JP2915744B2 - ペリクル - Google Patents
ペリクルInfo
- Publication number
- JP2915744B2 JP2915744B2 JP10995293A JP10995293A JP2915744B2 JP 2915744 B2 JP2915744 B2 JP 2915744B2 JP 10995293 A JP10995293 A JP 10995293A JP 10995293 A JP10995293 A JP 10995293A JP 2915744 B2 JP2915744 B2 JP 2915744B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- dust
- pellicle frame
- frame
- adhesive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
- G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
I、超LSIなどの半導体装置あるいは液晶表示板を製
造する際のゴミよけとして使用される、実質的に 500nm
以下の光を用いる露光式方式におけるペリクルに関する
ものである。
いは液晶表示板などの製造においては、半導体ウェハー
あるいは液晶用原版に光を照射してパターニングを作成
するのであるが、この場合に用いる露光原版にゴミが付
着していると、このゴミが光を吸収したり、光を曲げて
しまうため、転写したパターニングが変形したり、エッ
ジががさついたものとなるほか、白地が黒く汚れたりし
て、寸法、品質、外観などが損なわれ、半導体装置や液
晶表示板などの性能や製造歩留りの低下を来たすという
問題があった。このため、これらの作業は通常クリーン
ルームで行われているが、このクリーンルーム内でも露
光原版を常に清浄に保つことが難しいので、図1に示し
たように露光原版の表面にゴミよけのための露光用の光
をよく通過させるペリクルを貼着する方式が行なわれて
いる。
接付着せず、ペリクル上に付着するため、リソグラフィ
ー時に焦点を露光原版のパターン上に合わせておけば、
ペリクル上のゴミは転写に無関係となるのであるが、こ
のペリクル膜は通常図2に示されているように、光を良
く通過させるニトロセルロース、酢酸セルロース、変成
ポリビニルアルコール、フッ素系ポリマーなどからなる
透明なペリクル膜をアルミニウム合金、ステンレス、ポ
リエチレンなどからなるペリクル枠の上部にペリクル膜
の良溶媒を塗布し、風乾して接着する(特開昭 58-2190
23号公報参照)か、アクリル樹脂やエポキシ樹脂などの
接着剤で接着し(米国特許第 4,861,402号明細書、特公
昭63-27,707 号公報参照)、さらにはペリクル枠の下部
には露光原版が装着されるために、ポリブテン樹脂、ポ
リ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂などからなる粘着層、
および粘着層の保護を目的とした離型層(セパレータ
ー)で構成されている。
用目的から、当然ペリクル膜の内外表面やペリクル枠、
セパレーターなどに塵埃が存在したり、そこから発塵す
ることは回避されることが必要とされるので、このペリ
クル製造に当ってその原材料は充分な注意のものに洗浄
されるのであるが、それでもここに存在する塵埃の除去
や発塵を防止することができず、特にペリクル枠からの
発塵が大きな原因となって現在でもペリクル貼着の効果
が著しく低減している。なお、このペリクル枠としては
前記したようにアルミニウム合金、ステンレス、ポリエ
チレンなどが使用されており、このペリクル枠について
はその特性上、1)迷光防止のために黒色であること、
2)軽量で高強度であること、3)表面硬度が高いこと
などが不可欠であることから、通常はアルマイト処理を
した黒色アルミニウム合金が使用されている。
ミニウム合金はアルミニウム合金を黒色アルマイト処理
すると、必然的にアルミニウム合金の表面の黒色アルマ
イト層が図3に示したように凹凸が多く、多孔質で硬く
脆い状態のものとなるため、ペリクルの製造時に加わる
各種の力や振動あるいは収納ケースとペリクル枠との摩
擦などによって、この黒色アルマイト層の凹凸部や多孔
質部内に存在していた塵埃や黒色顔料などが飛散した
り、脆いアルマイト層表面の破壊により発塵するという
欠点がある。そのため、このペリクル枠については、こ
のような不利を防止するためにペリクル枠の内側に粘着
剤層を設けるか、内側に塗料をコーティングするという
方法も提案されている(特公昭63-777号公報、特開昭64
-48062号公報参照)。
に粘着剤層を設けたり、塗料を塗布する方法は内側の塵
埃の固定や塵埃の発生を防止するという点では確しかに
効果を与えるけれども、これだけではペリクル枠の内側
以外の部分での塵埃の固化、発塵を防止することができ
ないし、事実ペリクルは通常使用前に1個毎に収納ケー
スに納められるために、ペリクル枠の上下面や外側面と
の摩擦などで、ペリクル枠の内側以外からの塵埃の落下
や発塵がしばしば発生する。なお、この公知の方法によ
ってペリクル枠の内側に粘着剤や塗料を塗布する方法に
はこれらを均一に塗布することが工業的に難しく、塗膜
の不均一による外観不良が発生してペリクル製造の歩留
りを低下させるし、粘着剤を設けるときには粘着剤がペ
リクル枠の外側にも付着してペリクルが露光原版に装置
する際にベタついてハンドリングが難しくなるという欠
点もあり、さらに塗料を塗布する場合には塗料中の着色
物質や伝熱性あるいは導電性物質、例えば着色顔料、染
料、金属粉、カーボン粉などが振動、衝撃や摩擦などで
塗料から欠落し、これが発塵の原因になるという不利も
ある。
利、欠点を解決したペリクルに関するものであり、これ
はペリクル枠の全面を非粘着性で透明な有機ポリマーで
平滑に処理して発塵防止性としてなることを特徴とする
ものである。
を防止したペリクルを開発すべく種々検討した結果、こ
れについてはペリクル枠からの発塵の大部分はペリクル
枠の内側からの発塵よりも、むしろペリクル枠の上下面
や外側面とケースとの摩擦やこれらの面からの振動によ
るアルマイト層に存在している塵埃の発散、さらには脆
い表面層の破壊による発塵にあるということを見出し、
この発塵防止方法について研究を進めたところ、これに
はペリクル枠の内面ばかりではなく、その全面を有機ポ
リマーで平滑に処理することが極めて有効であることを
確認し、この平滑処理方法についての研究を進めて本発
明を完成させた。以下にこれをさらに詳述する。
前記したようにペリクル枠の全面を非粘着性で透明な有
機ポリマーで平滑に処理して発塵防止性としてなること
を特徴とするものであるが、これによればペリクル枠か
らの発塵が防止されるのでペリクルの貼着効果が顕著に
上昇するし、このペリクルの半導体装置、液晶表示板を
製造するときのゴミよけがより確実に行なわれるように
なるという有利性が与えられる。
粘着性で透明な有機ポリマーで平滑処理してこれを発塵
防止性をもつものとするものであるが、このペリクル枠
の全面を平滑処理する方法としては、ペリクル枠の全面
をメッキ処理、低融点ガラスフリット処理、CVD処
理、スパッター法などによるPVD処理するか、または
有機ポリマー単独または各種の塗料コーティング処理な
どを施す方法があるが、本発明では、加工の容易さ、効
果が大きいことから有機ポリマーによる処理を行う。こ
の有機ポリマーは非粘着性で透明なポリマーの中から任
意に選べるが、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂、シ
リコーン樹脂、フッ素樹脂などがあげられる。これらの
有機ポリマーによる処理方法はスプレー法、ディッピン
グ法、静電塗装法、電着塗装法などによって行なわれ
る。
明でさらに塗膜強度も大きく、ハンドリングも容易であ
ることから非晶質のフッ素系重合体で処理することがよ
い。この非晶質のフッ素系重合体は透明性であることか
ら着色しなくても迷光に対してもペリクル枠本体の黒色
がそのまま活用されるので、この処理によって余分な発
塵が起るおそれはないし、このものは低融点ガラスフリ
ット処理などの他の処理法に比べて機械的な衝撃に強い
皮膜を与えるので、ペリクル枠表面層の脆さの保護も万
全になるという有利性を与える。
は滑性が高いという特性を有しているので、収納ケース
に納められて客先に輸送される際のケースとペリクル枠
の上下面や外側面との摩擦と摩耗が大幅に減少し、ペリ
クルでの発塵の主要因となっている摩擦、摩耗による発
塵が著しく減少するという有利性も与えられる。
ばテトラフルオロエチレンと環状パーフルオロエーテル
基を有する含フッ素モノマーとを主体として共重合して
得られるものとすればよいが、これには溶剤に可溶で平
滑処理が容易であるということからは市販されているテ
フロンAF(米国デュポン社製商品名)またはサイトッ
プ[旭ガラス(株)製商品名]などを用いればよい。こ
の平滑処理はこれらのフッ素系重合体を主成分パーフル
オロ(2−ブチルテトラヒドロフラン)であるフッ素系
溶剤などに溶かして、スプレー法、ディッピング法など
で処理すればよいが、このフッ素系重合体はペリクル枠
によく接着するようにその一部を変性したり、塵埃を発
生するおそれのない液状の添加剤を添加して用いてもよ
い。
記の式
レンと環状パーフルオロエーテル基を有する含フッ素モ
ノマーとの共重合で作られた非晶質フッ素重合体として
のテフロンAF(前出)を、主成分がパーフルオロ(2
−ブチルテトラヒドロフラン)であるフッ素系溶剤・フ
ロリナートFC−75(米国スリーエム社製商品名)に溶
解させて濃度 8.0%の溶液を調整した中にディッピング
したのち、150℃で乾燥して、ペリクル枠の全面を平滑
処理した。
ス製のペリクル膜をエポキシ樹脂で接着し、シリコーン
樹脂の粘着剤にフッ素樹脂を塗布したセパレーターを貼
付し、このようにして作成したペリクルを充分に洗浄し
たポリエチレン製の収納ケースに入れて福岡と東京のト
ラック輸送テストを行ない、この輸送テストの評価はH
eレーザーによる異物検査機によりペリクル上に付着し
た 0.3μm以上の塵埃の数で判定するようにしたとこ
ろ、本発明によるペリクル枠を用いたものには輸送テス
ト後も塵埃の数には何らの増加も見られなかった。
記したフッ素系重合体による全面の平滑処理は行なわ
ず、その内側のみを粘着剤で塗布したものとし、同様の
トラック輸送テストを行なったところ、この場合には塵
埃としての異物が32個も増加していた。
記の式
レンと環状パーフルオロエーテル基を有する含フッ素モ
ノマーとの共重合で作られた非晶質フッ素重合体として
のサイトップA[旭ガラス(株)製商品名]を、フッ素
系溶剤・フロリナートFC−75(前出)に溶解した濃度
5.0%の溶液にディッピングしたのち、 150℃で乾燥し
て、ペリクル枠の全面を平滑処理した。
をもつ非晶質フッ素重合体サイトップS[旭ガラス
(株)製商品名]から作られたペリクル膜をエポキシ樹
脂で接着し、ジオルガノポリシロキサン組成物で接着し
たポリブテン樹脂の粘着剤にシリコーンを塗布したセパ
レーターを貼着し、このようにして作成したペリクルに
ついて実施例1と同様の方法で、輸送テストを行なった
ところ、このものはテスト後も異物の増加はゼロであっ
た。
記したフッ素重合体による全面の平滑処理は行なわず、
その内側のみをカーボン粉末を入れたアクリル樹脂製導
電性塗料をコーティングしたものとし、実施例と同じ輸
送テストを行なったところ、この場合には塵埃としての
異物が16個も増えていた。
これは前記したようにペリクル枠の全面を非粘着性で透
明な有機ポリマーで平滑に処理して発塵防止性としてな
ることを特徴とするものであるが、このペリクルはその
ペリクル枠の全面が平滑処理されているので、このペリ
クル枠が凹凸が多く、多孔質で硬く脆いものであっても
これからの発塵が防止され、これを用いたペリクルは長
期輸送しても発塵で異物の付着が増加することはないと
いう有利性が与えられる。
これは前記したようにペリクル枠の全面を平滑に処理し
て発塵防止性としてなることを特徴とするものである
が、このペリクルはそのペリクル枠の全面が平滑処理さ
れているので、このペリクル枠が凹凸が多く、多孔質で
硬く脆いものであってもこれからの発塵が防止され、こ
れを用いたペリクルは長期輸送しても発塵で異物の付着
が増加することはないという有利性が与えられる。
である。
を示したものである。
ミニウム合金製ペリクル枠の顕微鏡写真図を示したもの
である。
Claims (2)
- 【請求項1】 ペリクル枠の全面を非粘着性で透明な有
機ポリマーで平滑に処理して発塵防止性としてなること
を特徴とするペリクル。 - 【請求項2】 有機ポリマーが溶媒可溶な非晶質フッ素
系重合体である請求項1に記載したペリクル。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10995293A JP2915744B2 (ja) | 1993-04-13 | 1993-04-13 | ペリクル |
EP94400689A EP0622680B1 (en) | 1993-04-13 | 1994-03-30 | Frame-supported dustproof pellicle for photolithographic photomask |
DE69418247T DE69418247T2 (de) | 1993-04-13 | 1994-03-30 | Rahmengestützte Membranabdeckung zum Schutz gegen Staub für photolithographische Photomasken |
KR1019940007764A KR100318810B1 (ko) | 1993-04-13 | 1994-04-13 | 포토리소그래픽포토마스크용의프레임-지지방진펠리클 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10995293A JP2915744B2 (ja) | 1993-04-13 | 1993-04-13 | ペリクル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06301199A JPH06301199A (ja) | 1994-10-28 |
JP2915744B2 true JP2915744B2 (ja) | 1999-07-05 |
Family
ID=14523293
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10995293A Expired - Lifetime JP2915744B2 (ja) | 1993-04-13 | 1993-04-13 | ペリクル |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0622680B1 (ja) |
JP (1) | JP2915744B2 (ja) |
KR (1) | KR100318810B1 (ja) |
DE (1) | DE69418247T2 (ja) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3027073B2 (ja) * | 1993-07-28 | 2000-03-27 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル |
JPH0772617A (ja) * | 1993-09-02 | 1995-03-17 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル |
JP3493090B2 (ja) * | 1995-12-15 | 2004-02-03 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル |
TW337002B (en) * | 1996-11-19 | 1998-07-21 | Mitsui Kagaku Kk | Pellicle |
TWI270504B (en) * | 2004-12-15 | 2007-01-11 | Gudeng Prec Ind Co Ltd | Photo-mask protection film frame |
JP2007333910A (ja) * | 2006-06-14 | 2007-12-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル |
JP5341997B2 (ja) | 2009-07-16 | 2013-11-13 | 三井化学株式会社 | ペリクルフレームおよびそれを含むペリクル |
JP5304622B2 (ja) * | 2009-12-02 | 2013-10-02 | 信越化学工業株式会社 | リソグラフィ用ペリクル |
US8815476B2 (en) * | 2010-07-08 | 2014-08-26 | Mitsui Chemicals, Inc. | Pellicle membrane |
JP5767535B2 (ja) * | 2010-09-01 | 2015-08-19 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | ペリクル枠体、ペリクル及びペリクル枠体の製造方法 |
JP5795747B2 (ja) * | 2012-04-04 | 2015-10-14 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム及びペリクル |
US9658525B2 (en) | 2012-08-02 | 2017-05-23 | Mitsui Chemicals Inc. | Pellicle |
JP6313161B2 (ja) * | 2014-08-27 | 2018-04-18 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム及びペリクル |
JP6607574B2 (ja) * | 2016-08-24 | 2019-11-20 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム及びペリクル |
JP6812714B2 (ja) * | 2016-09-20 | 2021-01-13 | 日本軽金属株式会社 | ペリクル用支持枠及びペリクル並びにその製造方法 |
KR101902262B1 (ko) * | 2018-03-30 | 2018-09-28 | (주)에스피텍 | 수지 증착 코팅층을 구비한 펠리클 프레임 |
JP7330245B2 (ja) * | 2018-04-03 | 2023-08-21 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付フォトマスク、露光方法、及び半導体デバイスの製造方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6083032A (ja) * | 1983-10-13 | 1985-05-11 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 光透過性に優れたフオトマスク用防塵カバ− |
US5061024C1 (en) * | 1989-09-06 | 2002-02-26 | Dupont Photomasks Inc | Amorphous fluoropolymer pellicle films |
ES2124697T3 (es) * | 1990-10-16 | 1999-02-16 | Mitsui Chemicals Inc | Utilizacion de una capa protectora de polvo altamente transmisora de la luz, procedimiento para su preparacion y elemento protector de polvo. |
JP3037745B2 (ja) * | 1990-11-29 | 2000-05-08 | 三井化学株式会社 | ペリクル構造体 |
JP2962447B2 (ja) * | 1992-04-01 | 1999-10-12 | 信越化学工業株式会社 | 耐紫外線性ペリクル |
JP2857561B2 (ja) * | 1993-02-22 | 1999-02-17 | 旭化成電子株式会社 | ペリクル |
-
1993
- 1993-04-13 JP JP10995293A patent/JP2915744B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-03-30 EP EP94400689A patent/EP0622680B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-30 DE DE69418247T patent/DE69418247T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-04-13 KR KR1019940007764A patent/KR100318810B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69418247T2 (de) | 2000-01-05 |
EP0622680A3 (en) | 1996-03-20 |
JPH06301199A (ja) | 1994-10-28 |
EP0622680A2 (en) | 1994-11-02 |
KR100318810B1 (ko) | 2002-05-13 |
EP0622680B1 (en) | 1999-05-06 |
DE69418247D1 (de) | 1999-06-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2915744B2 (ja) | ペリクル | |
JP3493090B2 (ja) | ペリクル | |
JP3027073B2 (ja) | ペリクル | |
JP3089153B2 (ja) | リソグラフィー用ペリクル | |
CN101089729A (zh) | 防护薄膜组件 | |
JP3020320B2 (ja) | リソグラフィ−用ペリクル | |
JPH0667409A (ja) | リソグラフィー用ペリクル | |
US10338465B2 (en) | Pellicle frame and pellicle | |
TWI608289B (zh) | Dust film assembly | |
JP2010256609A (ja) | ペリクル | |
JP4202554B2 (ja) | 半導体リソグラフィ用ペリクル | |
TW201608331A (zh) | 防塵薄膜組件框架以及防塵薄膜組件 | |
JP2013228582A (ja) | ペリクル | |
JP2790946B2 (ja) | ペリクル膜の製造方法 | |
JP3601996B2 (ja) | ペリクル粘着層保護用ライナーおよびこれを具備するペリクル | |
JP2938709B2 (ja) | 半導体リソグラフィー用ペリクルの製造方法 | |
JP2938696B2 (ja) | ペリクルの製造方法 | |
JP3429897B2 (ja) | ペリクルの製造方法 | |
JP2855048B2 (ja) | ペリクルの製造方法 | |
JP3801218B2 (ja) | ペリクル収納容器 | |
JPH06230561A (ja) | リソグラフィー用ペリクル膜の製造方法 | |
TW202328808A (zh) | 防塵薄膜組件框架、防塵薄膜組件、帶有防塵薄膜組件的曝光原版及防塵薄膜組件的製造方法 | |
JP4319757B2 (ja) | ペリクルの製造方法 | |
JPH06308719A (ja) | ペリクル | |
JPS6145513A (ja) | 電子素子の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080416 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090416 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090416 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100416 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100416 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110416 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120416 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130416 Year of fee payment: 14 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |