JPH0667409A - リソグラフィー用ペリクル - Google Patents
リソグラフィー用ペリクルInfo
- Publication number
- JPH0667409A JPH0667409A JP24582792A JP24582792A JPH0667409A JP H0667409 A JPH0667409 A JP H0667409A JP 24582792 A JP24582792 A JP 24582792A JP 24582792 A JP24582792 A JP 24582792A JP H0667409 A JPH0667409 A JP H0667409A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- fluorine
- adhesive
- film
- pellicle film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
- G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S156/00—Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
- Y10S156/918—Delaminating processes adapted for specified product, e.g. delaminating medical specimen slide
- Y10S156/919—Delaminating in preparation for post processing recycling step
- Y10S156/922—Specified electronic component delaminating in preparation for recycling
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T156/00—Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
- Y10T156/11—Methods of delaminating, per se; i.e., separating at bonding face
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/3154—Of fluorinated addition polymer from unsaturated monomers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/3154—Of fluorinated addition polymer from unsaturated monomers
- Y10T428/31544—Addition polymer is perhalogenated
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 本発明はＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装
置、液晶表示板製造時のゴミよけ用に 500nm以下の露光
方式で使用される、接着強度が大きく、光劣化しないリ
ソグラフィー用ペリクルの提供を目的とするものであ
る。 【構成】 本発明のリソグラフィー用ペリクルは、フ
ッ素系有機物からなるペリクル膜をフッ素系有機物から
なる接着剤でペリクル枠に接着してなることを特徴とす
るものである。
置、液晶表示板製造時のゴミよけ用に 500nm以下の露光
方式で使用される、接着強度が大きく、光劣化しないリ
ソグラフィー用ペリクルの提供を目的とするものであ
る。 【構成】 本発明のリソグラフィー用ペリクルは、フ
ッ素系有機物からなるペリクル膜をフッ素系有機物から
なる接着剤でペリクル枠に接着してなることを特徴とす
るものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はリソグラフィー用ペリク
ル、特にはＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置あるいは
液晶表示板を製造する際のゴミよけとして使用される、
実質的に 500nm以下の光を用いる露光方式における帯電
防止されたリソグラフィー用ペリクルに関するものであ
る。
ル、特にはＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置あるいは
液晶表示板を製造する際のゴミよけとして使用される、
実質的に 500nm以下の光を用いる露光方式における帯電
防止されたリソグラフィー用ペリクルに関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置ある
いは液晶表示板などの製造においては、半導体ウェハー
あるいは液晶用原版に光を反射してパターニングを作成
するのであるが、この場合に用いる露光原版にゴミが付
着していると、このゴミが光を吸収したり、光を曲げて
しまうため、転写したパターニングが変形したり、エッ
ジががさついたものとなるほか、白地が黒く汚れたりし
て、寸法、品質、外観などが損なわれ、半導体装置や液
晶表示板などの性能や製造歩留りの低下を来すという問
題があった。このため、これらの作業は通常クリーンル
ームで行われているが、このクリーンルーム内でも露光
原版を常に清浄に保つことが難しいので、露光原版の表
面にゴミよけのための露光用の光をよく通過させるペリ
クルを貼着する方法が行なわれている。
いは液晶表示板などの製造においては、半導体ウェハー
あるいは液晶用原版に光を反射してパターニングを作成
するのであるが、この場合に用いる露光原版にゴミが付
着していると、このゴミが光を吸収したり、光を曲げて
しまうため、転写したパターニングが変形したり、エッ
ジががさついたものとなるほか、白地が黒く汚れたりし
て、寸法、品質、外観などが損なわれ、半導体装置や液
晶表示板などの性能や製造歩留りの低下を来すという問
題があった。このため、これらの作業は通常クリーンル
ームで行われているが、このクリーンルーム内でも露光
原版を常に清浄に保つことが難しいので、露光原版の表
面にゴミよけのための露光用の光をよく通過させるペリ
クルを貼着する方法が行なわれている。
【０００３】この場合、ゴミは露光原版の表面上には直
接付着せず、ペリクル上に付着するため、リソグラフィ
ー時に焦点を露光原版のパターン上に合わせておけば、
ペリクル上のゴミは転写に無関係となるのであるが、こ
のペリクル膜は光を良く通過させるニトロセルロース、
酢酸セルロースなどからなる透明な膜をアルミニウム、
ステンレス、ポリエチレンなどからなるペリクル枠の上
部にペリクル膜の良溶媒を塗布し、風乾して接着する
（特開昭58-219023 号公報参照）か、アクリル樹脂やエ
ポキシ樹脂などの接着剤で接着し（米国特許第4・861・40
2 号明細書、特公昭63-27、707 号公報参照）、ペリクル
枠の下部には露光原版が装着されるために、ポリブテン
樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂などからなる
粘着層、および粘着層の保護を目的とした離型層（セパ
レーター）で構成されている。
接付着せず、ペリクル上に付着するため、リソグラフィ
ー時に焦点を露光原版のパターン上に合わせておけば、
ペリクル上のゴミは転写に無関係となるのであるが、こ
のペリクル膜は光を良く通過させるニトロセルロース、
酢酸セルロースなどからなる透明な膜をアルミニウム、
ステンレス、ポリエチレンなどからなるペリクル枠の上
部にペリクル膜の良溶媒を塗布し、風乾して接着する
（特開昭58-219023 号公報参照）か、アクリル樹脂やエ
ポキシ樹脂などの接着剤で接着し（米国特許第4・861・40
2 号明細書、特公昭63-27、707 号公報参照）、ペリクル
枠の下部には露光原版が装着されるために、ポリブテン
樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂などからなる
粘着層、および粘着層の保護を目的とした離型層（セパ
レーター）で構成されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この、ペリクル構成物
の中では、ペリクル膜およびペリクル枠に膜を固着させ
る接着剤がリソグラフィー時に直接露光光源に曝される
ために、耐久性が特に重要であり、この接着剤は数ミク
ロンの超薄膜を枠に常時張った状態で接着させておくこ
とが必要であるため、ペリクルの性能上重要な材料であ
る。しかし、従来使用されているアクリル系接着剤やエ
ポキシ系接着剤では接着強度が不充分であったり、接着
面積が一定しないために、シワも発生するなどの信頼性
に欠けるものであり、さらにこれらの接着剤は露光光源
による光劣化が激しく、ある程度使用すると接着剤が固
化、分解してこれがゴミ発生源となり、さらにペリクル
膜の張力変化で膜が剥離したり、亀裂を起すという欠点
がある。また、ペリクル膜の材質として非晶質のフッ素
化ポリマーを用いた場合、フッ素ポリマーは離型性にす
ぐれているためにアクリル系接着剤やエポキシ系接着剤
では実用的な接着力を得ることが不可能である。
の中では、ペリクル膜およびペリクル枠に膜を固着させ
る接着剤がリソグラフィー時に直接露光光源に曝される
ために、耐久性が特に重要であり、この接着剤は数ミク
ロンの超薄膜を枠に常時張った状態で接着させておくこ
とが必要であるため、ペリクルの性能上重要な材料であ
る。しかし、従来使用されているアクリル系接着剤やエ
ポキシ系接着剤では接着強度が不充分であったり、接着
面積が一定しないために、シワも発生するなどの信頼性
に欠けるものであり、さらにこれらの接着剤は露光光源
による光劣化が激しく、ある程度使用すると接着剤が固
化、分解してこれがゴミ発生源となり、さらにペリクル
膜の張力変化で膜が剥離したり、亀裂を起すという欠点
がある。また、ペリクル膜の材質として非晶質のフッ素
化ポリマーを用いた場合、フッ素ポリマーは離型性にす
ぐれているためにアクリル系接着剤やエポキシ系接着剤
では実用的な接着力を得ることが不可能である。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような不利
を解決したリソグラフィー用ペリクルに関するもので、
これはフッ素有機物からなるペリクル膜をフッ素系有機
物からなる接着剤でペリクル枠に接着してなることを特
徴とするものである。
を解決したリソグラフィー用ペリクルに関するもので、
これはフッ素有機物からなるペリクル膜をフッ素系有機
物からなる接着剤でペリクル枠に接着してなることを特
徴とするものである。
【０００６】すなわち、本発明者らは前記したような不
利を伴なわないペリクルを開発すべく種々検討した結
果、ペリクル膜をフッ素系有機物からなるものとしたと
きに、このペリクル膜をペリクル枠に接着するための接
着剤をこのペリクル膜と同種または類似のフッ素系有機
物からなるものとすれば、この接着剤が接着強度の大き
いもので実質的に光劣化もしないものであるので、長寿
命で高性能のペリクルを得ることができることを見出
し、このペリクル膜についても本発明者らがすでに提案
しているようなフッ素系の重合体を使用すればよいとい
うことを確認して本発明を完成させた。以下にこれをさ
らに詳述する。
利を伴なわないペリクルを開発すべく種々検討した結
果、ペリクル膜をフッ素系有機物からなるものとしたと
きに、このペリクル膜をペリクル枠に接着するための接
着剤をこのペリクル膜と同種または類似のフッ素系有機
物からなるものとすれば、この接着剤が接着強度の大き
いもので実質的に光劣化もしないものであるので、長寿
命で高性能のペリクルを得ることができることを見出
し、このペリクル膜についても本発明者らがすでに提案
しているようなフッ素系の重合体を使用すればよいとい
うことを確認して本発明を完成させた。以下にこれをさ
らに詳述する。
【０００７】
【作用】本発明はリソグラフィー用ペリクルに関するも
ので、これはフッ素系有機物からなるペリクル膜をフッ
素有機物からなる接着剤でペリクル枠に接着してなるこ
とを特徴とするものであり、これによればこの接着剤が
接着強度の大きいもので実質的に光劣化しないものであ
るし、これがペリクル膜と同種または類似のフッ素系有
機物からなるものであることから、長寿命で高性能のペ
リクルを得ることができるという有利性が与えられる。
ので、これはフッ素系有機物からなるペリクル膜をフッ
素有機物からなる接着剤でペリクル枠に接着してなるこ
とを特徴とするものであり、これによればこの接着剤が
接着強度の大きいもので実質的に光劣化しないものであ
るし、これがペリクル膜と同種または類似のフッ素系有
機物からなるものであることから、長寿命で高性能のペ
リクルを得ることができるという有利性が与えられる。
【０００８】本発明のリソグラフィー用ペリクルはフッ
素系有機物からなるペリクル膜をフッ素系有機物からな
る接着剤でペリクル枠に接着してなるものとされる。こ
のペリクル膜を作るフッ素系有機物は本発明者らがすで
に提案しているテトラフルオロエチレンと環状パーフル
オロエーテル基を有する含フッ素モノマーを共重合して
得られる非晶性の含フッ素重合体とすればよく、これに
は「テフロンＡＦ」［米国デュポン社商品名］という商
品名で市販されている式
素系有機物からなるペリクル膜をフッ素系有機物からな
る接着剤でペリクル枠に接着してなるものとされる。こ
のペリクル膜を作るフッ素系有機物は本発明者らがすで
に提案しているテトラフルオロエチレンと環状パーフル
オロエーテル基を有する含フッ素モノマーを共重合して
得られる非晶性の含フッ素重合体とすればよく、これに
は「テフロンＡＦ」［米国デュポン社商品名］という商
品名で市販されている式
【化１】 で示されるもの、または「サイトップ」［旭硝子（株）
製商品名］という商品名で市販されている式
製商品名］という商品名で市販されている式
【化２】 で示されるものが例示される（特開平4-104155号公報参
照）。
照）。
【０００９】なお、このフッ素系有機物からのペリクル
膜の製造は、この化合物をフッ素系の溶剤、例えばパー
フルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）やパーフル
オロ（２−プロピルテトラドロピラン）などを用いて３
〜10％の濃度に溶解したのち、スピンコーターやナイフ
コーターを用いる溶液キャスター法で成膜すればよい
が、この膜の厚さは 0.5〜10μｍ、好ましくは 0.8〜５
μｍのものとすればよく、このものは実用的の面から光
の透過率が95％以上のものとされる。
膜の製造は、この化合物をフッ素系の溶剤、例えばパー
フルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）やパーフル
オロ（２−プロピルテトラドロピラン）などを用いて３
〜10％の濃度に溶解したのち、スピンコーターやナイフ
コーターを用いる溶液キャスター法で成膜すればよい
が、この膜の厚さは 0.5〜10μｍ、好ましくは 0.8〜５
μｍのものとすればよく、このものは実用的の面から光
の透過率が95％以上のものとされる。
【００１０】このようにして作られたペリクル膜は安定
性がよく、使用中に黄変したり、亀裂を発生することが
なく、例えばｇ線（波長 436nm）、ｉ線（波長 365n
m）、エキシマレーザー（ＫｒＦレーザー；波長 248n
m）の使用範囲である波長 210〜500nm においてもすぐ
れた透明性を示し、長時間使用しても透明の低下は認め
られないというものであることから、ペリクル膜として
もすぐれた物性を示すものである。
性がよく、使用中に黄変したり、亀裂を発生することが
なく、例えばｇ線（波長 436nm）、ｉ線（波長 365n
m）、エキシマレーザー（ＫｒＦレーザー；波長 248n
m）の使用範囲である波長 210〜500nm においてもすぐ
れた透明性を示し、長時間使用しても透明の低下は認め
られないというものであることから、ペリクル膜として
もすぐれた物性を示すものである。
【００１１】また、本発明ではこのフッ素系有機物から
なるペリクル膜がこのフッ素系有機物と同一または類似
のフッ素系有機物からなる接着剤でペリクル枠に接着さ
れるのであるが、このフッ素系有機物からなる接着剤と
しては前記したテフロンＡＦ（前出）、サイトップ（前
出）などでも良いが、フレームとの接着性を高めるため
にはテフロンＡＦ、サイトップの末端をアクリルやメト
キシ基で処理したものを用いることがよい。なお、ここ
に使用されるペリクル枠は公知のものでよく、したがっ
てこれはアルミニウム、ステンレスなどで作られたもの
とすればよい。
なるペリクル膜がこのフッ素系有機物と同一または類似
のフッ素系有機物からなる接着剤でペリクル枠に接着さ
れるのであるが、このフッ素系有機物からなる接着剤と
しては前記したテフロンＡＦ（前出）、サイトップ（前
出）などでも良いが、フレームとの接着性を高めるため
にはテフロンＡＦ、サイトップの末端をアクリルやメト
キシ基で処理したものを用いることがよい。なお、ここ
に使用されるペリクル枠は公知のものでよく、したがっ
てこれはアルミニウム、ステンレスなどで作られたもの
とすればよい。
【００１２】本発明のリソグラフィー用ペリクルは前記
したようにフッ素系有機質からなるペリクル膜をフッ素
系有機物からなる接着剤でペリクル枠に接着してなるも
のであるが、これによればペリクル膜がこのペリクル膜
を構成するフッ素系有機質と同一または類似のフッ素系
有機質からなる接着剤でペリクル枠に接着されているの
で、これが剥離することはないし、この接着剤は接着強
度が大きく、光劣化することもないので、このペリクル
膜は張力変化で膜が剥離したり、亀裂を起すこともな
く、長時間安定して使用することができるという有利性
が与えられる。
したようにフッ素系有機質からなるペリクル膜をフッ素
系有機物からなる接着剤でペリクル枠に接着してなるも
のであるが、これによればペリクル膜がこのペリクル膜
を構成するフッ素系有機質と同一または類似のフッ素系
有機質からなる接着剤でペリクル枠に接着されているの
で、これが剥離することはないし、この接着剤は接着強
度が大きく、光劣化することもないので、このペリクル
膜は張力変化で膜が剥離したり、亀裂を起すこともな
く、長時間安定して使用することができるという有利性
が与えられる。
【００１３】
【実施例】つぎに本発明の実施例をあげる。 実施例 式
【化３】 で示され、ｎとｍとのモル比 n/mが0.52/1であるテトラ
フルオロエチレンと環状パーフルオロエーテル基を有す
る含フッ素モノマーとの重合体、サイトップＣＴＸＳタ
イプ［旭硝子（株）製商品名］をその溶剤ＣＴsolv 180
［旭硝子（株）製商品名］に溶解し、濃度 6.0％の溶液
を調製した。
フルオロエチレンと環状パーフルオロエーテル基を有す
る含フッ素モノマーとの重合体、サイトップＣＴＸＳタ
イプ［旭硝子（株）製商品名］をその溶剤ＣＴsolv 180
［旭硝子（株）製商品名］に溶解し、濃度 6.0％の溶液
を調製した。
【００１４】ついでこの溶液を直径 200mm、厚さ３mmの
表面研磨した石英基板面に、スピンコーターを用いて膜
厚が0.84μｍの透明膜を形成させ、180 ℃で15分間乾燥
してペリクル膜を形成した。
表面研磨した石英基板面に、スピンコーターを用いて膜
厚が0.84μｍの透明膜を形成させ、180 ℃で15分間乾燥
してペリクル膜を形成した。
【００１５】他方、ペリクル枠としてのアルマイト処理
した 120mm角のアルミニウムフレームの上面に、フッ素
系有機物としてのサイトップＣＴＸＡタイプ［旭硝子
（株）製商品名］をその溶剤としてのＣＴsolv 160［旭
硝子（株）製商品名］に溶解した 9.0％濃度のフッ素有
機物からなる接着剤を塗布し、３時間風乾させたのち、
このアルミニウムフレームを 130℃のホットプレート上
にこの接着剤塗布面が上になるように載せ、５分後に前
記で得たペリクル膜をこの接着剤塗布面にのせて接着さ
せた。
した 120mm角のアルミニウムフレームの上面に、フッ素
系有機物としてのサイトップＣＴＸＡタイプ［旭硝子
（株）製商品名］をその溶剤としてのＣＴsolv 160［旭
硝子（株）製商品名］に溶解した 9.0％濃度のフッ素有
機物からなる接着剤を塗布し、３時間風乾させたのち、
このアルミニウムフレームを 130℃のホットプレート上
にこの接着剤塗布面が上になるように載せ、５分後に前
記で得たペリクル膜をこの接着剤塗布面にのせて接着さ
せた。
【００１６】ついで、このペリクル膜を基板から剥離
し、余分な膜を取り除いたところ、アルミニウムフレー
ムにフッ素系有機物からなるペリクル膜が強い接着強度
で接着しているペリクルが得られ、このペリクル膜は張
力変化で膜が剥離したり、亀裂を起すこともなかった。
し、余分な膜を取り除いたところ、アルミニウムフレー
ムにフッ素系有機物からなるペリクル膜が強い接着強度
で接着しているペリクルが得られ、このペリクル膜は張
力変化で膜が剥離したり、亀裂を起すこともなかった。
【００１７】
【発明の効果】本発明はリソグラフィー用ペリクルに関
するものであり、これは前記したようにフッ素系有機物
からなるペリクル膜をフッ素系有機物からなる接着剤で
ペリクル枠に接着してなることを特徴とするものである
が、このものはこのペリクル膜がフッ素系有機物からな
るものとされているので短波領域で使用しても黄変した
り、亀裂の発生もなく、これはまたペリクル枠にこれと
同種または類似のフッ素系有機物から接着剤で接着され
ているので剥離することがなく、この接着剤が接着強度
が大きく、光劣化することもないので、このペリクル膜
が張力変化で剥離したり、亀裂を起すこともなく、長時
間安定して使用することができるという有利性が与えら
れる。
するものであり、これは前記したようにフッ素系有機物
からなるペリクル膜をフッ素系有機物からなる接着剤で
ペリクル枠に接着してなることを特徴とするものである
が、このものはこのペリクル膜がフッ素系有機物からな
るものとされているので短波領域で使用しても黄変した
り、亀裂の発生もなく、これはまたペリクル枠にこれと
同種または類似のフッ素系有機物から接着剤で接着され
ているので剥離することがなく、この接着剤が接着強度
が大きく、光劣化することもないので、このペリクル膜
が張力変化で剥離したり、亀裂を起すこともなく、長時
間安定して使用することができるという有利性が与えら
れる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 久保田 芳宏 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越化 学工業株式会社精密機能材料研究所内
Claims (2)
- 【請求項１】フッ素系有機物からなるペリクル膜をフッ
素系有機物からなる接着剤でペリクル枠に接着してなる
ことを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。 - 【請求項２】フッ素系有機物が環構造を有する非晶質な
化合物である請求項１に記載したリソグラフィー用ペリ
クル。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24582792A JPH0667409A (ja) | 1992-08-21 | 1992-08-21 | リソグラフィー用ペリクル |
| US08/103,925 US5378514A (en) | 1992-08-21 | 1993-08-06 | Frame-supported pellicle for photolithography |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24582792A JPH0667409A (ja) | 1992-08-21 | 1992-08-21 | リソグラフィー用ペリクル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0667409A true JPH0667409A (ja) | 1994-03-11 |
Family
ID=17139448
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24582792A Pending JPH0667409A (ja) | 1992-08-21 | 1992-08-21 | リソグラフィー用ペリクル |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5378514A (ja) |
| JP (1) | JPH0667409A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7282525B2 (en) | 2000-12-27 | 2007-10-16 | Mitsui Chemicals, Inc. | Pellicle, producing method thereof and adhesive |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5508833A (en) * | 1992-07-10 | 1996-04-16 | Kabushiki Kaisha Topcon | Display apparatus sealed with a solvent-soluble fluorocarbon or fluorine-containing resin having an adhesive covalent bond-forming functional group |
| JP3089153B2 (ja) * | 1993-12-13 | 2000-09-18 | 信越化学工業株式会社 | リソグラフィー用ペリクル |
| US5453816A (en) * | 1994-09-22 | 1995-09-26 | Micro Lithography, Inc. | Protective mask for pellicle |
| JPH08101497A (ja) * | 1994-09-30 | 1996-04-16 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル |
| US5772817A (en) * | 1997-02-10 | 1998-06-30 | Micro Lithography, Inc. | Optical pellicle mounting system |
| EP0893736A4 (en) * | 1997-02-10 | 2000-06-28 | Mitsui Chemicals Inc | METHOD FOR APPLYING A MEMBRANE COVER ON AN OBJECT TO BE PROTECTED; OBJECTS OBTAINED ACCORDING TO THIS PROCESS; MEMBRANE FOR UV RAYS AND PACKAGING INTENDED FOR THESE MEMBRANES |
| US5769984A (en) * | 1997-02-10 | 1998-06-23 | Micro Lithography, Inc. | Optical pellicle adhesion system |
| US6548129B2 (en) * | 2000-03-15 | 2003-04-15 | Asahi Glass Company, Limited | Pellicle |
| US7351503B2 (en) * | 2001-01-22 | 2008-04-01 | Photronics, Inc. | Fused silica pellicle in intimate contact with the surface of a photomask |
| US6524754B2 (en) | 2001-01-22 | 2003-02-25 | Photronics, Inc. | Fused silica pellicle |
| JP3948930B2 (ja) * | 2001-10-31 | 2007-07-25 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 薄膜形成装置および薄膜形成方法 |
| US7316869B2 (en) * | 2003-08-26 | 2008-01-08 | Intel Corporation | Mounting a pellicle to a frame |
| US7264853B2 (en) * | 2003-08-26 | 2007-09-04 | Intel Corporation | Attaching a pellicle frame to a reticle |
| US20050242341A1 (en) * | 2003-10-09 | 2005-11-03 | Knudson Christopher T | Apparatus and method for supporting a flexible substrate during processing |
| US7314667B2 (en) * | 2004-03-12 | 2008-01-01 | Intel Corporation | Process to optimize properties of polymer pellicles and resist for lithography applications |
| US20050202252A1 (en) * | 2004-03-12 | 2005-09-15 | Alexander Tregub | Use of alternative polymer materials for "soft" polymer pellicles |
| JP2006146085A (ja) * | 2004-11-24 | 2006-06-08 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 大型ペリクル |
| US7969549B2 (en) * | 2006-06-30 | 2011-06-28 | Asml Netherlands B.V. | Liquid filled lens element, lithographic apparatus comprising such an element and device manufacturing method |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03259258A (ja) * | 1990-03-09 | 1991-11-19 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 粘着性ペリクル膜およびペリクル |
| JPH04104155A (ja) * | 1990-08-23 | 1992-04-06 | Shin Etsu Chem Co Ltd | リソグラフィー用ペリクル |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5061024C1 (en) * | 1989-09-06 | 2002-02-26 | Dupont Photomasks Inc | Amorphous fluoropolymer pellicle films |
-
1992
- 1992-08-21 JP JP24582792A patent/JPH0667409A/ja active Pending
-
1993
- 1993-08-06 US US08/103,925 patent/US5378514A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03259258A (ja) * | 1990-03-09 | 1991-11-19 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 粘着性ペリクル膜およびペリクル |
| JPH04104155A (ja) * | 1990-08-23 | 1992-04-06 | Shin Etsu Chem Co Ltd | リソグラフィー用ペリクル |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7282525B2 (en) | 2000-12-27 | 2007-10-16 | Mitsui Chemicals, Inc. | Pellicle, producing method thereof and adhesive |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5378514A (en) | 1995-01-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3089153B2 (ja) | リソグラフィー用ペリクル | |
| JPH0667409A (ja) | リソグラフィー用ペリクル | |
| JP5478463B2 (ja) | リソグラフィー用ペリクル | |
| US7488560B2 (en) | Large pellicle | |
| JP2938636B2 (ja) | リソグラフィ−用ペリクル | |
| TWI411874B (zh) | 防塵薄膜組件 | |
| TW202309651A (zh) | 防塵薄膜組件框架、防塵薄膜組件、附防塵薄膜組件的光阻、曝光方法、圖案的製造方法以及半導體裝置的製造方法 | |
| JP2008256925A (ja) | ペリクル | |
| KR20090009098A (ko) | 리소그래피용 페리클 | |
| JP2009025562A (ja) | ペリクルフレーム | |
| JP2009276504A (ja) | 半導体リソグラフィー用ペリクル | |
| JP2001092113A (ja) | 半導体リソグラフィ用ペリクル | |
| JP2790946B2 (ja) | ペリクル膜の製造方法 | |
| JP2000305255A (ja) | フッ素エキシマレーザーリソグラフィー用ペリクル | |
| JPH08123013A (ja) | ペリクルおよびその接着方法 | |
| JP3449180B2 (ja) | ペリクル | |
| JP3429897B2 (ja) | ペリクルの製造方法 | |
| JP2945238B2 (ja) | リソグラフィー用ペリクル | |
| JP4185232B2 (ja) | リソグラフィー用ペリクル | |
| JP3429898B2 (ja) | ペリクルの製造方法 | |
| JP4319757B2 (ja) | ペリクルの製造方法 | |
| JP2001255643A (ja) | リソグラフィー用ペリクル | |
| JP3206417B2 (ja) | ペリクル | |
| JPH11167198A (ja) | リソグラフィー用ペリクル | |
| JPH06230561A (ja) | リソグラフィー用ペリクル膜の製造方法 |