフレームと接し、遮光パターンを有するフォトマスクと、
前記ペリクル材と前記ペリクルフレームとを接着する上部接着層と、
前記ペリクルフレームと前記フォトマスクとを接着する下部接着層と、を備え、
前記ペリクルフレームは、前記下部接着層を保持する下底部溝を有するペリクルフレームであり、
前記下部接着層は、前記フォトマスクの前記遮光パターンに接していること
を特徴とするフォトマスク。 - 前記ペリクルフレームは、更に、前記上部接着層を保持する上底部溝を有するペリクルフレームであり、
前記上部接着層上に、前記上部接着層を保持する上底部溝の部位を覆うように遮光膜を備えたこと
を特徴とする請求項1に記載のフォトマスク。 - 前記ペリクルフレームは、更に、前記上部接着層を保持する上底部溝を有するペリクルフレームであり、
前記ペリクル材上に、前記上部接着層を保持する上底部溝の部位を覆うように遮光膜を備えたこと
を特徴とする請求項1に記載のフォトマスク。
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