JPH1020480A - フォトマスクへのペリクル貼着方法 - Google Patents
フォトマスクへのペリクル貼着方法Info
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- JPH1020480A JPH1020480A JP19707096A JP19707096A JPH1020480A JP H1020480 A JPH1020480 A JP H1020480A JP 19707096 A JP19707096 A JP 19707096A JP 19707096 A JP19707096 A JP 19707096A JP H1020480 A JPH1020480 A JP H1020480A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- photomask
- pellicle frame
- adhesive layer
- frame
- Prior art date
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 一端面に接着剤層を介してペリクル膜が
張設されたペリクル枠の他端面をフォトマスクに貼着す
る方法において、フォトマスクのペリクル枠を貼着すべ
き箇所に上記ペリクル枠の粘着剤層無形成の他端面を載
置し、次いでペリクル枠の他端部外周縁の一部又は全部
を被覆するようにペリクル枠他端部とフォトマスクとの
境界部に粘着剤を供給して、該粘着剤を介して上記ペリ
クル枠をフォトマスクに固定したことを特徴とするフォ
トマスクへのペリクル貼着方法。 【効果】 本発明の方法によれば、ライナー無使用のペ
リクルを用いるので、ライナーからの異物の発生がな
く、このためペリクル膜の異物による性能の低下が防止
できる上、ライナーの原料費やライナーの洗浄、打ち抜
き、検査等の工程、費用を省くことができ、ペリクルの
清浄性を維持する観点から非常に有利である上、工業的
にも有利である。また、本発明方法によれば、上記粘着
剤層を簡単に除去できるので、フォトマスクからのペリ
クルの分離除去が極めて容易である。
張設されたペリクル枠の他端面をフォトマスクに貼着す
る方法において、フォトマスクのペリクル枠を貼着すべ
き箇所に上記ペリクル枠の粘着剤層無形成の他端面を載
置し、次いでペリクル枠の他端部外周縁の一部又は全部
を被覆するようにペリクル枠他端部とフォトマスクとの
境界部に粘着剤を供給して、該粘着剤を介して上記ペリ
クル枠をフォトマスクに固定したことを特徴とするフォ
トマスクへのペリクル貼着方法。 【効果】 本発明の方法によれば、ライナー無使用のペ
リクルを用いるので、ライナーからの異物の発生がな
く、このためペリクル膜の異物による性能の低下が防止
できる上、ライナーの原料費やライナーの洗浄、打ち抜
き、検査等の工程、費用を省くことができ、ペリクルの
清浄性を維持する観点から非常に有利である上、工業的
にも有利である。また、本発明方法によれば、上記粘着
剤層を簡単に除去できるので、フォトマスクからのペリ
クルの分離除去が極めて容易である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一端面にペリクル
膜が張設されたペリクルをフォトマスク上に貼着する方
法に関する。
膜が張設されたペリクルをフォトマスク上に貼着する方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体装置は、高密度化、高集積
化の進展に伴ってパターンの微細化が進行しており、フ
ォトマスク上に付着した微細な異物でも転写パターンの
欠陥になるようになってきたことから、このフォトマス
クへの異物の付着を防止するためにフォトマスクにペリ
クルを装着することが広く行われるようになってきてい
る。
化の進展に伴ってパターンの微細化が進行しており、フ
ォトマスク上に付着した微細な異物でも転写パターンの
欠陥になるようになってきたことから、このフォトマス
クへの異物の付着を防止するためにフォトマスクにペリ
クルを装着することが広く行われるようになってきてい
る。
【０００３】そして、このペリクルは、通常、一般的に
金属又は樹脂製のペリクル枠の一端面にペリクル膜を接
着剤で張設し、ペリクル枠の他端面に粘着剤層を形成
し、その粘着剤層を離型性を有するライナー（セパレー
ターとも称する）で保護した構造体となっている。
金属又は樹脂製のペリクル枠の一端面にペリクル膜を接
着剤で張設し、ペリクル枠の他端面に粘着剤層を形成
し、その粘着剤層を離型性を有するライナー（セパレー
ターとも称する）で保護した構造体となっている。
【０００４】このペリクルの使用は、離型性を有するラ
イナーを剥離して除去した後、露出した粘着剤層をフォ
トマスク（レクチルとも称する）の所定の位置に圧着す
ることによってペリクルをフォトマスクに固定すればよ
い。一方このように製造したペリクルを出荷する際に
は、ペリクル膜に異物のないことを確認後、ペリクルを
所定の容器に収納し、異物が混入しないように厳重に包
装し、梱包を行う。
イナーを剥離して除去した後、露出した粘着剤層をフォ
トマスク（レクチルとも称する）の所定の位置に圧着す
ることによってペリクルをフォトマスクに固定すればよ
い。一方このように製造したペリクルを出荷する際に
は、ペリクル膜に異物のないことを確認後、ペリクルを
所定の容器に収納し、異物が混入しないように厳重に包
装し、梱包を行う。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このペリクル
を目的地に輸送後、包装・梱包を解き、ペリクルを取り
出してペリクル膜の異物の有無を確認すると、異物が発
生している場合がある。
を目的地に輸送後、包装・梱包を解き、ペリクルを取り
出してペリクル膜の異物の有無を確認すると、異物が発
生している場合がある。
【０００６】この原因としては、トラックや鉄道、飛行
機による輸送時及び出荷の積み卸し時の振動や衝撃によ
り、ペリクル膜以外に潜在していた異物がペリクル膜に
付着したためと考えられる。
機による輸送時及び出荷の積み卸し時の振動や衝撃によ
り、ペリクル膜以外に潜在していた異物がペリクル膜に
付着したためと考えられる。
【０００７】ここで、ペリクル膜以外に異物が潜在する
可能性のある場所としては、ペリクル枠の外側及び内側
面、更に粘着剤層の保護に用いているライナー表面が考
えられる。特にライナーは、一般に離型剤をコーティン
グしたプラスチックフィルムを材料として用いているた
め、帯電し易い。その結果、ライナー表面に微粒子が付
着し易く、この微粒子がペリクル膜に移り、異物となる
ことがある。更に、ライナーは、フレームの形状に合わ
せるために打ち抜き刃を用いて打ち抜くものであるが、
その打ち抜き部分の断面からも異物が発生し易い。
可能性のある場所としては、ペリクル枠の外側及び内側
面、更に粘着剤層の保護に用いているライナー表面が考
えられる。特にライナーは、一般に離型剤をコーティン
グしたプラスチックフィルムを材料として用いているた
め、帯電し易い。その結果、ライナー表面に微粒子が付
着し易く、この微粒子がペリクル膜に移り、異物となる
ことがある。更に、ライナーは、フレームの形状に合わ
せるために打ち抜き刃を用いて打ち抜くものであるが、
その打ち抜き部分の断面からも異物が発生し易い。
【０００８】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、上記異物発生のおそれがあるライナーの使用を省略
したペリクルのフォトマスクへの貼着方法を提供するこ
とを目的とする。
で、上記異物発生のおそれがあるライナーの使用を省略
したペリクルのフォトマスクへの貼着方法を提供するこ
とを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成するため、一端面に接着剤層を介してペリクル膜が
張設されたペリクル枠の他端面をフォトマスクに貼着す
る方法において、フォトマスクのペリクル枠を貼着すべ
き箇所に上記ペリクル枠の粘着剤層無形成の他端面を載
置し、次いでペリクル枠の他端部外周縁の一部又は全部
を被覆するようにペリクル枠他端部とフォトマスクとの
境界部に粘着剤を供給して、該粘着剤を介して上記ペリ
クル枠をフォトマスクに固定したことを特徴とするフォ
トマスクへのペリクル貼着方法を提供する。
達成するため、一端面に接着剤層を介してペリクル膜が
張設されたペリクル枠の他端面をフォトマスクに貼着す
る方法において、フォトマスクのペリクル枠を貼着すべ
き箇所に上記ペリクル枠の粘着剤層無形成の他端面を載
置し、次いでペリクル枠の他端部外周縁の一部又は全部
を被覆するようにペリクル枠他端部とフォトマスクとの
境界部に粘着剤を供給して、該粘着剤を介して上記ペリ
クル枠をフォトマスクに固定したことを特徴とするフォ
トマスクへのペリクル貼着方法を提供する。
【００１０】この場合、ペリクル枠の他端部外周縁に切
欠き部を形成すると共に、上記粘着剤の供給時にこの切
欠き部内に粘着剤が充填するように粘着剤を供給するこ
とが有効である。
欠き部を形成すると共に、上記粘着剤の供給時にこの切
欠き部内に粘着剤が充填するように粘着剤を供給するこ
とが有効である。
【００１１】本発明によれば、フォトマスク上にペリク
ルを置いた後、ペリクルとフォトマスクとの当接部外周
縁の一部又は全部を被覆するように粘着剤層を形成する
ため、ペリクル自身にはペリクル枠の他端面に粘着剤層
を設ける必要がない。従って、本発明によれば、粘着剤
層の保護を目的とするライナーを使用する必要がないの
で、ライナーを発生源とする異物の発生がなくなり、そ
の結果、ペリクル膜の異物による性能の低下が防止でき
る上、ライナーの原料費やライナーの洗浄、打ち抜き、
検査等の工程、費用を省くことができ、ペリクルの清浄
性を維持する観点から非常に有利であり、工業的にも有
利である。
ルを置いた後、ペリクルとフォトマスクとの当接部外周
縁の一部又は全部を被覆するように粘着剤層を形成する
ため、ペリクル自身にはペリクル枠の他端面に粘着剤層
を設ける必要がない。従って、本発明によれば、粘着剤
層の保護を目的とするライナーを使用する必要がないの
で、ライナーを発生源とする異物の発生がなくなり、そ
の結果、ペリクル膜の異物による性能の低下が防止でき
る上、ライナーの原料費やライナーの洗浄、打ち抜き、
検査等の工程、費用を省くことができ、ペリクルの清浄
性を維持する観点から非常に有利であり、工業的にも有
利である。
【００１２】更に、本発明方法では、ペリクルをフォト
マスクから除去する際、上記ペリクル枠の他端外周縁に
形成された粘着剤層をペリクル枠沿いに引っ張るように
すれば簡単に粘着剤層をペリクル枠及びフォトマスクか
ら剥離することができるので、従来のペリクル枠他端面
に粘着剤層が形成されたペリクルを用いた場合に比べ
て、粘着剤層の剥離除去を極めて容易に行うことがで
き、それ故、フォトマスクからペリクルを簡単に分離除
去することができるという利点もある。
マスクから除去する際、上記ペリクル枠の他端外周縁に
形成された粘着剤層をペリクル枠沿いに引っ張るように
すれば簡単に粘着剤層をペリクル枠及びフォトマスクか
ら剥離することができるので、従来のペリクル枠他端面
に粘着剤層が形成されたペリクルを用いた場合に比べ
て、粘着剤層の剥離除去を極めて容易に行うことがで
き、それ故、フォトマスクからペリクルを簡単に分離除
去することができるという利点もある。
【００１３】
【発明の実施の形態及び実施例】以下、本発明につき図
面を参照にして更に詳しく説明する。本発明のフォトマ
スクにペリクルを貼着する方法は、図１に示したように
フォトマスク１上の所定の位置に、ペリクル枠２の一端
面（上端面）に接着剤層３を介してペリクル膜４が張設
され、他端面（下端面）には粘着剤層無形成のペリクル
の該他端面を置いた後、フォトマスクとペリクル枠との
当接部５の外周縁部の一部又は全部を被覆するように粘
着剤層６を形成し、フォトマスクとペリクル枠とを粘着
固定することを特徴とするものである。
面を参照にして更に詳しく説明する。本発明のフォトマ
スクにペリクルを貼着する方法は、図１に示したように
フォトマスク１上の所定の位置に、ペリクル枠２の一端
面（上端面）に接着剤層３を介してペリクル膜４が張設
され、他端面（下端面）には粘着剤層無形成のペリクル
の該他端面を置いた後、フォトマスクとペリクル枠との
当接部５の外周縁部の一部又は全部を被覆するように粘
着剤層６を形成し、フォトマスクとペリクル枠とを粘着
固定することを特徴とするものである。
【００１４】即ち、本発明に使用するペリクルは、図２
に示したようにペリクル枠２の一端面（上端面）に接着
剤層３を介してペリクル膜４が張設され、他端面（下端
面）には粘着剤層が形成されていないものである。な
お、従来のペリクルは、他端面（下端面）に粘着層が設
けられ、かつこの粘着層がライナーで保護されている。
に示したようにペリクル枠２の一端面（上端面）に接着
剤層３を介してペリクル膜４が張設され、他端面（下端
面）には粘着剤層が形成されていないものである。な
お、従来のペリクルは、他端面（下端面）に粘着層が設
けられ、かつこの粘着層がライナーで保護されている。
【００１５】また、フォトマスク１の材質、形状、ペリ
クル枠２、接着剤層３を形成する接着剤、ペリクル膜４
の材質や形状などは公知の材質、形状とすることができ
る。例えば、ペリクルフレームの材質としては、一般的
にアルミニウムが用いられ、フォトマスクの材質として
は、一般に合成石英等のガラスが用いられる。
クル枠２、接着剤層３を形成する接着剤、ペリクル膜４
の材質や形状などは公知の材質、形状とすることができ
る。例えば、ペリクルフレームの材質としては、一般的
にアルミニウムが用いられ、フォトマスクの材質として
は、一般に合成石英等のガラスが用いられる。
【００１６】本発明に用いる粘着剤としては、特に制限
はなく、一般のゴム系粘着剤やアクリル系粘着剤を用い
ることができるが、耐光性、耐薬品性の点でシリコーン
系粘着剤を用いることが好ましい。
はなく、一般のゴム系粘着剤やアクリル系粘着剤を用い
ることができるが、耐光性、耐薬品性の点でシリコーン
系粘着剤を用いることが好ましい。
【００１７】なお、ペリクルを貼着するフォトマスクの
面は、通常、パターンを形成している面であるが、反対
側の面（パターンを形成していない面）にもペリクルを
貼着してもよい。
面は、通常、パターンを形成している面であるが、反対
側の面（パターンを形成していない面）にもペリクルを
貼着してもよい。
【００１８】更に、フォトマスクとペリクル枠との当接
部外周縁部に粘着剤層を形成する方法に特に制限はない
が、粘着剤をペリクル枠沿いにそって一定量吐出しなが
ら塗布し、上記当接部外周縁部を被覆する方法が好適で
ある。
部外周縁部に粘着剤層を形成する方法に特に制限はない
が、粘着剤をペリクル枠沿いにそって一定量吐出しなが
ら塗布し、上記当接部外周縁部を被覆する方法が好適で
ある。
【００１９】図３，４は本発明の他の好適な実施態様を
示すもので、これらの例はペリクル枠２の他端面外周縁
部に部分的又は全体的に切欠き部７を形成し、この切欠
き部７に粘着剤を充填し、ペリクル枠２他端面とフォト
マスク１との間に粘着剤を介在させて、より両者の粘着
性を高めたものである。このようにフォトマスクとペリ
クルとをより強固に粘着固定させるには、ペリクル枠と
粘着剤層との接触面積が大きいほうが有効である。
示すもので、これらの例はペリクル枠２の他端面外周縁
部に部分的又は全体的に切欠き部７を形成し、この切欠
き部７に粘着剤を充填し、ペリクル枠２他端面とフォト
マスク１との間に粘着剤を介在させて、より両者の粘着
性を高めたものである。このようにフォトマスクとペリ
クルとをより強固に粘着固定させるには、ペリクル枠と
粘着剤層との接触面積が大きいほうが有効である。
【００２０】本発明方法でペリクルを貼着したフォトマ
スクからペリクルを分離除去するには、例えば粘着剤層
の一部をピンセットでつまみ、それをペリクル枠沿いに
そって引っ張ればよく、これにより容易に粘着剤層が剥
離し、ペリクルを分離除去することができる。
スクからペリクルを分離除去するには、例えば粘着剤層
の一部をピンセットでつまみ、それをペリクル枠沿いに
そって引っ張ればよく、これにより容易に粘着剤層が剥
離し、ペリクルを分離除去することができる。
【００２１】次に、実施例により本発明を具体的に説明
する。 〔実施例〕ペリクル枠として、外寸が１２２×１４９ｍ
ｍ、幅が２ｍｍ、高さが５．８ｍｍのアルミニウム製フ
レームを用いた。このフレームの一端面に接着剤を介し
てフッ素系ポリマーの薄膜をペリクル膜として張設し、
粘着剤層及びライナーを有しないペリクルを作製した。
する。 〔実施例〕ペリクル枠として、外寸が１２２×１４９ｍ
ｍ、幅が２ｍｍ、高さが５．８ｍｍのアルミニウム製フ
レームを用いた。このフレームの一端面に接着剤を介し
てフッ素系ポリマーの薄膜をペリクル膜として張設し、
粘着剤層及びライナーを有しないペリクルを作製した。
【００２２】次に、このペリクルの輸送による異物の発
生の有無をチェックするためにペリクルを専用の容器に
入れて密封後、トラックにより５００ｋｍの輸送を行
い、輸送後のペリクルを容器から取り出し、ペリクル膜
上の異物を暗室内で集光ランプを用いて測定したとこ
ろ、異物の増加は認められなかった。
生の有無をチェックするためにペリクルを専用の容器に
入れて密封後、トラックにより５００ｋｍの輸送を行
い、輸送後のペリクルを容器から取り出し、ペリクル膜
上の異物を暗室内で集光ランプを用いて測定したとこ
ろ、異物の増加は認められなかった。
【００２３】更に、輸送試験を行ったペリクルをフォト
マスクの所定の位置に置き、ペリクル枠沿いにそって、
シリコーン系粘着剤（ＫＲ−１２０、信越化学工業社
製）をディスペンサーを用いて塗布し、１２０℃で３分
間乾燥させて、幅２ｍｍ、厚み０．５ｍｍの粘着剤層を
フォトマスクとペリクル枠との当接部を被覆するように
形成した。その結果、フォトマスクとペリクルが強固に
粘着固定されていることが確認された。
マスクの所定の位置に置き、ペリクル枠沿いにそって、
シリコーン系粘着剤（ＫＲ−１２０、信越化学工業社
製）をディスペンサーを用いて塗布し、１２０℃で３分
間乾燥させて、幅２ｍｍ、厚み０．５ｍｍの粘着剤層を
フォトマスクとペリクル枠との当接部を被覆するように
形成した。その結果、フォトマスクとペリクルが強固に
粘着固定されていることが確認された。
【００２４】次に、このペリクルをフォトマスクから分
離するために粘着剤層の一部をピンセットでつまみ、そ
れをペリクル枠沿いにそって引っ張ったところ、粘着剤
層が容易に剥離し、フォトマスクからペリクルを分離す
ることができた。
離するために粘着剤層の一部をピンセットでつまみ、そ
れをペリクル枠沿いにそって引っ張ったところ、粘着剤
層が容易に剥離し、フォトマスクからペリクルを分離す
ることができた。
【００２５】
【発明の効果】本発明の方法によれば、ライナー無使用
のペリクルを用いるので、ライナーからの異物の発生が
なく、このためペリクル膜の異物による性能の低下が防
止できる上、ライナーの原料費やライナーの洗浄、打ち
抜き、検査等の工程、費用を省くことができ、ペリクル
の清浄性を維持する観点から非常に有利である上、フォ
トマスクからのペリクルの分離除去も簡単であり、工業
的にも有利である。
のペリクルを用いるので、ライナーからの異物の発生が
なく、このためペリクル膜の異物による性能の低下が防
止できる上、ライナーの原料費やライナーの洗浄、打ち
抜き、検査等の工程、費用を省くことができ、ペリクル
の清浄性を維持する観点から非常に有利である上、フォ
トマスクからのペリクルの分離除去も簡単であり、工業
的にも有利である。
【図１】本発明の実施に際し、フォトマスク上にペリク
ルを貼着した状態の一例を示す断面図である。
ルを貼着した状態の一例を示す断面図である。
【図２】本発明の実施に際し、フォトマスク上に貼着す
る前のペリクルの断面図である。
る前のペリクルの断面図である。
【図３】本発明の実施に際し、フォトマスク上にペリク
ルを貼着した状態の他の例を示す断面図である。
ルを貼着した状態の他の例を示す断面図である。
【図４】本発明の実施に際し、フォトマスク上にペリク
ルを貼着した状態の別の例を示すフォトマスクの断面図
である。
ルを貼着した状態の別の例を示すフォトマスクの断面図
である。
１ フォトマスク ２ ペリクル枠 ３ 接着剤層 ４ ペリクル膜 ５ フォトマスクとペリクル枠との当接部 ６ 粘着剤層 ７ 切欠き部
Claims (2)
- 【請求項１】 一端面に接着剤層を介してペリクル膜が
張設されたペリクル枠の他端面をフォトマスクに貼着す
る方法において、フォトマスクのペリクル枠を貼着すべ
き箇所に上記ペリクル枠の粘着剤層無形成の他端面を載
置し、次いでペリクル枠の他端部外周縁の一部又は全部
を被覆するようにペリクル枠他端部とフォトマスクとの
境界部に粘着剤を供給して、該粘着剤を介して上記ペリ
クル枠をフォトマスクに固定したことを特徴とするフォ
トマスクへのペリクル貼着方法。 - 【請求項２】 ペリクル枠の他端部外周縁に切欠き部を
形成すると共に、上記粘着剤の供給時にこの切欠き部内
に粘着剤が充填するように粘着剤を供給した請求項１記
載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19707096A JPH1020480A (ja) | 1996-07-08 | 1996-07-08 | フォトマスクへのペリクル貼着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19707096A JPH1020480A (ja) | 1996-07-08 | 1996-07-08 | フォトマスクへのペリクル貼着方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1020480A true JPH1020480A (ja) | 1998-01-23 |
Family
ID=16368220
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19707096A Pending JPH1020480A (ja) | 1996-07-08 | 1996-07-08 | フォトマスクへのペリクル貼着方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1020480A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999049366A1 (fr) * | 1998-03-20 | 1999-09-30 | Nikon Corporation | Photomasque et systeme d'exposition par projection |
| JP2002182373A (ja) * | 2000-12-18 | 2002-06-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル及びその製造方法及びフォトマスク |
| KR100505283B1 (ko) * | 2001-10-31 | 2005-08-03 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 펠리클 및 펠리클 부착 마스크의 제조 방법 |
| CN102081299A (zh) * | 2009-11-30 | 2011-06-01 | 信越化学工业株式会社 | 光刻用防尘薄膜组件 |
-
1996
- 1996-07-08 JP JP19707096A patent/JPH1020480A/ja active Pending
Cited By (7)
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