JPH09319073A - リソグラフィー用ペリクルの製造方法およびリソグラフィー用ペリクル - Google Patents
リソグラフィー用ペリクルの製造方法およびリソグラフィー用ペリクルInfo
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- JPH09319073A JPH09319073A JP15484896A JP15484896A JPH09319073A JP H09319073 A JPH09319073 A JP H09319073A JP 15484896 A JP15484896 A JP 15484896A JP 15484896 A JP15484896 A JP 15484896A JP H09319073 A JPH09319073 A JP H09319073A
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 本発明は、リソグラフィーにおいて波長が５
００ｎｍ以下の短波長の露光光源を用いても、劣化し難
く耐久性に優れたリソグラフィー用ペリクルを、フッ素
系ポリマーからなるペリクル膜をフッ素系ポリマーから
なる接着剤を用いてペリクル枠に接着する際にペリクル
膜にシワが発生することなく、製造できる方法を開発す
る。 【解決手段】 フッ素系ポリマーからなるペリクル膜
を、フッ素系ポリマーからなる接着剤を用いて、ペリク
ル枠に接着することによるリソグラフィー用ペリクルの
製造方法において、ＹＡＧレーザーを照射することによ
りペリクル膜をペリクル枠に接着させる、ことを特徴と
するリソグラフィー用ペリクルの製造方法、およびこの
方法で製造されたリソグラフィー用ペリクル。
００ｎｍ以下の短波長の露光光源を用いても、劣化し難
く耐久性に優れたリソグラフィー用ペリクルを、フッ素
系ポリマーからなるペリクル膜をフッ素系ポリマーから
なる接着剤を用いてペリクル枠に接着する際にペリクル
膜にシワが発生することなく、製造できる方法を開発す
る。 【解決手段】 フッ素系ポリマーからなるペリクル膜
を、フッ素系ポリマーからなる接着剤を用いて、ペリク
ル枠に接着することによるリソグラフィー用ペリクルの
製造方法において、ＹＡＧレーザーを照射することによ
りペリクル膜をペリクル枠に接着させる、ことを特徴と
するリソグラフィー用ペリクルの製造方法、およびこの
方法で製造されたリソグラフィー用ペリクル。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はＬＳＩ、超ＬＳＩな
どの半導体用デバイスまたは液晶表示用デバイスの製造
においてリソグラフィーを行う際に、パターンが描かれ
た露光原版のゴミよけとして使用されるリソグラフィー
用ペリクルの製造方法およびその方法により製造された
リソグラフィー用ペリクルに関する。
どの半導体用デバイスまたは液晶表示用デバイスの製造
においてリソグラフィーを行う際に、パターンが描かれ
た露光原版のゴミよけとして使用されるリソグラフィー
用ペリクルの製造方法およびその方法により製造された
リソグラフィー用ペリクルに関する。
【０００２】
【従来の技術】ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体用デバイ
スまたは液晶表示用デバイスの製造において、シリコン
ウエーハなどの半導体ウエーハまたは液晶用原版上に、
露光原版（本明細書中ではフォトマスク、レチクル等を
総称した意味で用いる）に通した光を照射してパターン
を転写すること、すなわちリソグラフィーが行われるの
であるが、その際、露光原版にゴミが付着していると、
ゴミが光を吸収したり光を曲げてしまうため、半導体ウ
エーハや液晶用原版上に転写されるパターンが変形した
り、エッジががさついたものとなる他、白地が黒く汚れ
たりして、寸法、品質、外観などが損なわれ、その結
果、半導体用デバイスや液晶表示用デバイスの性能や製
造歩留りの低下をもたらす。
スまたは液晶表示用デバイスの製造において、シリコン
ウエーハなどの半導体ウエーハまたは液晶用原版上に、
露光原版（本明細書中ではフォトマスク、レチクル等を
総称した意味で用いる）に通した光を照射してパターン
を転写すること、すなわちリソグラフィーが行われるの
であるが、その際、露光原版にゴミが付着していると、
ゴミが光を吸収したり光を曲げてしまうため、半導体ウ
エーハや液晶用原版上に転写されるパターンが変形した
り、エッジががさついたものとなる他、白地が黒く汚れ
たりして、寸法、品質、外観などが損なわれ、その結
果、半導体用デバイスや液晶表示用デバイスの性能や製
造歩留りの低下をもたらす。
【０００３】そのため、通常、リソグラフィーは、クリ
ーンルーム内で行われるが、クリーンルーム内でも露光
原版を完全に清浄に保つことは困難である。そこで、図
１に示したように、露光原版３に、ペリクル膜１および
ペリクル枠２からなるペリクルを装着することが行われ
ている。このように、ペリクルを露光原版に装着する
と、ゴミは露光原版３上に直接付着せず、ペリクル膜１
上に付着するため、リソグラフィー時に焦点を露光原版
３の結像面４にあるパターンに合わせておけば、ペリク
ル膜１上のゴミは転写に無関係となる。
ーンルーム内で行われるが、クリーンルーム内でも露光
原版を完全に清浄に保つことは困難である。そこで、図
１に示したように、露光原版３に、ペリクル膜１および
ペリクル枠２からなるペリクルを装着することが行われ
ている。このように、ペリクルを露光原版に装着する
と、ゴミは露光原版３上に直接付着せず、ペリクル膜１
上に付着するため、リソグラフィー時に焦点を露光原版
３の結像面４にあるパターンに合わせておけば、ペリク
ル膜１上のゴミは転写に無関係となる。
【０００４】ペリクルは、光をよく通過させる材料、例
えばニトロセルロース、酢酸セルロース、変性ポリビニ
ルアルコール、フッ素系ポリマーなどからなる透明なペ
リクル膜と、アルミニウム合金、ステンレス、ポリエチ
レンなどからなるペリクル枠からなる。そして、図２に
示されているように、ペリクル枠２のフレームの部分に
ペリクル膜１が接着されている。ペリクル膜１とペリク
ル枠２との接着は、例えば、ペリクル枠の上部にペリク
ル膜の良溶媒を塗布し風乾する（特開昭５８−２１９０
２３号公報参照）か、または、アクリル樹脂やエポキシ
樹脂などの接着剤５を用いて（米国特許第４８６１４０
２号明細書、特公昭６３−２７７０７号公報参照）行わ
れる。ペリクル枠２の下部に露光原版を装着するので、
ペリクル枠２の下部は、ポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニ
ル樹脂、アクリル樹脂などからなる粘着層６、および、
粘着層６を保護するための離型層７で構成されている。
さらに、ペリクル枠２の内側には、塵埃の固定のため
に、内面粘着剤層８を設ける場合もある。
えばニトロセルロース、酢酸セルロース、変性ポリビニ
ルアルコール、フッ素系ポリマーなどからなる透明なペ
リクル膜と、アルミニウム合金、ステンレス、ポリエチ
レンなどからなるペリクル枠からなる。そして、図２に
示されているように、ペリクル枠２のフレームの部分に
ペリクル膜１が接着されている。ペリクル膜１とペリク
ル枠２との接着は、例えば、ペリクル枠の上部にペリク
ル膜の良溶媒を塗布し風乾する（特開昭５８−２１９０
２３号公報参照）か、または、アクリル樹脂やエポキシ
樹脂などの接着剤５を用いて（米国特許第４８６１４０
２号明細書、特公昭６３−２７７０７号公報参照）行わ
れる。ペリクル枠２の下部に露光原版を装着するので、
ペリクル枠２の下部は、ポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニ
ル樹脂、アクリル樹脂などからなる粘着層６、および、
粘着層６を保護するための離型層７で構成されている。
さらに、ペリクル枠２の内側には、塵埃の固定のため
に、内面粘着剤層８を設ける場合もある。
【０００５】ところで、このようなペリクルにおいて
は、リソグラフィー時に、ペリクル膜や、ペリクル膜を
ペリクル枠に接着するために使用される接着剤が直接露
光光源に曝される。近年の露光光源の短波長化に伴っ
て、ペリクル膜および接着剤の耐光性が特に重要となっ
た。フッ素系ポリマーからなるペリクル膜は耐光性に優
れていて５００ｎｍ以下の短波長領域で使用しても黄変
したりシワが発生することがない反面、接着性に乏しい
という欠点を持っているが、接着剤として、同系列のフ
ッ素系ポリマーからなる接着剤を用いると、フッ素系ポ
リマーからなるペリクル膜をペリクル枠に強く接着で
き、しかもフッ素系ポリマーからなる接着剤は耐光性に
優れていて、露光光源が５００ｎｍ以下の短波長のもの
であっても、実質的に劣化せず、耐久性に優れていて長
時間安定して使用することができるペリクルが得られる
（特開平４−２４５８２７号、特開平５−７５６７１
号、特開平７−１６８３４５号公報参照）。
は、リソグラフィー時に、ペリクル膜や、ペリクル膜を
ペリクル枠に接着するために使用される接着剤が直接露
光光源に曝される。近年の露光光源の短波長化に伴っ
て、ペリクル膜および接着剤の耐光性が特に重要となっ
た。フッ素系ポリマーからなるペリクル膜は耐光性に優
れていて５００ｎｍ以下の短波長領域で使用しても黄変
したりシワが発生することがない反面、接着性に乏しい
という欠点を持っているが、接着剤として、同系列のフ
ッ素系ポリマーからなる接着剤を用いると、フッ素系ポ
リマーからなるペリクル膜をペリクル枠に強く接着で
き、しかもフッ素系ポリマーからなる接着剤は耐光性に
優れていて、露光光源が５００ｎｍ以下の短波長のもの
であっても、実質的に劣化せず、耐久性に優れていて長
時間安定して使用することができるペリクルが得られる
（特開平４−２４５８２７号、特開平５−７５６７１
号、特開平７−１６８３４５号公報参照）。
【０００６】しかし、フッ素系ポリマーからなるペリク
ル膜を、フッ素系ポリマーからなる接着剤を用いてペリ
クル枠に接着するに際し、従来、接着剤をペリクル枠に
塗布した後、これにペリクル膜を貼り合わせ、フレーム
に高周波誘導電流を流すことによって加熱し、この熱に
よってペリクル膜とペリクル枠とを接着していたが、こ
のような高周波誘導電流による加熱によってペリクル膜
とペリクル枠とを接着すると、ペリクル膜は、ペリクル
枠との接着部分のみが加熱されるのではなく、接着部分
の周りの部分も加熱されてその部分がダメージを受け、
ペリクル膜がのびてシワが発生しやすいという問題があ
った。
ル膜を、フッ素系ポリマーからなる接着剤を用いてペリ
クル枠に接着するに際し、従来、接着剤をペリクル枠に
塗布した後、これにペリクル膜を貼り合わせ、フレーム
に高周波誘導電流を流すことによって加熱し、この熱に
よってペリクル膜とペリクル枠とを接着していたが、こ
のような高周波誘導電流による加熱によってペリクル膜
とペリクル枠とを接着すると、ペリクル膜は、ペリクル
枠との接着部分のみが加熱されるのではなく、接着部分
の周りの部分も加熱されてその部分がダメージを受け、
ペリクル膜がのびてシワが発生しやすいという問題があ
った。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は、リ
ソグラフィーにおいて波長が５００ｎｍ以下の短波長の
露光光源を用いても、劣化し難く耐久性に優れたリソグ
ラフィー用ペリクルを、フッ素系ポリマーからなるペリ
クル膜をフッ素系ポリマーからなる接着剤を用いてペリ
クル枠に接着する際にペリクル膜にシワが発生すること
なく、製造できる方法を開発することを課題とする。
ソグラフィーにおいて波長が５００ｎｍ以下の短波長の
露光光源を用いても、劣化し難く耐久性に優れたリソグ
ラフィー用ペリクルを、フッ素系ポリマーからなるペリ
クル膜をフッ素系ポリマーからなる接着剤を用いてペリ
クル枠に接着する際にペリクル膜にシワが発生すること
なく、製造できる方法を開発することを課題とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、この課題
に鑑みて種々検討を重ねた結果、フッ素系ポリマーから
なるペリクル膜を、フッ素系ポリマーからなる接着剤を
用いて、ペリクル枠に接着する際に、ペリクル膜の側か
ら、すなわち、ペリクル枠に接触している面の反対側の
面の外方から、ＹＡＧレーザーを照射すると、ペリクル
膜を、ペリクル枠との接着部分のみで加熱でき、その周
りの部分に熱のダメージを与えることを避けることがで
き、その結果ペリクル膜がのびてシワが発生することを
防止でき、しかも充分な接着強度が得られることを見い
だした。
に鑑みて種々検討を重ねた結果、フッ素系ポリマーから
なるペリクル膜を、フッ素系ポリマーからなる接着剤を
用いて、ペリクル枠に接着する際に、ペリクル膜の側か
ら、すなわち、ペリクル枠に接触している面の反対側の
面の外方から、ＹＡＧレーザーを照射すると、ペリクル
膜を、ペリクル枠との接着部分のみで加熱でき、その周
りの部分に熱のダメージを与えることを避けることがで
き、その結果ペリクル膜がのびてシワが発生することを
防止でき、しかも充分な接着強度が得られることを見い
だした。
【０００９】すなわち、本発明のうち、請求項１に記載
の発明は、フッ素系ポリマーからなるペリクル膜を、フ
ッ素系ポリマーからなる接着剤を用いて、ペリクル枠に
接着することによるリソグラフィー用ペリクルの製造方
法において、ＹＡＧレーザーを照射することによりペリ
クル膜をペリクル枠に接着させる、ことを特徴とするリ
ソグラフィー用ペリクルの製造方法であり、請求項２に
記載の発明は、 １）ペリクル膜を接着するペリクル枠の面に、フッ素系
ポリマーからなる接着剤を塗布し、２）接着剤を塗布し
たペリクル枠の面に、フッ素系ポリマーからなるペリク
ル膜を貼り合わせ、３）接着剤が塗布されている部分
に、ペリクル膜の側から、ＹＡＧレーザーを照射して、
ペリクル枠にペリクル膜を接着させる、ことを特徴とす
るリソグラフィー用ペリクルの製造方法である。
の発明は、フッ素系ポリマーからなるペリクル膜を、フ
ッ素系ポリマーからなる接着剤を用いて、ペリクル枠に
接着することによるリソグラフィー用ペリクルの製造方
法において、ＹＡＧレーザーを照射することによりペリ
クル膜をペリクル枠に接着させる、ことを特徴とするリ
ソグラフィー用ペリクルの製造方法であり、請求項２に
記載の発明は、 １）ペリクル膜を接着するペリクル枠の面に、フッ素系
ポリマーからなる接着剤を塗布し、２）接着剤を塗布し
たペリクル枠の面に、フッ素系ポリマーからなるペリク
ル膜を貼り合わせ、３）接着剤が塗布されている部分
に、ペリクル膜の側から、ＹＡＧレーザーを照射して、
ペリクル枠にペリクル膜を接着させる、ことを特徴とす
るリソグラフィー用ペリクルの製造方法である。
【００１０】このようにＹＡＧレーザーを用いると、ペ
リクル膜とペリクル枠との接着部分のみを正確に加熱す
ることができ、その周りの部分を加熱することを避ける
ことができるので、周りの部分が加熱されることにより
ダメージを受けることがなく、その結果ペリクル膜とペ
リクル枠とを接着させる際にペリクル膜にシワが発生す
ることを防止できる。
リクル膜とペリクル枠との接着部分のみを正確に加熱す
ることができ、その周りの部分を加熱することを避ける
ことができるので、周りの部分が加熱されることにより
ダメージを受けることがなく、その結果ペリクル膜とペ
リクル枠とを接着させる際にペリクル膜にシワが発生す
ることを防止できる。
【００１１】上記本発明において使用されるペリクル膜
および／または接着剤は、１０６４ｎｍ付近に吸収があ
るものであることが好ましい（請求項３）。１０６４ｎ
ｍ付近に吸収があるペリクル膜および接着剤は、ＹＡＧ
レーザーの照射により、より素早く加熱され、その結
果、ペリクル膜とペリクル枠との接着部分のみをより正
確に加熱できるからである。特に、接着剤のみが１０６
４ｎｍ付近に吸収があるものであることが好ましい。
および／または接着剤は、１０６４ｎｍ付近に吸収があ
るものであることが好ましい（請求項３）。１０６４ｎ
ｍ付近に吸収があるペリクル膜および接着剤は、ＹＡＧ
レーザーの照射により、より素早く加熱され、その結
果、ペリクル膜とペリクル枠との接着部分のみをより正
確に加熱できるからである。特に、接着剤のみが１０６
４ｎｍ付近に吸収があるものであることが好ましい。
【００１２】また、上記本発明において使用されるペリ
クル膜または接着剤の材料となるフッ素系ポリマーとし
ては、非晶質なフッ素系重合体、例えば、テトラフルオ
ロエチレンとフッ化ビニリデンとの共重合体、テトラフ
ルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンとフッ化ビ
ニリデンとの三元共重合体、テトラフルオロエチレンと
環状パーフルオロエーテル基を有する含フッ素モノマー
との共重合体が好ましい（請求項４）。これは、非晶質
なフッ素系重合体からなるペリクル膜および接着剤を用
いて製造されたペリクルは、リソグラフィーにおける露
光光源が長波長のものの場合でも短波長のものの場合で
も、良好に使用できるからであるし、特に、非晶質なフ
ッ素系重合体からなるペリクル膜および接着剤は、５０
０ｎｍ以下の波長の露光光源に対して耐光性が優れてい
て、このようなペリクル膜および接着剤から製造された
ペリクルは、５００ｎｍ以下の波長を用いるリソグラフ
ィーにおいて、実質的に劣化せず、耐久性に優れている
からである。従って、本発明においては、特に、ペリク
ル膜および接着剤のいずれもが、非晶質なフッ素系重合
体からなるものであることが好ましい。特に、相溶性の
観点から、ペリクル膜および接着剤が同一または類似の
非晶質なフッ素系重合体からなることが好ましい。
クル膜または接着剤の材料となるフッ素系ポリマーとし
ては、非晶質なフッ素系重合体、例えば、テトラフルオ
ロエチレンとフッ化ビニリデンとの共重合体、テトラフ
ルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンとフッ化ビ
ニリデンとの三元共重合体、テトラフルオロエチレンと
環状パーフルオロエーテル基を有する含フッ素モノマー
との共重合体が好ましい（請求項４）。これは、非晶質
なフッ素系重合体からなるペリクル膜および接着剤を用
いて製造されたペリクルは、リソグラフィーにおける露
光光源が長波長のものの場合でも短波長のものの場合で
も、良好に使用できるからであるし、特に、非晶質なフ
ッ素系重合体からなるペリクル膜および接着剤は、５０
０ｎｍ以下の波長の露光光源に対して耐光性が優れてい
て、このようなペリクル膜および接着剤から製造された
ペリクルは、５００ｎｍ以下の波長を用いるリソグラフ
ィーにおいて、実質的に劣化せず、耐久性に優れている
からである。従って、本発明においては、特に、ペリク
ル膜および接着剤のいずれもが、非晶質なフッ素系重合
体からなるものであることが好ましい。特に、相溶性の
観点から、ペリクル膜および接着剤が同一または類似の
非晶質なフッ素系重合体からなることが好ましい。
【００１３】さらに、上記本発明においては、接着剤の
ガラス転移温度が、ペリクル膜のガラス転移温度よりも
低いことが好ましい（請求項５）。この場合、ペリクル
膜をペリクル枠に接着するためにＹＡＧレーザーの照射
により加熱するに際し、接着剤をそのガラス転移温度以
上に加熱し、ペリクル膜をそのガラス転移温度以上に加
熱しないことができ、こうすることによって、ペリクル
膜にガラス転移を起こさずにペリクル膜をペリクル枠に
接着できるからである。ペリクル膜がガラス転移を起こ
すと、ペリクル膜のテンションが失われたり、膜厚が変
化したりして、ペリクル膜の光の透過率が低下する。接
着剤のガラス転移温度と、ペリクル膜のガラス転移温度
との差は、好ましくは５℃以上、特に２０℃以上であ
る。
ガラス転移温度が、ペリクル膜のガラス転移温度よりも
低いことが好ましい（請求項５）。この場合、ペリクル
膜をペリクル枠に接着するためにＹＡＧレーザーの照射
により加熱するに際し、接着剤をそのガラス転移温度以
上に加熱し、ペリクル膜をそのガラス転移温度以上に加
熱しないことができ、こうすることによって、ペリクル
膜にガラス転移を起こさずにペリクル膜をペリクル枠に
接着できるからである。ペリクル膜がガラス転移を起こ
すと、ペリクル膜のテンションが失われたり、膜厚が変
化したりして、ペリクル膜の光の透過率が低下する。接
着剤のガラス転移温度と、ペリクル膜のガラス転移温度
との差は、好ましくは５℃以上、特に２０℃以上であ
る。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。まず、フッ素系ポリマーからなるペリクル膜を、
上述したようなペリクル膜の材料を溶剤に溶解して３〜
１０％の濃度の溶液とした後、この溶液をスピンコータ
ーやナイフコーターを用いる溶液キャスター法でシリコ
ン基板やガラス基板の上に広げて膜厚が０．１〜１０μ
ｍ、好ましくは０．５〜５μｍの透明膜を形成し、乾燥
することによって作製する。ペリクル膜の光の透過率は
９５％以上、特に９８％以上であることが好ましく、ペ
リクル膜の面上に、ＭｇＦ2 やＣａＦ2のような反射防
止膜を設けて透過率を向上させることもできる。
する。まず、フッ素系ポリマーからなるペリクル膜を、
上述したようなペリクル膜の材料を溶剤に溶解して３〜
１０％の濃度の溶液とした後、この溶液をスピンコータ
ーやナイフコーターを用いる溶液キャスター法でシリコ
ン基板やガラス基板の上に広げて膜厚が０．１〜１０μ
ｍ、好ましくは０．５〜５μｍの透明膜を形成し、乾燥
することによって作製する。ペリクル膜の光の透過率は
９５％以上、特に９８％以上であることが好ましく、ペ
リクル膜の面上に、ＭｇＦ2 やＣａＦ2のような反射防
止膜を設けて透過率を向上させることもできる。
【００１５】次いで、ペリクル枠のフレームの上部に、
フッ素系ポリマーからなる接着剤を塗布する。非晶質な
フッ素系重合体を接着剤として用いる場合、非晶質なフ
ッ素系重合体をフッ素系溶剤に溶解したものを塗布する
のが好ましい。接着剤の塗布後、これを乾燥し、この上
に、ペリクル膜を貼り合わせる。次いで、ペリクル膜の
側からＹＡＧレーザーを接着剤を塗布した部分に照射し
て加熱してペリクル膜をペリクル枠のフレームの上部に
接着させる。その後、フレームの下部に、粘着層、離型
層、および場合により内面粘着剤層を取り付けて、ペリ
クルとする。なお、フレームに粘着層、離型層などを取
り付けた後に、ペリクル膜を接着してもよい。
フッ素系ポリマーからなる接着剤を塗布する。非晶質な
フッ素系重合体を接着剤として用いる場合、非晶質なフ
ッ素系重合体をフッ素系溶剤に溶解したものを塗布する
のが好ましい。接着剤の塗布後、これを乾燥し、この上
に、ペリクル膜を貼り合わせる。次いで、ペリクル膜の
側からＹＡＧレーザーを接着剤を塗布した部分に照射し
て加熱してペリクル膜をペリクル枠のフレームの上部に
接着させる。その後、フレームの下部に、粘着層、離型
層、および場合により内面粘着剤層を取り付けて、ペリ
クルとする。なお、フレームに粘着層、離型層などを取
り付けた後に、ペリクル膜を接着してもよい。
【００１６】
【実施例】以下、本発明を例を用いてより詳細に説明す
る。実施例１ ペリクル膜材料として、非晶質なフッ素系ポリマーであ
る、テトラフルオロエチレンと環状パーフルオロエーテ
ル基を有する含フッ素モノマーとの重合体，サイトップ
ＣＴＸＳタイプ，ガラス転移温度１０８℃［商品名、旭
硝子（株）製］を、溶媒ＣＴｓｏｌｖ１８０［商品名、
旭硝子（株）製］に溶解し、濃度５％の溶液を調製し
た。次いでこの溶液を、スピンコーターを用いて、直径
２００ｍｍ、厚さ３ｍｍの表面研磨した石英基板面上に
広げて膜厚が０．８４μｍの透明膜を形成させ、１８０
℃で１５分間乾燥してペリクル膜を得た。このペリクル
膜は１０６４ｎｍ付近に吸収があった。
る。実施例１ ペリクル膜材料として、非晶質なフッ素系ポリマーであ
る、テトラフルオロエチレンと環状パーフルオロエーテ
ル基を有する含フッ素モノマーとの重合体，サイトップ
ＣＴＸＳタイプ，ガラス転移温度１０８℃［商品名、旭
硝子（株）製］を、溶媒ＣＴｓｏｌｖ１８０［商品名、
旭硝子（株）製］に溶解し、濃度５％の溶液を調製し
た。次いでこの溶液を、スピンコーターを用いて、直径
２００ｍｍ、厚さ３ｍｍの表面研磨した石英基板面上に
広げて膜厚が０．８４μｍの透明膜を形成させ、１８０
℃で１５分間乾燥してペリクル膜を得た。このペリクル
膜は１０６４ｎｍ付近に吸収があった。
【００１７】他方、ペリクル枠の、アルマイト処理した
１２０ｍｍ角のアルミニウムフレームの上面に、テトラ
フルオロエチレンと環状パーフルオロエーテル基を有す
る含フッ素モノマーとの重合体，ＣＴ６９Ａタイプ，ガ
ラス転移温度６９℃［商品名、旭硝子（株）製］を、溶
媒ＣＴｓｏｌｖ１８０［商品名、旭硝子（株）製］に溶
解して調製した１０％濃度の非晶質なフッ素系ポリマー
接着剤を塗布し、１５０℃で１時間乾燥し、厚みが０．
２ｍｍの接着剤層を形成した。この接着剤層は、ペリク
ル膜と同様に、１０６４ｎｍ付近に吸収があった。
１２０ｍｍ角のアルミニウムフレームの上面に、テトラ
フルオロエチレンと環状パーフルオロエーテル基を有す
る含フッ素モノマーとの重合体，ＣＴ６９Ａタイプ，ガ
ラス転移温度６９℃［商品名、旭硝子（株）製］を、溶
媒ＣＴｓｏｌｖ１８０［商品名、旭硝子（株）製］に溶
解して調製した１０％濃度の非晶質なフッ素系ポリマー
接着剤を塗布し、１５０℃で１時間乾燥し、厚みが０．
２ｍｍの接着剤層を形成した。この接着剤層は、ペリク
ル膜と同様に、１０６４ｎｍ付近に吸収があった。
【００１８】次いで、接着剤層を介して、フレームにペ
リクル膜を貼り合わせ、図３に示すように、ペリクル膜
１の上にフレーム９をセットした状態で、フレーム９上
の接着剤層の部分に、ペリクル膜１の側から、すなわち
下側からＹＡＧレーザーを照射して、フレームにペリク
ル膜を接着した。ＹＡＧレーザーの照射は、ＸＹステー
ジ１０に備えつけられたＹＡＧレーザー鏡頭１１を操作
して、温度計１２で照射部分の温度を測定して９５℃に
制御しながら行った。照射エネルギーは、ビームスポッ
ト０．４ｍｍのものを２．０ｍｍまでアウトフォーカス
し、レーザー出力は３０〜４０Ｗ、加工スピードは２０
ｍｍ／ｓであった。
リクル膜を貼り合わせ、図３に示すように、ペリクル膜
１の上にフレーム９をセットした状態で、フレーム９上
の接着剤層の部分に、ペリクル膜１の側から、すなわち
下側からＹＡＧレーザーを照射して、フレームにペリク
ル膜を接着した。ＹＡＧレーザーの照射は、ＸＹステー
ジ１０に備えつけられたＹＡＧレーザー鏡頭１１を操作
して、温度計１２で照射部分の温度を測定して９５℃に
制御しながら行った。照射エネルギーは、ビームスポッ
ト０．４ｍｍのものを２．０ｍｍまでアウトフォーカス
し、レーザー出力は３０〜４０Ｗ、加工スピードは２０
ｍｍ／ｓであった。
【００１９】最後に、フレームの外にはみ出した余分な
ペリクル膜を除去した。その結果、ペリクル膜とフレー
ムとは、ペリクル膜にシワが発生することなく、接着さ
れていた。また、ペリクル膜に変色もなかった。さら
に、ペリクル膜とフレームの間の接着強度の目安とし
て、ペリクル膜の中央部を指でゆっくり押した。その結
果、ペリクル膜が破壊するまで押しても、ペリクル膜と
フレームの間で剥離が起こらず、ペリクル膜とフレーム
とは強固に接着していることが判明した。
ペリクル膜を除去した。その結果、ペリクル膜とフレー
ムとは、ペリクル膜にシワが発生することなく、接着さ
れていた。また、ペリクル膜に変色もなかった。さら
に、ペリクル膜とフレームの間の接着強度の目安とし
て、ペリクル膜の中央部を指でゆっくり押した。その結
果、ペリクル膜が破壊するまで押しても、ペリクル膜と
フレームの間で剥離が起こらず、ペリクル膜とフレーム
とは強固に接着していることが判明した。
【００２０】比較例１ ペリクル膜材料として、テトラフルオロエチレンと環状
パーフルオロエーテル基を有する含フッ素モノマーとの
重合体，サイトップＣＴＸＳタイプ，ガラス転移温度１
０８℃［商品名、旭硝子（株）製］を、溶媒ＣＴｓｏｌ
ｖ１８０［商品名、旭硝子（株）製］に溶解し、濃度５
％の溶液を調製した。次いでこの溶液を、スピンコータ
ーを用いて、直径２００ｍｍ、厚さ３ｍｍの表面研磨し
た石英基板面上に広げて、膜厚が０．８４μｍの透明膜
を形成させ、１８０℃で１５分間乾燥してペリクル膜を
得た。
パーフルオロエーテル基を有する含フッ素モノマーとの
重合体，サイトップＣＴＸＳタイプ，ガラス転移温度１
０８℃［商品名、旭硝子（株）製］を、溶媒ＣＴｓｏｌ
ｖ１８０［商品名、旭硝子（株）製］に溶解し、濃度５
％の溶液を調製した。次いでこの溶液を、スピンコータ
ーを用いて、直径２００ｍｍ、厚さ３ｍｍの表面研磨し
た石英基板面上に広げて、膜厚が０．８４μｍの透明膜
を形成させ、１８０℃で１５分間乾燥してペリクル膜を
得た。
【００２１】他方、ペリクル枠の、アルマイト処理した
１２０ｍｍ角のアルミニウムフレームの上面に、テトラ
フルオロエチレンと環状パーフルオロエーテル基を有す
る含フッ素モノマーとの重合体，ＣＴ６９Ａタイプ，ガ
ラス転移温度６９℃［商品名、旭硝子（株）製］を、溶
媒ＣＴｓｏｌｖ１８０［商品名、旭硝子（株）製］に溶
解して調製した１０％濃度の非晶質なフッ素系ポリマー
接着剤を塗布し、１５０℃で１時間乾燥し、厚みが０．
２ｍｍの接着剤層を形成した。
１２０ｍｍ角のアルミニウムフレームの上面に、テトラ
フルオロエチレンと環状パーフルオロエーテル基を有す
る含フッ素モノマーとの重合体，ＣＴ６９Ａタイプ，ガ
ラス転移温度６９℃［商品名、旭硝子（株）製］を、溶
媒ＣＴｓｏｌｖ１８０［商品名、旭硝子（株）製］に溶
解して調製した１０％濃度の非晶質なフッ素系ポリマー
接着剤を塗布し、１５０℃で１時間乾燥し、厚みが０．
２ｍｍの接着剤層を形成した。
【００２２】次いで、接着剤層を介して、フレームにペ
リクル膜を貼り合わせ、フレームをホットプレートで９
５℃に加熱してフレームにペリクル膜を接着した。最後
に、フレームの外にはみ出した余分なペリクル膜を除去
した。その結果、ペリクル膜にはシワが発生していた。
なお、ペリクル膜に変色はなかったが、ペリクル膜の中
央部を指でゆっくり押していったところ、ペリクル膜が
破壊する前にシワが発生した箇所で、ペリクル膜とフレ
ームの間で剥離が起こった。
リクル膜を貼り合わせ、フレームをホットプレートで９
５℃に加熱してフレームにペリクル膜を接着した。最後
に、フレームの外にはみ出した余分なペリクル膜を除去
した。その結果、ペリクル膜にはシワが発生していた。
なお、ペリクル膜に変色はなかったが、ペリクル膜の中
央部を指でゆっくり押していったところ、ペリクル膜が
破壊する前にシワが発生した箇所で、ペリクル膜とフレ
ームの間で剥離が起こった。
【００２３】なお、本発明は、上記実施の態様および実
施例に限定されるものではない。上記実施の態様および
実施例は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載さ
れた技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作
用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明
の技術的範囲に包含される。
施例に限定されるものではない。上記実施の態様および
実施例は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載さ
れた技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作
用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明
の技術的範囲に包含される。
【００２４】
【発明の効果】本発明によれば、リソグラフィーにおい
て波長が５００ｎｍ以下の短波長の露光光源を用いて
も、劣化し難く耐久性に優れたリソグラフィー用ペリク
ルを、ペリクル膜にシワが発生することなくまた変色も
なく、ペリクル枠とペリクル膜とが充分な接着強度で接
着された状態で、製造できる。
て波長が５００ｎｍ以下の短波長の露光光源を用いて
も、劣化し難く耐久性に優れたリソグラフィー用ペリク
ルを、ペリクル膜にシワが発生することなくまた変色も
なく、ペリクル枠とペリクル膜とが充分な接着強度で接
着された状態で、製造できる。
【図１】 ペリクルを露光原版に装着した状態を示す断
面図である。
面図である。
【図２】 露光原版に装着する前の状態のペリクルを示
す断面図である。
す断面図である。
【図３】 ＹＡＧレーザーを用いてペリクル枠にペリク
ル膜を接着するための装置の概略図である。
ル膜を接着するための装置の概略図である。
１…ペリクル膜、 ２…ペリクル枠、３
…露光原版、 ４…結像面、５…接着
剤、 ６…粘着層、７…離型層、
８…内面粘着剤層、９…フレーム、
１０…ＸＹステージ、１１…ＹＡＧレ
ーザー、 １２…温度計。
…露光原版、 ４…結像面、５…接着
剤、 ６…粘着層、７…離型層、
８…内面粘着剤層、９…フレーム、
１０…ＸＹステージ、１１…ＹＡＧレ
ーザー、 １２…温度計。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５０２Ｐ
Claims (6)
- 【請求項１】 フッ素系ポリマーからなるペリクル膜
を、フッ素系ポリマーからなる接着剤を用いて、ペリク
ル枠に接着することによるリソグラフィー用ペリクルの
製造方法において、ＹＡＧレーザーを照射することによ
りペリクル膜をペリクル枠に接着させる、ことを特徴と
するリソグラフィー用ペリクルの製造方法。 - 【請求項２】 １）ペリクル膜を接着するペリクル枠の
面に、フッ素系ポリマーからなる接着剤を塗布し、 ２）接着剤を塗布したペリクル枠の面に、フッ素系ポリ
マーからなるペリクル膜を貼り合わせ、 ３）接着剤が塗布されている部分に、ペリクル膜の側か
ら、ＹＡＧレーザーを照射して、ペリクル枠にペリクル
膜を接着させる、ことを特徴とするリソグラフィー用ペ
リクルの製造方法。 - 【請求項３】 ペリクル膜および／または接着剤が、１
０６４ｎｍ付近に吸収があるものである、ことを特徴と
する請求項１または請求項２に記載のリソグラフィー用
ペリクルの製造方法。 - 【請求項４】 ペリクル膜および／または接着剤が、非
晶質なフッ素系ポリマーからなる、ことを特徴とする請
求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載のリソグラ
フィー用ペリクルの製造方法。 - 【請求項５】 接着剤のガラス転移温度が、ペリクル膜
のガラス転移温度よりも低い、ことを特徴とする請求項
１ないし請求項４のいずれか１項に記載のリソグラフィ
ー用ペリクルの製造方法。 - 【請求項６】 請求項１ないし請求項５のいずれか１項
に記載のリソグラフィー用ペリクルの製造方法により製
造された、ことを特徴とするリソグラフィー用ペリク
ル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15484896A JPH09319073A (ja) | 1996-05-27 | 1996-05-27 | リソグラフィー用ペリクルの製造方法およびリソグラフィー用ペリクル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15484896A JPH09319073A (ja) | 1996-05-27 | 1996-05-27 | リソグラフィー用ペリクルの製造方法およびリソグラフィー用ペリクル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09319073A true JPH09319073A (ja) | 1997-12-12 |
Family
ID=15593229
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15484896A Pending JPH09319073A (ja) | 1996-05-27 | 1996-05-27 | リソグラフィー用ペリクルの製造方法およびリソグラフィー用ペリクル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09319073A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0858003A3 (en) * | 1997-02-10 | 1999-06-16 | Micro Lithography, Inc. | Optical pellicle mounting system |
| KR100730039B1 (ko) * | 2006-03-17 | 2007-06-20 | 김학성 | 펠리클 프레임의 제조방법 |
| WO2008044349A1 (en) * | 2006-10-05 | 2008-04-17 | Okayama Prefectural Government | Intermediate member for laser bonding and method of bonding using the same |
| KR100841515B1 (ko) * | 2000-12-27 | 2008-06-25 | 미쯔이가가꾸가부시끼가이샤 | 펠리클, 펠리클의 제조 방법 및 펠리클용 접착제 |
| WO2012004950A1 (ja) * | 2010-07-08 | 2012-01-12 | 三井化学株式会社 | ペリクル膜 |
-
1996
- 1996-05-27 JP JP15484896A patent/JPH09319073A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0858003A3 (en) * | 1997-02-10 | 1999-06-16 | Micro Lithography, Inc. | Optical pellicle mounting system |
| KR100841515B1 (ko) * | 2000-12-27 | 2008-06-25 | 미쯔이가가꾸가부시끼가이샤 | 펠리클, 펠리클의 제조 방법 및 펠리클용 접착제 |
| KR100730039B1 (ko) * | 2006-03-17 | 2007-06-20 | 김학성 | 펠리클 프레임의 제조방법 |
| WO2008044349A1 (en) * | 2006-10-05 | 2008-04-17 | Okayama Prefectural Government | Intermediate member for laser bonding and method of bonding using the same |
| JP4714948B2 (ja) * | 2006-10-05 | 2011-07-06 | 岡山県 | レーザー接合用中間部材及びそれを用いた接合方法 |
| WO2012004950A1 (ja) * | 2010-07-08 | 2012-01-12 | 三井化学株式会社 | ペリクル膜 |
| CN102959468A (zh) * | 2010-07-08 | 2013-03-06 | 三井化学株式会社 | 防护膜 |
| JPWO2012004950A1 (ja) * | 2010-07-08 | 2013-09-02 | 三井化学株式会社 | ペリクル膜 |
| US8815476B2 (en) | 2010-07-08 | 2014-08-26 | Mitsui Chemicals, Inc. | Pellicle membrane |
| JP5608234B2 (ja) * | 2010-07-08 | 2014-10-15 | 三井化学株式会社 | ペリクル膜 |
| CN102959468B (zh) * | 2010-07-08 | 2014-11-19 | 三井化学株式会社 | 防护膜 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040127 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040609 |