JP2011113033A - ペリクル膜の製造方法および装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 長期間にわたって使用しても、分解ガスの発生が少なく、フォトマスクのパターン領域上への固体異物の析出を防止することができ、かつ、フォトマスクをペリクルフレームに固定している粘着層に含まれる粘着剤の劣化を抑制することができるリソグラフィー用ペリクルを提供する。
【解決手段】 ペリクルフレーム３と、ペリクルフレーム３の一方の面に接着されたペリクル膜１と、ペリクルフレーム３の他方の面に形成された粘着層４を有し、粘着層４が、主鎖にパーフルオロ構造を有する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物を硬化させることによって形成されたことを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。
【選択図】 図１

Description

本発明は、ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置や液晶表示板を製造する場合に、マスクやレチクルの防塵カバーとして使用されるリソグラフィー用ペリクルに関するものである。

ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体デバイスあるいは液晶ディスプレイを製造するにあたっては、半導体ウエハーあるいは液晶用原板に、フォトマスクやレチクルなどの露光用原版（本明細書においては、総称して、「フォトマスク」と称する。）を介して、露光用の光が照射されて、フォトマスクのパターンが転写され、半導体デバイスあるいは液晶ディスプレイのパターンが形成される。

したがって、この場合に、フォトマスクにゴミなどの異物が付着していると、フォトマスクの表面に付着したゴミなどの異物によって、露光用の光が反射され、あるいは、吸収されるため、半導体ウエハーあるいは液晶用原板に転写されたパターンが変形したり、パターンのエッジ部分が不鮮明になるだけでなく、下地が黒く汚れて、寸法、品質、外観などを損ない、半導体ウエハーあるいは液晶用原板に、所望のように、フォトマスクのパターンを転写することができず、半導体デバイスあるいは液晶ディスプレイの性能が低下し、歩留まりが悪化するという問題があった。

かかる問題を防止するために、半導体ウエハーあるいは液晶用原板の露光は、クリーンルーム内で行われるが、それでも、フォトマスクの表面に異物が付着することを完全に防止することは困難であるため、通常は、フォトマスクの表面に、露光用の光に対し高い透過率を有するペリクルと呼ばれる防塵カバーを取り付けて、半導体ウエハーあるいは液晶用原板を露光するように構成されている。

一般に、ペリクルは、露光用の光に対し高い透過率を有するニトロセルロース、酢酸セルロースなどのセルロース系樹脂やフッ化樹脂などによって作製されたペリクル膜を、アルミニウム、ステンレス、ポリエチレンなどによって形成されたペリクルフレームの一方の面に、ペリクル膜材料の良溶媒を塗布し、ペリクル膜を風乾して、接着するか、アクリル樹脂、エポキシ樹脂やフッ素樹脂などの接着剤を用いて接着し、ペリクルフレームの他方の面に、ポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂などからなり、フォトマスクを付着させるための粘着層を形成し、さらに、粘着層上に、粘着層保護用のライナーを設けることによって、作製されている（特許文献１、２、３および４）。

ペリクルは、フォトマスクの表面に形成されたパターン領域を囲むように取付けられ、ペリクルの外部の塵埃が、フォトマスクの表面のパターン領域に付着しないように、フォトマスクの表面のパターン領域とペリクルの外部とが、ペリクルによって隔離される。

このように構成されたペリクルをフォトマスクの表面に取り付けて、半導体ウエハーあるいは液晶用原板を露光する場合には、ゴミなどの異物は、ペリクルの表面に付着し、フォトマスクの表面には直接付着しないため、フォトマスクに形成されたパターン上に、焦点が位置するように、露光用の光を照射すれば、ゴミなどの異物の影響を除去することが可能になる。

従来、ＬＳＩの露光光にはｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）などの紫外線が使用されてきたが、近年、ＬＳＩの集積度が増し、回路線幅が微細化されるにしたがって、露光光の短波長化が進み、フッ化クリプトン（ＫｒＦ）エキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）が使用され、さらには、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が使用されるようになっている。

特開昭５８−２１９０２３号公報 米国特許第４８６１４０２号明細書 特公昭６３−２７７０７号公報 特開平７−１６８３４５号公報

しかしながら、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）を用いて、長期間にわたって、ペリクルが取付けられたフォトマスクを露光すると、ペリクルに囲まれたフォトマスクのパターン領域上に、固体異物が徐々に析出するという問題があった。

長期間にわたって、ペリクルが取付けられたフォトマスクを露光した場合に、ペリクルに囲まれたフォトマスクのパターン領域上に、固体異物が徐々に析出する原因としては、フォトマスク上のイオン残渣、フォトマスクが使用されている環境中のイオン系ガスや有機系ガス、あるいは、ペリクルから放出されるイオン系ガスや有機系ガスが、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光と反応することなどが挙げられている。

このうち、ペリクルから放出される有機系ガスの大半は、フォトマスクにペリクルを固定する粘着層に含まれた粘着剤から放出されるものあるため、あらかじめ、粘着剤を加熱したり、減圧下に置いたりして、粘着剤からの脱ガスが行われている。

粘着層に含まれた粘着剤から放出される有機ガスは、粘着剤の種類により異なり、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）に対する粘着剤の吸収度が高いほど、フォトマスクのパターン領域上に、固体異物を析出させるおそれが高い。１９３ｎｍの波長の光を吸収しやすい有機ガスとしては、芳香族系ガスなどのπ電子を持った炭化水素系ガスが挙げられ、アミン系ガス、アルコール系ガス、アルデヒド系ガスなども、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）に対する吸収度が高い。

一方、粘着層に含まれる粘着剤から放出される有機系ガスを抑制しても、長期間にわたって、ペリクルを使用し、ペリクルがフッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光に晒されていると、ペリクルによって、散乱されたフッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光が粘着層に照射され、粘着層に含まれる粘着剤が分解して、有機系ガスが放出され、ペリクルとフォトマスクによって形成された閉空間内で、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光と反応して、ペリクルに囲まれたフォトマスクのパターン領域上に、固体異物を析出させる原因になるということもわかってきた。

さらに、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光が透過する際に、ペリクルとフォトマスクによって形成された閉空間内でオゾンが発生し、そのオゾンにより粘着層に含まれる粘着剤の劣化が進行して、分解ガスが放出されるという現象も見出されている。

上述の問題は、露光用の光として、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）を用いる場合だけではなく、フッ化クリプトン（ＫｒＦ）エキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）を用いる場合にも、問題となる。

また、上述のように、ペリクルを長期間にわたって使用すると、フォトマスクのパターン領域上に、固体異物が析出するなどの不具合が生じ、一定期間が経過すると、フォトマスクを洗浄して、フォトマスク上に析出した固体異物を除去するため、ペリクルの貼り替えが必要になるが、露光用の光として、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）を用いる場合には、フッ化クリプトン（ＫｒＦ）エキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）を用いる場合よりも、短期間に、ペリクルを貼り替えることが必要になる。しかしながら、粘着層に含まれる粘着剤に、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が照射され、あるいは、オゾンに晒されると、粘着剤の劣化が進行し、フォトマスクをペリクルフレームから剥離することが困難になるという問題もあった。

したがって、本発明は、長期間にわたって使用しても、分解ガスの発生が少なく、フォトマスクのパターン領域上への固体異物の析出を防止することができ、かつ、フォトマスクをペリクルフレームに固定している粘着層に含まれる粘着剤の劣化を抑制することができるリソグラフィー用ペリクルを提供することを目的とするものである。

本発明の別の目的は、フォトマスクから容易に、ペリクルを剥離し、貼り替えることができるリソグラフィー用ペリクルを提供することにある。

本発明者は、本発明の前記目的を達成するため、鋭意研究を続けた結果、主鎖にパーフルオロ構造を有する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物を硬化させて、粘着層を形成することによって、粘着層から有機系ガスが放出されても、その有機系ガスはフッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）を吸収し難く、粘着層にフッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光が照射されても、粘着層が分解し難く、ペリクルとフォトマスクによって形成された閉空間内でオゾンが発生しても、粘着剤層の劣化を抑制することができ、ペリクルを容易に貼り替えることができるということを見出した。

したがって、本発明の前記目的は、ペリクルフレームと、前記ペリクルフレームの一方の面に接着されたペリクル膜と、前記ペリクルフレームの他方の面に形成された粘着層を有し、前記粘着層が、主鎖にパーフルオロ構造を有する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物を硬化させることによって形成されたことを特徴とするリソグラフィー用ペリクルによって達成される。

本発明において、主鎖にパーフルオロ構造を有する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物とは、（Ａ）１分子中に少なくとも２個のアルケニル基を含有し、且つ主鎖にパーフルオロ構造を有し、ベース成分として作用する直鎖状パーフルオロ化合物、（Ｂ）１分子中に１個のアルケニル基を含有し、且つ主鎖にパーフルオロ構造を有し、反応希釈剤として作用する直鎖状パーフルオロ化合物、（Ｃ）１分子中に少なくとも２個のヒドロシリル基を有し、架橋剤兼鎖長延長剤として作用する有機ケイ素化合物および（Ｄ）白金族金属系触媒を含有してなる硬化性組成物をいい、たとえば、本発明にかかる主鎖にパーフルオロ構造を有する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物として、特開平１１−１１６６８５号公報に記載された硬化性組成物を使用することができる。

すなわち、本発明においては、粘着層が、主鎖にパーフルオロ構造を有する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物を硬化させることによって形成されているから、粘着層から放出される有機系ガスは、低波長の光の吸収率が小さいフッ化炭素系の有機系ガスであり、したがって、粘着層から、ペリクルとフォトマスクによって形成された閉空間内に、有機系ガスが放出されても、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）を吸収し難く、したがって、ペリクルに囲まれたフォトマスクのパターン領域上に、固体異物が析出することを効果的に防止することが可能になる。

また、本発明においては、粘着層が、主鎖にパーフルオロ構造を有する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物を硬化させることによって形成されているから、粘着層は耐光性が高く、粘着層にフッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が照射されても、分解し難く、分解ガスの放出を抑制することができ、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）の照射によって、粘着層から分解ガスが放出されても、放出される有機系ガスは、低波長の光の吸収率が小さいフッ化炭素系の有機系ガスであり、したがって、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）を吸収し難く、ペリクルに囲まれたフォトマスクのパターン領域上に、固体異物が析出することを効果的に防止することが可能になる。

さらに、本発明においては、粘着層が、主鎖にパーフルオロ構造を有する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物を硬化させることによって形成されているから、粘着層は耐オゾン性が高く、ペリクルとフォトマスクによって形成された閉空間内で、オゾンが発生しても、粘着層の劣化を抑制することができ、したがって、粘着層から放出される分解ガスを抑制することが可能になる。

また、本発明においては、粘着層が、主鎖にパーフルオロ構造を有する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物を硬化させることによって形成されているから、粘着層の耐光性および耐オゾン性が高いため、粘着層の劣化を抑制することができ、したがって、容易に、ペリクルを貼り替えることが可能になる。

本発明において、硬化性組成物の硬化後の粘着層のＡＳＴＭＤ−１４０３に規定される針入度が５０ないし１００の範囲にあると、十分な粘着力と十分なタック力を有しつつ、適度な柔らかさを有するため、フォトマスクにペリクルを取付ける際のフォトマスクの歪みを抑えることができ、好ましい。

上述した本発明の作用効果は、露光用の光として、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）を用いる場合だけではなく、フッ化クリプトン（ＫｒＦ）エキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）を用いる場合にも、得ることができる。

本発明によれば、長期間にわたって使用しても、分解ガスの発生が少なく、フォトマスクのパターン領域上への固体異物の析出を防止することができ、かつ、フォトマスクをペリクルフレームに固定している粘着層に含まれる粘着剤の劣化を抑制することができるリソグラフィー用ペリクルを提供することが可能になる。

また、本発明によれば、フォトマスクから容易に、ペリクルを剥離し、貼り替えることができるリソグラフィー用ペリクルを提供することが可能になる。

図１は、本発明の好ましい実施態様にかかるペリクルの略縦断面図である。

図１は、本発明の好ましい実施態様にかかるペリクルの略縦断面図である。

図１に示されるように、本実施態様にかかるペリクル１０は、ペリクルフレーム３の上端面に接着層２を介して、接着されたペリクル膜１を有している。

一方、図１に示されるように、ペリクルフレーム３の下端面には、主鎖にパーフルオロ構造を有する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物を硬化させることによって、粘着層４が形成され、粘着層４の下面には、ライナー（図示せず）が剥離可能に形成されている。

本実施態様においては、ペリクルフレーム３の側面に、気圧調整用穴６、すなわち、通気口６が形成され、さらに、パーティクルを除去するため、除塵用フィルター７が設けられている。

図１に示されるように、フォトマスク５は、粘着層４の下面に固定されている。

ペリクル膜１を形成するための材料はとくに限定されるものではなく、たとえば、従来、エキシマレーザ用のペリクル膜材料として使用されている非晶質フッ素ポリマーなどを用いることができる。非晶質フッ素ポリマーの例としては、旭硝子株式会社製のサイトップ（商品名）、テフロン（登録商標）、デュポン株式会社製ＡＦ（商品名）などが挙げられる。これらのポリマーは、ペリクル膜１の作製時に、必要に応じて、溶媒に溶解して使用してもよく、たとえば、フッ素系溶媒などで適宜溶解することができる。

ペリクルフレーム３の材料としては、従来のアルミニウム合金材料、好ましくは、ＪＩＳ Ａ７０７５材料、ＪＩＳ Ａ６０６１材料、ＪＩＳ Ａ５０５２材料が挙げられる。アルミニウム合金材料を使用する場合は、ペリクルフレーム３としての強度が確保されている限り、とくに制限はない。

ペリクルフレーム３の表面は、ポリマー被膜を設ける前に、サンドブラストや化学研磨によって粗面化しておくことが好ましい。ペリクルフレーム３の表面の粗面化方法は、従来、公知の方法を採用することができるが、アルミニウム合金材料に対して、ステンレス、カーボランダム、ガラスビーズなどによって、ペリクルフレーム３の表面をブラスト処理し、さらに、ＮａＯＨなどによって化学研磨を行って、ペリクルフレーム３の表面を粗面化することが好ましい。

粘着層４は、主鎖にパーフルオロ構造を有する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物を硬化させることによって形成されている。

主鎖にパーフルオロ構造を有する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物は、短波長の光に対する耐光性が高く、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が照射されても、分解し難く、分解生成物の放出も少ないため、ペリクル１０に囲まれたフォトマスク５のパターン領域上に、固体異物が析出することを効果的に防止することが可能になる。

さらに、主鎖にパーフルオロ構造を有する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物から放出される有機系ガスは、低波長の光の吸収率が小さいフッ化炭素系の有機系ガスであり、粘着層４から、ペリクル１０とフォトマスク５によって形成された閉空間内に、有機系ガスが放出されても、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）を吸収し難く、したがって、ペリクル１０に囲まれたフォトマスク５のパターン領域上に、固体異物が析出することを効果的に防止することが可能になる。

また、主鎖にパーフルオロ構造を有する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物は、耐オゾン性が高く、ペリクル１０とフォトマスク５によって形成された閉空間内で、オゾンが発生しても、粘着層４の劣化を抑制することができ、したがって、粘着層４から放出される分解ガスを抑制することが可能になる。

さらに、主鎖にパーフルオロ構造を有する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物を硬化させることによって形成された粘着層４は、耐光性および耐オゾン性が高いため、粘着層４の劣化を抑制することができ、したがって、容易に、ペリクル１０を貼り替えることが可能になる。

ここに、粘着層４に含まれる粘着剤には、十分な粘着力とタック力、十分な凝集力、柔らかさなどが要求されるが、粘着層４を形成するための粘着剤として、主鎖にパーフルオロ構造を有する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物を使用する場合に、硬化の硬化性組成物の針入度が５０ないし１００の範囲にあると、十分な粘着力と十分なタック力を有しつつ、適度な柔らかさを有するため、フォトマスク５をペリクル１０に取付ける際のフォトマスク５の歪みを抑えることも可能になる。

以下、本発明の効果を明らかにするため、実施例および比較例を掲げる。

実施例
アルミニウム合金製のペリクルフレーム（外形サイズ１４９ｍｍ×１１３ｍｍ×４．５ｍｍ、肉厚２ｍｍ）を純水で洗浄後、一方の面に、信越化学株式会社製の直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物（商品名：Ｘ-７１−８０２３）を塗布して、粘着層を形成し、直後に電磁誘導加熱によって、ペリクルフレームを加熱して、硬化性組成物を硬化した。硬化後の粘着層のＡＳＴＭＤ−１４０３に規定される針入度は１００であり、その厚みは０．３ｍｍであった。

粘着層が形成されたペリクルフレームの一方の面とは反対側の他方の面に、旭硝子株式会社製サイトップ接着剤（商品名：ＣＴＸ−Ａ）を塗布して、接着層を形成し、１３０℃の温度で、ペリクルフレームを加熱して、接着層を硬化させた。

その後、ペリクルフレームよりも大きなアルミニウム枠に形成したペリクル膜に、ペリクルフレームの他方の面に塗布された接着層を貼り付け、ペリクルフレームよりも外側の部分を除去して、ペリクルを完成させた。

こうして作製したペリクルを石英製のチャンバーに入れ、粘着層を構成する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物に、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）を照射した。その後、チャンバー内のガスをガスクロマトグラフィーで分析したところ、発生したガスはフッ化炭素系ガスであり、１９３ｎｍの光に対する吸収係数は０．１で、十分に低かった。

フォトマスクにペリクルを貼り付けて、フォトマスクの変形を確認したところ、フォトマスクの平坦度は、ペリクルを貼り付ける前が０．２μｍであったのに対し、ペリクルを貼り付けた後が０．２１μｍで、０．０１μｍしか変化しなかった。

実施例２
アルミニウム合金製のペリクルフレーム（外形サイズ１４９ｍｍ×１１３ｍｍ×４．５ｍｍ、肉厚２ｍｍ）を純水で洗浄後、その一方の面に信越化学株式会社製の直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物（商品名：ＳＩＦＥＬ８０７０）を塗布して、粘着層を形成し、その後、粘着層の表面にＰＥＴフィルムを接触させた。次いで、電磁誘導加熱により、ペリクルフレームを加熱し、粘着層に含まれる硬化性組成物を硬化させた後、ＰＥＴフィルムを除去した。硬化後の粘着層のＡＳＴＭＤ−１４０３に規定される針入度は７０であり、その厚みは０．３ｍｍであった。

粘着層が形成されたペリクルフレームの一方の面とは反対側の他方の面に、旭硝子株式会社製サイトップ接着剤（商品名：ＣＴＸ−Ａ）を塗布して、接着層を形成し、１３０℃の温度で、ペリクルフレームを加熱して、接着層を硬化させた。

その後、ペリクルフレームよりも大きなアルミニウム枠に形成したペリクル膜に、ペリクルフレームの他方の面に塗布された接着層を貼り付け、ペリクルフレームよりも外側の部分を除去して、ペリクルを完成させた。

こうして作製したペリクルを石英製のチャンバーに入れ、粘着層を構成する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物に、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）を照射した。その後、チャンバー内のガスをガスクロマトグラフィーで分析したところ、発生したガスはフッ化炭素系ガスであり、１９３ｎｍの光に対する吸収係数は０．１で、十分に低かった。

フォトマスクにペリクルに貼り付けて、フォトマスクの変形を確認したところ、フォトマスクの平坦度はペリクルを貼り付ける前が０．２μｍであったのに対し、ペリクルを貼り付けた後が０．２１μｍで、０．０１μｍしか変化しなかった。

実施例３
アルミ合金製のペリクルフレーム（外形サイズ１４９ｍｍ×１１３ｍｍ×４．５ｍｍ、肉厚２ｍｍ）を純水で洗浄後、その一方の面に信越化学株式会社製の直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物（商品名：Ｘ−７１−８１２２）を塗布して、粘着層を形成し、その後、粘着層の表面にＰＥＴフィルムを接触させた。次いで、電磁誘導加熱により、ペリクルフレームを加熱し、粘着層に含まれる硬化性組成物を硬化させた後、ＰＥＴフィルムを除去した。硬化後の粘着層のＡＳＴＭＤ−１４０３に規定される針入度は７０であり、その厚みは０．３ｍｍであった。

粘着層が形成されたペリクルフレームの一方の面とは反対側の他方の面に、旭硝子株式会社製サイトップ接着剤（商品名：ＣＴＸ−Ａ）を塗布して、接着層を形成し、１３０℃の温度で、ペリクルフレームを加熱して、接着層を硬化させた。

その後、ペリクルフレームよりも大きなアルミニウム枠に形成したペリクル膜に、ペリクルフレームの他方の面に塗布された接着層を貼り付け、ペリクルフレームよりも外側の部分を除去して、ペリクルを完成させた。

こうして作製したペリクルを石英製のチャンバーに入れ、粘着層を構成する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物に、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）を照射した。その後、チャンバー内のガスをガスクロマトグラフィーで分析したところ、発生したガスはフッ化炭素系ガスであり、１９３ｎｍの光に対する吸収係数は０．１で、十分に低かった。

フォトマスクにペリクルを貼り付けて、フォトマスクの変形を確認したところ、フォトマスクの平坦度はペリクルを貼り付ける前が０．２μｍであったのに対し、ペリクルを貼り付けた後が０．２１μｍで、０．０１μｍしか変化しなかった。

比較例
アルミニウム合金製のペリクルフレーム（外形サイズ１４９ｍｍ×１１３ｍｍ×４．５ｍｍ、肉厚２ｍｍ）を純水で洗浄後、その一方の面に綜研化学株式会社製のアクリル系粘着剤（商品名：ＳＫダイン１４２５）を塗布して、粘着層を形成し、直後に電磁誘導加熱によって、ペリクルフレームを加熱して、硬化性組成物を硬化した。硬化後の粘着層のＡＳＴＭＤ−１４０３に規定される針入度は１５であり、その厚みは０．３ｍｍであった。

粘着層が形成されたペリクルフレームの一方の面とは反対側の他方の面に、旭硝子株式会社製サイトップ接着剤（商品名：ＣＴＸ−Ａ）を塗布して、接着層を形成し、１３０℃の温度で、ペリクルフレームを加熱して、接着層を硬化させた。

その後、ペリクルフレームよりも大きなアルミニウム枠に形成したペリクル膜に、ペリクルフレームの他方の面に塗布された接着層を貼り付け、ペリクルフレームよりも外側の部分を除去して、ペリクルを完成させた。

こうして作製したペリクルを石英製のチャンバーに入れて、粘着層に、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）を照射した。その後、チャンバー内のガスをガスクロマトグラフィーで分析したところ、発生したガスはブタノールガス、ブタナールガス、ギ酸ブチルガスであり、１９３ｎｍの光に対する吸収係数は、それぞれ、１．０、３．４、２．４で、１９３ｎｍの光に対する吸収係数が高かった。

フォトマスクにペリクルに貼り付けて、フォトマスクの変形を確認したところ、フォトマスクの平坦度は、ペリクルを貼り付ける前が０．２μｍであったのに対し、ペリクルを貼り付けた後が０．３０μｍであり、ペリクル貼り付け前後で、フォトマスクの平坦度が０．１０μｍも変形することが判明した。

実施例１ないし３ならびに比較例から明らかなように、主鎖にパーフルオロ構造を有する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物ではなく、アクリル系粘着剤によって粘着層を形成した比較例においては、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）を照射したときに、ブタノールガス、ブタナールガス、ギ酸ブチルガスが発生し、これらのガスの１９３ｎｍの光に対する吸収係数は、それぞれ、１．０、３．４、２．４で、１９３ｎｍの光に対する吸収係数が高く、ペリクルとフォトマスクによって形成された閉空間内で、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光と反応して、ペリクルに囲まれたフォトマスクのパターン領域上に、固体異物を析出させるおそれが高いことが認められたが、主鎖にパーフルオロ構造を有する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物を硬化させることによって、粘着層を形成した実施例１、２および３においては、いずれも、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）を照射したときに発生するガスは、フッ化炭素系ガスであり、１９３ｎｍの光に対する吸収係数は０．１で、十分に低く、したがって、ペリクルとフォトマスクによって形成された閉空間内で、フッ化炭素系ガスがフッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザ光と反応して、ペリクルに囲まれたフォトマスクのパターン領域上に、固体異物を析出させるおそれがほとんどないことが判明した。

また、主鎖にパーフルオロ構造を有する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物ではなく、アクリル系粘着剤によって粘着層を形成した比較例においては、硬化後の粘着層のＡＳＴＭＤ−１４０３に規定される針入度は１５であり、粘着力とタック力が不十分であるだけでなく、粘着層が硬く、ペリクルの貼り付け前後で、フォトマスクの平坦度が０．１０μｍも変化し、ペリクルの貼り付け前後で、フォトマスクが歪み、変形が大きいことが認められたが、主鎖にパーフルオロ構造を有する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物を硬化させることによって粘着層を形成した実施例１、２および３においては、硬化後の粘着層のＡＳＴＭＤ−１４０３に規定される針入度は、それぞれ、１００、７０、７０であり、粘着層が、十分な粘着力とタック力、十分な凝集力を有し、適度な柔らかさを有しており、また、ペリクルの貼り付け前後で、フォトマスクの平坦度が０．０１μｍしか変化せず、ペリクルの貼り付け前後でのフォトマスクの歪み、変形は無視できることが判明した。

本発明は、以上の実施態様および実施例に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。

たとえば、実施例１においては、ペリクルをフォトマスクに付着させるために、ペリクルフレームの一方の表面に形成される粘着層を、信越化学株式会社製の直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物（商品名：Ｘ-７１−８０２３）を塗布して、硬化させることにより、実施例２においては、ペリクルをフォトマスクに付着させるために、ペリクルフレームの一方の表面に形成される粘着層を、信越化学株式会社製の直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物（商品名：ＳＩＦＥＬ８０７０）を塗布して、硬化させることにより、実施例３においては、ペリクルをフォトマスクに付着させるために、ペリクルフレームの一方の表面に形成される粘着層を、信越化学株式会社製の直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物（商品名：Ｘ−７１−８１２２）を塗布して、硬化させることによって形成しているが、粘着層を形成するために用いる硬化性組成物は、主鎖にパーフルオロ構造を有する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物であればよく、とくに限定されるものではない。

１ ペリクル膜
２ 接着層
３ ペリクルフレーム
４ 粘着層
５ フォトマスク
６ 気圧調整用穴（通気口）
７ 除塵用フィルター
１０ ペリクル

Claims (3)

1. ペリクルフレームと、前記ペリクルフレームの一方の面に接着されたペリクル膜と、前記ペリクルフレームの他方の面に形成された粘着層を有し、前記粘着層が、主鎖にパーフルオロ構造を有する直鎖状パーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物を硬化させることによって形成されたことを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。
2. 前記硬化性組成物が、（Ａ）１分子中に少なくとも２個のアルケニル基を含有し、かつ、主鎖にパーフルオロ構造を有する直鎖状パーフルオロ化合物、（Ｂ）１分子中に１個のアルケニル基を含有し、かつ、主鎖にパーフルオロ構造を有する直鎖状パーフルオロ化合物、（Ｃ）１分子中に少なくとも２個のヒドロシリル基を有する有機ケイ素化合物および（Ｄ）白金族金属系触媒を含有していることを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィー用ペリクル。
3. 前記粘着層のＡＳＴＭＤ−１４０３に規定される針入度が５０ないし１００の範囲であることを特徴とする請求項１または２に記載のリソグラフィー用ペリクル。
   
   

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