JP2005283977A - ペリクル及びそのペリクルを装着したフォトマスク - Google Patents
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Abstract
【解決手段】上面部に上部接着層と、下面部には下部接着層を設置できる凹型の溝が形成されたペリクルフレームに上部接着層を介してペリクル材を固着し、ペリクル材の一部に該固着面への紫外光の照射を防止できる遮光膜が形成されたペリクルであって、該ペリクルとフォトマスクの遮光パターン面とを下部接着層を介して装着したフォトマスクを提供。
【選択図】図1
Description
に照射されることを防止する方法が必要である。
ため、表面汚染による露光光の透過率低下などのトラブル発生率を低減でき、歩留りの向上に繋がる。
、下底部溝8には下部接着層4の粘着剤が形成され、上及び下底部溝7、8より外部にはみ出すことなく設置される。上底部溝7及び下底部溝8の大きさは、ペリクルフレーム5の強度が十分に維持でき、上部接着層2の接着剤および下部接着層4の粘着剤が各々の機能を十分に発揮できる分量だけ設置できる大きさで、接着層が外部にはみ出すことがない形状あればよい。なお、ペリクルフレ−ム5の下面部80でも図2(a)と同様な凹型の溝、下底部溝8が形成されている。
2…上部接着層
3…従来のペリクルフレーム
4…下部接着層
5…ペリクルフレーム
6…遮光膜
7…上底部溝
8…下底部溝
9…回路パターン
10…遮光パターン
11…フォトマスク
20…超清浄なクリーンエリア
30…従来のペリクル
50…本発明のペリクル
70…上面部
80…下面部
Claims (3)
- デバイスパターンのフォトリソグラフィに用いられるフォトマスクに装着され、ペリクルフレームとペリクル材を含むペリクルにおいて、ペリクルフレームの、ペリクル材が接する面及び/又はフォトマスクが接する面に、接着層を形成する凹型を設けたことを特徴とするペリクル。
- 前記ペリクル材及び/又はペリクルフレームに、ペリクルフレームの接着層への紫外光の照射を防止する遮光膜を備えたことを特徴とする請求項1記載のペリクル。
- デバイスパターンのフォトリソグラフィに用いられるフォトマスクにおいて、請求項1又は2記載のペリクルを装着したことを特徴とするフォトマスク。
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