JP3429897B2 - ペリクルの製造方法 - Google Patents

ペリクルの製造方法

Info

Publication number
JP3429897B2
JP3429897B2 JP10353695A JP10353695A JP3429897B2 JP 3429897 B2 JP3429897 B2 JP 3429897B2 JP 10353695 A JP10353695 A JP 10353695A JP 10353695 A JP10353695 A JP 10353695A JP 3429897 B2 JP3429897 B2 JP 3429897B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pellicle
film
frame
pellicle film
adhesive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP10353695A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0869103A (ja
Inventor
裕一 浜田
聡 川上
享 白崎
愛彦 永田
周 樫田
芳宏 久保田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP10353695A priority Critical patent/JP3429897B2/ja
Publication of JPH0869103A publication Critical patent/JPH0869103A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3429897B2 publication Critical patent/JP3429897B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はLSI、超LSIなどの
半導体装置あるいは液晶表示板を製造する際のゴミよけ
として使用される、実質的に500nm以下の光を用い
る露光方式における帯電防止されたペリクルの製造方法
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】LSI、超LSIなどの半導体装置ある
いは液晶表示板などの製造においては、半導体ウェハー
あるいは液晶表示板に光を照射してパターンを作成する
のであるが、この場合に用いる露光原版にゴミが付着し
ていると、このゴミが光を吸収したり、光を曲げてしま
うため、転写したパターンが変形したり、エッジががさ
ついたものとなるほか、白地が黒く汚れたりして、寸
法、品質、外観などが損なわれ、半導体装置や液晶表示
板などの性能や製造歩留りの低下を来たすという問題が
あった。このため、これらの作業は通常クリーンルーム
で行われているが、このクリーンルーム内でも露光原版
を常に清浄に保つことが難しいので、これには露光原版
の表面にゴミよけのための露光用の光をよく通過させる
ペリクルを貼着する方式が行なわれている。
【0003】この場合、ゴミは露光原版の表面上には直
接付着せず、ペリクル上に付着するため、リソグラフィ
ー時に焦点を露光原版のパターン上に合わせておけば、
ペリクル上のゴミは転写に無関係となるのであるが、こ
のペリクル膜は紫外線を良く通過させるニトロセルロー
ス、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースなどのセ
ルロース系ポリマーや非晶質フッ素系ポリマーなどの薄
膜と、アルミニウム、ステンレス、プラスチックスなど
の材質からなるペリクルフレームとを、ペリクル枠の上
部にペリクル膜の良溶媒を塗布し、風乾して接着する
(特開昭58−219023号公報参照)か、アクリル
樹脂やエポキシ樹脂などの接着剤で接着したもの(米国
特許第4861402号、特公昭63−27707号公
報参照)であるが、ペリクルフレームの下部には露光原
版にペリクルを固定するために、ポリブテン樹脂、ポリ
酢酸ビニル、アクリル樹脂などからなる粘着層を設け、
さらにこの粘着層の表面に粘着層の保護を目的としたセ
パレーターを貼り合わせたものも公知とされている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このペリクル
を使用するときに、直接露光光源(g線、i線などの紫
外線、またはエキシマレーザ光など)が照射されるのは
ペリクル膜であるが、ペリクルフレームに膜を固着させ
る接着剤にも露光光源の一部が照射される恐れがあるた
めに、この接着剤には耐光性が必要とされるし、この接
着剤は数ミクロンのペリクル膜を常に張った状態で接着
さておくことが必要とされるために、ペリクルの性能上
重要な材料とされている。しかるに、従来ここに使用さ
れているアクリル系接着剤やエポキシ系接着剤では接着
強度が不十分であったり、接着面積が一定しないため
に、シワが発生するなどの信頼性に欠けるものとなって
おり、これらの接着剤は露光光源による劣化が激しく、
ある程度使用すると接着剤が固化、分解してこれがゴミ
の発生源となり、さらにペリクル膜の張力変化で膜にシ
ワが発生し易くなり、膜がフレームから剥離したり、亀
裂を起こすという欠点がある。
【0005】そのため、本発明者らはフッ素系有機物か
らなるペリクル膜をフッ素系有機物からなる接着剤でペ
リクルフレームに接着して、これらの不備を補う方法を
提案しており(特開平 6-67409号公報参照)、これはペ
リクル膜材料と接着剤とを同一または類似の構造をもつ
ものとし、これをガラス転移温度付近またはそれ以上に
加熱すると、ペリクル膜がこの接着剤によってペリクル
フレームに強固に接着するということを見出したことに
基づくものであるが、この場合この接着をポリマーのガ
ラス転移温度以上に加熱すると、ペリクル膜にシワや歪
みなどが発生し易く、これを防止するためにこの加熱温
度をガラス転移温度以下とすると接着強度が不十分にな
るという不利のあることが判った。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような不利
を解決したペリクルの製造方法に関するもので、これは
ペリクルフレーム上にペリクル膜と同等または類似の構
造をもつ接着剤を塗布して接着剤層を形成させたのち、
ペリクル膜形成時にペリクル膜形成ポリマーを溶解した
溶剤を残留溶媒として含有しているペリクル膜を密着さ
せ、該ポリマーのガラス転移温度以下の加熱でペリクル
膜とペリクルフレームとを密着させることを特徴とする
ものである。
【0007】すなわち、本発明者らはペリクル膜をシワ
や歪みのない外観のよいものとして取得する方法につい
て種々検討した結果、これについてはペリクル膜とペリ
クルフレームとの接着をペリクル膜と同等またはこれと
類似の構造をもつ接着剤で接着させるとペリクル膜とペ
リクルフレームとは強固に接着させることができるが、
これを十分な接着強度を有するものとするためには、こ
れをペリクル膜形成ポリマーのガラス転移温度以上に加
熱することが必要である。この場合にはペリクル膜にシ
ワや歪みが発生し、外観の見苦しいものになるが、この
ペリクル膜をこの製造時に使用した溶媒を残留溶媒とし
て含有するものとすると、このペリクル膜とペリクルフ
レームとの接着をペリクル膜形成ポリマーのガラス転移
温度以下の加熱でも十分強度の大きいものとして接着で
きることを見出し、したがって、これによればペリクル
膜とペリクルフレームとが大きい強度で接着しており、
シワや歪みのないペリクルを容易に得ることができるこ
とを確認して本発明を完成させた。以下にこれをさらに
詳述する。
【0008】
【作用】本発明のペリクルの製造方法は上記したように
ペリクルフレーム上にペリクル膜と同等または類似の構
造をもつ接着剤を塗布してここに接着剤層を形成させた
のち、ペリクル膜形成時にこのペリクル膜形成ポリマー
を溶解した溶剤を残留溶媒として含有しているペリクル
膜を密着させ、これらをペリクル膜形成ポリマーのガラ
ス転移温度以下の温度に加熱してペリクル膜とペリクル
フレームとを接着させてなるものであるが、これによれ
ばこの加熱温度がこのポリマーのガラス転移温度以下で
あってもペリクル膜が残留溶媒を含有しているのでペリ
クル膜とペリクルフレームとを強固に接着させることが
でき、この温度がこのポリマーのガラス転移温度以下で
あるのでペリクルをシワや歪みのないものとして得るこ
とができるという有利性が与えられる。
【0009】本発明のペリクルを構成するペリクル膜は
従来公知のものとすればよく、したがってこれにはニト
ロセルロース、酢酸セルロースなどのセルロース物質、
本発明者らがさきに提案しているポリトリメチルビニル
シラン(特開平2-230245号公報参照)、プルラン化合物
(特開平3-210561号公報参照)、非晶性フッ素系重合体
(特開平4-104155号公報参照)、シリコーン変性ポリビ
ニルアルコール(特開平4-241351号公報参照)などとす
ればよいが、これには非晶性フッ素重合体からなるもの
とすることが望ましい。この非晶性フッ素重合体はテト
ラフルオロエチレンと環状パーフルオロエーテル基を有
する含フッ素モノマーとを共重合して得られるものとす
ればよいが、これは市販されているテフロンAF(米国
デュポン社製商品名)、サイトップ[旭硝子(株)製商
品名]とすればよい。
【0010】このペリクル膜はこれらの膜材料を溶剤を
用いて3〜10重量%の濃度に溶解したのち、この溶液を
スピンコーターやナイフコーターを用いる溶液キャスタ
ー法でシリコン基板やガラス基板の上に成膜することに
よって得ることをができるが、この膜の厚さは機械的強
度と透過率とのかね合いから 0.1〜10μm、好ましくは
0.5〜5μmとすればよい。しかし、本発明のペリクル
膜は前記したようにこの溶剤を残留溶剤として含有する
ことが必要であることから、このものはペリクル膜を作
成するときの加熱処理条件をコントロールしてこの溶剤
を残留させる。
【0011】この溶剤の残留方法はどのような方法で行
なってもよいが、これにはこの溶剤を沸点の異なる混合
溶剤とすれば、この混合比と加熱処理濃度とのコントロ
ールで残留溶剤量を任意にコントロールすることができ
る。この残存溶剤量の測定は重量変化によって求めるこ
とができ、具体的には膜を秤量瓶にとって重量を測定
し、この試料を瓶のまま適切な条件、例えば 200℃、4
Torrで1時間処理して乾燥後、再び重量を測定してその
差から溶媒分を求めればよい。しかし、この膜剥離時の
残存溶媒量はこれが70重量%を超えると膜が伸びてしま
ったり、破れてしまい、逆にこれが1重量%未満ではガ
ラス転移温度以下の加熱処理では十分な接着強度が得ら
れなくなるので、これは1〜70重量%の範囲とすること
が必要であり、この好ましい範囲は10〜60重量%とされ
る。
【0012】このようにして得られた残留溶媒を含有す
るペリクル膜はペリクルフレームと接着させられるので
あるが、このペリクルフレームは公知のものとすればよ
く、したがってこれはアルミニウム、ステンレス、ポリ
エチレン、ポリプロピレンなどのプラスチックで作られ
たものとすればよいが、これは一般にはアルマイト処理
をした 120mm角のアルミニウム製のものとすればよい。
なお、ここに使用される接着剤は本発明者らがさきに提
案しているペリクル膜と同等または類似の構造をもつポ
リマーからなるものとすればよいが、このペリクル膜が
非晶質のフッ素系ポリマーからなるものである場合には
溶媒は市販されている有機フッ素化合物からなるフロリ
ナートFC−75[住友スリーエム(株)製商品名]、 C
T solv 180〜 210[旭硝子(株)製商品名]とすればよ
い。
【0013】本発明のペリクルの製造方法は上記した方
法で作られた残留溶媒を含有するペリクル膜を、ペリク
ル膜と同等または類似の構造をもつポリマーを接着剤と
して塗布して接着剤層を形成させたペリクルフレームの
接着剤層と密着させ、これを加熱してペリクル膜とペリ
クルフレームとを接着させたものであるが、この場合に
はペリクル膜が残留溶剤を含有しているのでこの加熱を
ペリクル膜形成ポリマーのガラス転移温度以下としても
ペリクル膜とペリクルフレームを強い強度で接着するこ
とができ、したがってこのペリクル膜をシワや歪みのな
いものとすることができるという有利性が与えられる。
【0014】
【実施例】つぎに本発明の実施例、比較例をあげるが、
ペリクル膜とペリクルフレームとの接着強度はつぎの方
法による測定結果を示したものである。 (接着強度の測定)ノズル直径が1mmで、エアー圧力が
6kg/cm2であるエアーブローを、ペリクルフレームから
5mm、膜から10mm離れた位置に設置してこのエアーブロ
ーから6kg/cm2の圧力でエアーを吹きつけ、このときに
フレームから膜が離れず、膜自身が破れたときに良品と
見做されるので、これを膜強度以上とした。
【0015】実施例1 パーフルオロ(ブテニルビニルエーテル)重合体・サイ
トップCTXSタイプ、ガラス転移温度 108℃、[旭硝
子(株)製商品名]をその溶媒 CT solv 180[旭硝子
(株)製商品名]および CT solv 210[旭硝子(株)製
商品名]の5:1(重量比、以下同じ)の混合溶媒に溶
解し、濃度3%(濃度は重量%を示す、以下同じ)の溶
液を調製した。ついでこの溶液を直径 200mm、厚さ3mm
の表面研磨した石英基板面に、スピンコーターを用いて
膜厚が0.84μmの透明膜を形成させ、 180℃で3分間乾
燥してペリクル膜を形成したが、この膜の残存溶媒分
は、測定の結果25重量%であった。
【0016】他方、ペリクル枠としてのアルマイト処理
をした 120mm角のアルミニウムフレームの上面に、上記
のサイトップCTXAタイプ(前出)を溶媒 CT solv 1
80(前出)に溶解した10%濃度のフッ素ポリマー接着剤
を塗布し、 150℃で1時間乾燥し厚みが 0.2mmの接着剤
層を形成した後、これに上記で得たペリクル膜をフレー
ムに密着させたのち、赤外ランプで25分間 100℃に加熱
してペリクル膜とペリクルフレームを接着させ、余分な
膜を除去してペリクルを作ったところ、このものは接着
強度が膜強度以上となったし、このペリクルはシワや歪
みのない外観の良好なものとなった。
【0017】実施例2 テトラフルオロエチレンとパーフルオロ(2,2−ジメ
チル−1,3−ジオキソール)の共重合体・テフロンA
F1600、ガラス転移温度 160℃、[米国デュポン社製商
品名]をその溶媒フロリナートFC−75[住友スリーエ
ム(株)製商品名]および溶媒フロリナートFC−70
[住友スリーエム(株)製商品名]の5:1の混合溶媒
に溶解し、濃度2%の溶液を調製した。ついでこの溶液
を直径 200mm、厚さ3mmの表面研磨した石英基板面に、
スピンコーターを用いて膜厚が0.84μmの透明膜を形成
させ、 180℃で3分間乾燥してペリクル膜を形成した
が、この膜の残存溶媒分は、測定の結果27重量%であっ
た。
【0018】他方、ペリクル枠としてのアルマイト処理
をした 120mm角のアルミニウムフレームの上面に、上記
のテフロンAF1600(前出)をその溶媒フロリナートF
C−75(前出)に溶解した濃度10%のフッ素ポリマー接
着剤を塗布し、 150℃で1時間乾燥して厚みが 0.2mmの
接着剤層を形成した後、これに上記で得たペリクル膜を
フレームに密着させたのち、赤外ランプで25分間 150℃
で加熱してペリクル膜とペリクルフレームを接着させ、
余分の膜を除去してペリクルを作ったところ、このもの
は接着強度が膜強度以上となったし、このペリクルはシ
ワや歪みのない外観の良好なものとなった。
【0019】比較例1 実施例1で使用した非晶質フッ素系ポリマーとしてのサ
イトップCTXSタイプ、ガラス転移温度 108℃(前
出)をその溶媒 CT solv 180(前出)に溶解して濃度3
%の溶液を調製し、この溶液を直径 200mm、厚さ3mmの
表面研磨した石英基板面に、スピンコーターを用いて膜
厚が0.84μmの透明膜を形成させ、 180℃で15分間乾燥
してペリクル膜を形成したところ、この膜の残存溶媒分
は乾燥時間が長かったことから、測定の結果 0.7重量%
と少ないものになった。
【0020】他方、ペリクル枠としてのアルマイト処理
した 120mm角のアルミニウムフレームの上面に、上記の
重合体、サイトップCTXAタイプ(前出)を溶媒 CT
solv180(前出)に溶解した10%濃度のフッ素ポリマー
接着剤を塗布し、 150℃で1時間乾燥して厚みが 0.2mm
の接着剤層を形成した後、これに上記で得たペリクル膜
をフレームに密着させたのち、赤外ランプで25分間 100
℃に加熱してペリクル膜とペリクルフレームを接着さ
せ、余分な膜を除去してペリクルを作ったところ、この
ものはシワや歪みのない外観の良好なものとなったけれ
ども、ペリクル膜の残留溶媒が 0.7重量%と少ないため
に接着強度が不足し、これはエアーブローでペリクル膜
が剥離してしまった。
【0021】比較例2 実施例1で使用した非晶質フッ素系ポリマーとしてのサ
イトップCTXSタイプ、ガラス転移温度 108℃(前
出)をその溶媒 CT solv 180(前出)に溶解し、濃度3
%の溶液を調製し、この溶液を直径 200mm、厚さ3mmの
表面研磨した石英基板面に、スピンコーターを用いて膜
厚が0.84μmの透明膜を形成させ、 180℃で15分間乾燥
してペリクル膜を形成したところ、この膜の残存溶媒分
は測定の結果 0.6重量%と少ないものであった。
【0022】他方、ペリクル枠としてのアルマイト処理
した 120mm角のアルミニウムフレームの上面に、上記の
重合体、サイトップCTXAタイプ(前出)を溶媒 CT
solv180(前出)に溶解した10%濃度のフッ素ポリマー
接着剤を塗布し、 150℃で1時間乾燥して厚みが 0.2mm
の接着剤層を形成した後、これに上記で得たペリクル膜
をフレームに密着させたのち、赤外ランプで25分間 120
℃に加熱してペリクル膜とペリクルフレームとを接着さ
せ、余分の膜を除去してペリクルを作ったところ、この
ものはフレーム沿いにツレがあり、外観の悪いものとな
った。
【0023】比較例3 実施例1で使用した非晶質フッ素系ポリマーとしてのサ
イトップCTXSタイプ、ガラス転移温度 108℃(前
出)をその溶媒 CT solv 180(前出)および溶媒CT sol
v 210(前出)の1:5の混合溶媒に溶解して濃度3%
の溶液を調製し、ついでこの溶液を直径 200mm、厚さ3
mmの表面研磨した石英基板面に、スピンコーターを用い
て膜厚が0.84μmの透明膜を形成させ、 160℃で5分間
乾燥してペリクル膜を形成したところ、この膜の残存溶
媒分は測定の結果82重量%であった。
【0024】他方、ペリクル枠としてのアルマイト処理
した 120mm角のアルミニウムフレームの上面に、上記の
重合体、サイトップCTXAタイプ(前出)を溶媒 CT
solv180(前出)に溶解した10%濃度のフッ素ポリマー
接着剤を塗布し、 150℃で1時間乾燥して厚みが 0.2mm
の接着剤層を形成した後、これに上記で得たペリクル膜
をフレームに密着させたのち、赤外ランプで25分間 105
℃に加熱してペリクル膜とペリクルフレームとを接着さ
せ、余分の膜を除去してペリクルを作ったところ、この
ものはペリクル膜にたるみがあり、外観不良のものとな
った。
【0025】
【発明の効果】本発明のペリクルの製造方法はペリクル
膜を残留溶媒を含有するものとし、これをペリクル膜と
同等または類似の構造をもつ溶媒を接着剤とした接着剤
層をもつペリクルフレームと密着させ、ペリクル膜形成
ポリマーのガラス転移温度以下に加熱してペリクル膜と
ペリクルフレームとを接着させたものであるが、これに
は接着強度が強く、シワや歪みの発生することがないペ
リクルを得ることができるという有利性が与えられる。
フロントページの続き (72)発明者 白崎 享 群馬県安中市磯部2丁目13番1号 信越 化学工業株式会社 精密機能材料研究所 内 (72)発明者 永田 愛彦 群馬県安中市磯部2丁目13番1号 信越 化学工業株式会社 精密機能材料研究所 内 (72)発明者 樫田 周 群馬県安中市磯部2丁目13番1号 信越 化学工業株式会社 精密機能材料研究所 内 (72)発明者 久保田 芳宏 群馬県安中市磯部2丁目13番1号 信越 化学工業株式会社 精密機能材料研究所 内 (56)参考文献 特開 平6−67409(JP,A) 特開 平4−369650(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03F 1/14

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】リクルフレーム上にペリクル膜と同等
    または類似の構造をもつ接着剤を塗布して接着剤層を形
    成させたのち、ペリクル膜形成時にペリクル膜形成ポリ
    マーを溶解した溶剤を残留溶媒として含有しているペリ
    クル膜を密着させ、該ポリマーのガラス転移温度以下の
    加熱でペリクル膜とペリクルフレームとを接着させるこ
    とを特徴とするペリクルの製造方法。
  2. 【請求項2】リクル膜中の残存溶媒量が、ペリクル
    膜に対して1〜70wt%である請求項1に記載したペ
    リクルの製造方法。
  3. 【請求項3】リクル膜および接着剤が、非晶質のフ
    ッ素系ポリマーである請求項1に記載したペリクルの製
    造方法。
JP10353695A 1994-06-24 1995-04-27 ペリクルの製造方法 Expired - Lifetime JP3429897B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10353695A JP3429897B2 (ja) 1994-06-24 1995-04-27 ペリクルの製造方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6-143286 1994-06-24
JP14328694 1994-06-24
JP10353695A JP3429897B2 (ja) 1994-06-24 1995-04-27 ペリクルの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0869103A JPH0869103A (ja) 1996-03-12
JP3429897B2 true JP3429897B2 (ja) 2003-07-28

Family

ID=26444180

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10353695A Expired - Lifetime JP3429897B2 (ja) 1994-06-24 1995-04-27 ペリクルの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3429897B2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5772817A (en) * 1997-02-10 1998-06-30 Micro Lithography, Inc. Optical pellicle mounting system
US5769984A (en) * 1997-02-10 1998-06-23 Micro Lithography, Inc. Optical pellicle adhesion system
JP5586387B2 (ja) * 2010-09-15 2014-09-10 旭化成イーマテリアルズ株式会社 ペリクル

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0869103A (ja) 1996-03-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3089153B2 (ja) リソグラフィー用ペリクル
JP3947571B2 (ja) ペリクル
KR101012001B1 (ko) 리소그래피용 펠리클의 제조방법
JP2938636B2 (ja) リソグラフィ−用ペリクル
JPH0667409A (ja) リソグラフィー用ペリクル
EP0622680B1 (en) Frame-supported dustproof pellicle for photolithographic photomask
JP3429897B2 (ja) ペリクルの製造方法
JP2790946B2 (ja) ペリクル膜の製造方法
JP3429898B2 (ja) ペリクルの製造方法
JP3265137B2 (ja) ペリクルおよびその接着方法
JP4185232B2 (ja) リソグラフィー用ペリクル
WO1998035270A1 (fr) Procede permettant de coller une pellicule de protection sur un article, articles ainsi obtenus, pellicule destinee a des rayons ultraviolets et emballage destine a ces pellicules
JP3279933B2 (ja) リソグラフィー用ペリクルの製造方法
JPH09319073A (ja) リソグラフィー用ペリクルの製造方法およびリソグラフィー用ペリクル
JP2938696B2 (ja) ペリクルの製造方法
JP3449180B2 (ja) ペリクル
JP2938692B2 (ja) ペリクルの製造方法
JPH08274059A (ja) 精密電子部品の異物除去用粘着テ―プ
JPH11167198A (ja) リソグラフィー用ペリクル
JPH04237055A (ja) ペリクル構造体
JP3206417B2 (ja) ペリクル
JPH08114912A (ja) ペリクル及びその製造方法
JP4319757B2 (ja) ペリクルの製造方法
JP2945238B2 (ja) リソグラフィー用ペリクル
JPH11167196A (ja) リソグラフィー用ペリクル

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120516

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130516

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140516

Year of fee payment: 11

EXPY Cancellation because of completion of term