JP2938696B2 - ペリクルの製造方法 - Google Patents
ペリクルの製造方法Info
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- JP2938696B2 JP2938696B2 JP35204592A JP35204592A JP2938696B2 JP 2938696 B2 JP2938696 B2 JP 2938696B2 JP 35204592 A JP35204592 A JP 35204592A JP 35204592 A JP35204592 A JP 35204592A JP 2938696 B2 JP2938696 B2 JP 2938696B2
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- pellicle
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- film
- pellicle film
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はペリクルの製造方法、特
にはＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体デバイスあるいは液
晶表示板を製造する際のゴミよけとして使用される、ペ
リクルの製造方法に関するものである。
にはＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体デバイスあるいは液
晶表示板を製造する際のゴミよけとして使用される、ペ
リクルの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体デバイス
あるいは液晶表示板などの製造においては、半導体ウェ
ハーあるいは液晶用原版に光を照射してパターニングを
作成するのであるが、この場合に用いる露光原版にゴミ
が付着していると、このゴミが光を吸収したり、光を曲
げてしまうため、転写したパターニングが変形したり、
エッジががさついたものとなるほか、寸法、品質、外観
などが損なわれ、半導体装置や液晶表示板などの性能や
製造歩留りの低下を来すという問題があった。このた
め、これらの作業は通常クリーンルームで行われている
が、このクリーンルーム内でも露光原版を常に清浄に保
つことが難しいので、露光原版の表面にゴミよけのため
の露光用の光をよく通過させるペリクルを貼着する方法
が行なわれている。
あるいは液晶表示板などの製造においては、半導体ウェ
ハーあるいは液晶用原版に光を照射してパターニングを
作成するのであるが、この場合に用いる露光原版にゴミ
が付着していると、このゴミが光を吸収したり、光を曲
げてしまうため、転写したパターニングが変形したり、
エッジががさついたものとなるほか、寸法、品質、外観
などが損なわれ、半導体装置や液晶表示板などの性能や
製造歩留りの低下を来すという問題があった。このた
め、これらの作業は通常クリーンルームで行われている
が、このクリーンルーム内でも露光原版を常に清浄に保
つことが難しいので、露光原版の表面にゴミよけのため
の露光用の光をよく通過させるペリクルを貼着する方法
が行なわれている。
【０００３】この場合、ゴミは露光原版の表面上には直
接付着せず、ペリクル上に付着するため、リソグラフィ
ー時に焦点を露光原版のパターン上に合わせておけば、
ペリクル上のゴミは転写に無関係となる。このペリクル
は光を良く通過させるニトロセルロース、酢酸セルロー
スなどからなる透明なペリクル膜をアルミニウム、ステ
ンレス、ポリエチレンなどからなるペリクル枠の上部に
ペリクル膜の良溶媒を塗布し、風乾して接着する（特開
昭58-219023 号公報参照）か、アクリル樹脂やエポキシ
樹脂などの接着剤で接着する（米国特許第4861402 号明
細書、特公昭63-27707号公報参照）という方法がとられ
ている。
接付着せず、ペリクル上に付着するため、リソグラフィ
ー時に焦点を露光原版のパターン上に合わせておけば、
ペリクル上のゴミは転写に無関係となる。このペリクル
は光を良く通過させるニトロセルロース、酢酸セルロー
スなどからなる透明なペリクル膜をアルミニウム、ステ
ンレス、ポリエチレンなどからなるペリクル枠の上部に
ペリクル膜の良溶媒を塗布し、風乾して接着する（特開
昭58-219023 号公報参照）か、アクリル樹脂やエポキシ
樹脂などの接着剤で接着する（米国特許第4861402 号明
細書、特公昭63-27707号公報参照）という方法がとられ
ている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかして、このペリク
ル膜の製造は、これらの膜材料を溶剤を用いて３〜10％
の濃度に溶解したのち、スピンコーターやナイフコータ
ーを用いる溶液キャスティング法でシリコン基板やガラ
ス基板の上で成膜させるという方法で行なわれており、
このようにして作られたペリクル膜はこの基板上に成膜
された膜にペリクル枠フレームを接着してから、水中で
この基板と膜とを剥離するという方法でペリクルとされ
ている。この水中での膜剥離では、水の汚れは勿論のこ
と、基板裏面やフレームを抑える治具などの水と接触す
る材料から発生する異物が、水を媒体として膜およびフ
レーム全体を汚染してしまう危険性があった。
ル膜の製造は、これらの膜材料を溶剤を用いて３〜10％
の濃度に溶解したのち、スピンコーターやナイフコータ
ーを用いる溶液キャスティング法でシリコン基板やガラ
ス基板の上で成膜させるという方法で行なわれており、
このようにして作られたペリクル膜はこの基板上に成膜
された膜にペリクル枠フレームを接着してから、水中で
この基板と膜とを剥離するという方法でペリクルとされ
ている。この水中での膜剥離では、水の汚れは勿論のこ
と、基板裏面やフレームを抑える治具などの水と接触す
る材料から発生する異物が、水を媒体として膜およびフ
レーム全体を汚染してしまう危険性があった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような不利
を解決したペリクルの製造方法に関するもので、含フッ
素モノマーの重合体よりなるペリクル膜の基板からの剥
離工程を水蒸気雰囲気中で行なうことを特徴とするもの
である。
を解決したペリクルの製造方法に関するもので、含フッ
素モノマーの重合体よりなるペリクル膜の基板からの剥
離工程を水蒸気雰囲気中で行なうことを特徴とするもの
である。
【０００６】
【発明の実施の態様】すなわち、本発明者らは、基体上
に成膜したペリクル膜の基体からの剥離方法について種
々検討した結果、含フッ素モノマーの重合体よりなるペ
リクル膜の基板からの剥離工程を、従来のような水中と
することなく、これを水蒸気中で行なえば水中剥離のよ
うな汚染が少なくなり、目的とするペリクルを容易に、
かつ効率よく得ることができるということを見出し、そ
の処理条件などについての研究を進めて本発明を完成さ
せたものである。
に成膜したペリクル膜の基体からの剥離方法について種
々検討した結果、含フッ素モノマーの重合体よりなるペ
リクル膜の基板からの剥離工程を、従来のような水中と
することなく、これを水蒸気中で行なえば水中剥離のよ
うな汚染が少なくなり、目的とするペリクルを容易に、
かつ効率よく得ることができるということを見出し、そ
の処理条件などについての研究を進めて本発明を完成さ
せたものである。
【０００７】以下にこれをさらに詳述する。本発明はペ
リクル膜の製造方法に関するものであり、含フッ素モノ
マーの重合体よりなるペリクル膜の基板からの剥離工程
を水蒸気雰囲気中で行なうことを特徴とするものであ
る。これによればペリクル膜の基板からの剥離工程を水
中で行なっていた従来法に比べて汚染が少なくなる。
リクル膜の製造方法に関するものであり、含フッ素モノ
マーの重合体よりなるペリクル膜の基板からの剥離工程
を水蒸気雰囲気中で行なうことを特徴とするものであ
る。これによればペリクル膜の基板からの剥離工程を水
中で行なっていた従来法に比べて汚染が少なくなる。
【０００８】含フッ素モノマーの重合体としては、環状
パーフルオロエーテル基を有する含フッ素モノマーの重
合体であるサイトップＣＴＸＳタイプ［旭硝子（株）製
商品名］が好ましく利用できる。
パーフルオロエーテル基を有する含フッ素モノマーの重
合体であるサイトップＣＴＸＳタイプ［旭硝子（株）製
商品名］が好ましく利用できる。
【０００９】ペリクル膜形成材料を、常法により、溶剤
に溶解して濃度が３〜10％の溶液を作り、この溶液をス
ピンコーターやナイフコーターなどを用いる溶液キャス
ティング法でシリコン基板やガラス基板の上にペリクル
膜として成膜したのち、これにペリクル枠を接着し、つ
いでこのペリクル膜を基板から剥離してペリクル膜を作
成する。本発明ではこのペリクル膜の基板からの剥離が
水蒸気雰囲気中で行なわれる。
に溶解して濃度が３〜10％の溶液を作り、この溶液をス
ピンコーターやナイフコーターなどを用いる溶液キャス
ティング法でシリコン基板やガラス基板の上にペリクル
膜として成膜したのち、これにペリクル枠を接着し、つ
いでこのペリクル膜を基板から剥離してペリクル膜を作
成する。本発明ではこのペリクル膜の基板からの剥離が
水蒸気雰囲気中で行なわれる。
【００１０】このペリクル膜の基板からの剥離は、この
ペリクル膜がペリクル枠に接着されているので、剥離工
程室内において基板側を引張るだけで容易に基板からペ
リクル膜を剥離することができる。この水蒸気雰囲気中
には空気、窒素ガス、酸素ガス、その他の気体、あるい
はこれらの混合気体が混じっても特に問題はない。ま
た、この水蒸気の圧力および温度は特に限定する必要は
ないが、安定した水蒸気雰囲気の維持および作業のしや
すさということからは、圧力は大気圧下とし、温度は室
温〜 100℃とすることが好ましい。
ペリクル膜がペリクル枠に接着されているので、剥離工
程室内において基板側を引張るだけで容易に基板からペ
リクル膜を剥離することができる。この水蒸気雰囲気中
には空気、窒素ガス、酸素ガス、その他の気体、あるい
はこれらの混合気体が混じっても特に問題はない。ま
た、この水蒸気の圧力および温度は特に限定する必要は
ないが、安定した水蒸気雰囲気の維持および作業のしや
すさということからは、圧力は大気圧下とし、温度は室
温〜 100℃とすることが好ましい。
【００１１】なお、このペリクル膜は少なくとも水分子
を通すことができる大きさの隙間がその分子間、原子間
に存在することが好ましく、これによればこの隙間に水
分子が通るので水蒸気剥離でも水中剥離と同等の剥離性
が得られる。
を通すことができる大きさの隙間がその分子間、原子間
に存在することが好ましく、これによればこの隙間に水
分子が通るので水蒸気剥離でも水中剥離と同等の剥離性
が得られる。
【００１２】本発明によるペリクル膜の製造は、前記し
たように、ペリクル膜の基板からの剥離が水蒸気雰囲気
中で行なわれる。これによれば、水中剥離したときに、
基板の裏面やペリクル枠を抑える治具などから発生した
異物が、水を媒介としてペリクル膜およびペリクル枠な
どを汚染するという従来の欠点が殆んどなくなるので、
ペリクルを清浄な状態で得ることができる。
たように、ペリクル膜の基板からの剥離が水蒸気雰囲気
中で行なわれる。これによれば、水中剥離したときに、
基板の裏面やペリクル枠を抑える治具などから発生した
異物が、水を媒介としてペリクル膜およびペリクル枠な
どを汚染するという従来の欠点が殆んどなくなるので、
ペリクルを清浄な状態で得ることができる。
【００１３】
【実施例】つぎに本発明の実施例、比較例をあげる。 実施例１〜３、比較例１〜２ 含フッ素モノマーの重合体・サイトップＣＴＸＳタイプ
［旭硝子（株）製商品名］をその溶剤・ＣＴsolv 180
［旭硝子（株）製商品名］に溶解して濃度 6.0％の溶液
を調製した。
［旭硝子（株）製商品名］をその溶剤・ＣＴsolv 180
［旭硝子（株）製商品名］に溶解して濃度 6.0％の溶液
を調製した。
【００１４】ついでこの溶液を直径 200mm、厚さ３mmの
表面研磨した石英基板面に、スピンコーターを用いて膜
厚0.84μｍの透明膜として形成させ、180 ℃で15分間乾
燥してペリクル膜を成膜させた。他方、アルマイト処理
した 120mm角のアルミニウム製のペリクル枠フレームの
上面にフッ素含有ジオルガノポリシロキサン組成物を塗
布し、このフッ素含有ジオルガノポリシロキサン組成物
の塗布面に上記で得た石英基板上に成膜されているペリ
クル膜を接着させた。
表面研磨した石英基板面に、スピンコーターを用いて膜
厚0.84μｍの透明膜として形成させ、180 ℃で15分間乾
燥してペリクル膜を成膜させた。他方、アルマイト処理
した 120mm角のアルミニウム製のペリクル枠フレームの
上面にフッ素含有ジオルガノポリシロキサン組成物を塗
布し、このフッ素含有ジオルガノポリシロキサン組成物
の塗布面に上記で得た石英基板上に成膜されているペリ
クル膜を接着させた。
【００１５】つぎに、このペリクル枠を接着した石英基
板上のペリクル膜を、縦、横、高さが50cmのガラス製の
容器内に入れ、容器の底部から圧力 1.2kg/cm2の水蒸気
を 100リットル／分の速度で容器中に導入し、これを容
器の上部から排出し、この雰囲気中において、基板の表
面温度を３段階に変化させて、ペリクル膜を石英基板か
ら剥離したところ、表１に示したとおりの結果が得られ
た。なお、比較のために、基板の表面温度を２段階と
し、水蒸気を導入しないほかは実施例と同様に処理した
ところ、表１に併記したとおりの結果が得られた。
板上のペリクル膜を、縦、横、高さが50cmのガラス製の
容器内に入れ、容器の底部から圧力 1.2kg/cm2の水蒸気
を 100リットル／分の速度で容器中に導入し、これを容
器の上部から排出し、この雰囲気中において、基板の表
面温度を３段階に変化させて、ペリクル膜を石英基板か
ら剥離したところ、表１に示したとおりの結果が得られ
た。なお、比較のために、基板の表面温度を２段階と
し、水蒸気を導入しないほかは実施例と同様に処理した
ところ、表１に併記したとおりの結果が得られた。
【００１６】
【表１】
【００１７】
【発明の効果】本発明によれば、従来公知の水中剥離し
たときに起こる水を媒介とした汚染が防止されるので、
目的とするペリクルを清浄な状態で取得できる。
たときに起こる水を媒介とした汚染が防止されるので、
目的とするペリクルを清浄な状態で取得できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 白崎 享 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越 化学工業株式会社 精密機能材料研究所 内 (72)発明者 樫田 周 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越 化学工業株式会社 精密機能材料研究所 内 (72)発明者 久保田 芳宏 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越 化学工業株式会社 精密機能材料研究所 内 (56)参考文献 特開 昭62−39859（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−278058（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−67262（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−39963（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−67410（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G03F 1/14
Claims (1)
- 【請求項１】含フッ素モノマーの重合体よりなるペリク
ル膜の基板からの剥離工程を水蒸気雰囲気中で行なうこ
とを特徴とするペリクルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35204592A JP2938696B2 (ja) | 1992-12-09 | 1992-12-09 | ペリクルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35204592A JP2938696B2 (ja) | 1992-12-09 | 1992-12-09 | ペリクルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06175358A JPH06175358A (ja) | 1994-06-24 |
| JP2938696B2 true JP2938696B2 (ja) | 1999-08-23 |
Family
ID=18421406
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35204592A Expired - Lifetime JP2938696B2 (ja) | 1992-12-09 | 1992-12-09 | ペリクルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2938696B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04119360A (ja) * | 1990-09-11 | 1992-04-20 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体 |
| JP3803365B2 (ja) * | 2003-11-17 | 2006-08-02 | 松下電器産業株式会社 | 結晶膜の製造方法、結晶膜付き基体の製造方法、および熱電変換素子の製造方法 |
| KR102293215B1 (ko) | 2017-03-27 | 2021-08-24 | 삼성전자주식회사 | 펠리클의 제조 방법 및 펠리클 조립 장치 |
-
1992
- 1992-12-09 JP JP35204592A patent/JP2938696B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06175358A (ja) | 1994-06-24 |
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