JP2790946B2 - ペリクル膜の製造方法 - Google Patents
ペリクル膜の製造方法Info
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- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
- G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
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Description
特にはLSI、超LSIなどの半導体装置あるいは液晶
表示板を製造する際のゴミよけとして使用される、ペリ
クル膜の製造方法に関するものである。
いは液晶表示板などの製造においては、半導体ウェハー
あるいは液晶用原版に光を照射してパターニングを作成
するのであるが、この場合に用いる露光原版にゴミが付
着していると、このゴミが光を吸収したり、光を曲げて
しまうため、転写したパターニングが変形したり、エッ
ジががさついたものとなるほか、白地が黒く汚れたりし
て、寸法、品質、外観などが損なわれ、半導体装置や液
晶表示板などの性能や製造歩留りの低下を来すという問
題があった。このため、これらの作業は通常クリーンル
ームで行われているが、このクリーンルーム内でも露光
原版を常に清浄に保つことが難しいので、露光原版の表
面にゴミよけのための露光用の光をよく通過させるペリ
クルを貼着する方法が行なわれている。
接付着せず、ペリクル上に付着するため、リソグラフィ
ー時に焦点を露光原版のパターン上に合わせておけば、
ペリクル上のゴミは転写に無関係となるのであるが、こ
のペリクルは光を良く通過させるニトロセルロース、酢
酸セルロースなどからなる透明なペリクル膜をアルミニ
ウム、ステンレス、ポリエチレンなどからなるペリクル
枠の上部にペリクル膜の良溶媒を塗布し、風乾して接着
する(特開昭58-219023 号公報参照)か、アクリル樹脂
やエポキシ樹脂などの接着剤で接着する(米国特許第4・
861・402 号明細書、特公昭63-27、 707号公報参照)とい
う方法がとられており、また、最近のものでは耐光性の
すぐれた非晶質なフッ素系ポリマーを膜材や接着剤に使
用している。
ル膜の製造は、これらの膜材料を溶剤を用いて3〜10%
の濃度に溶解したのち、スピンコーターやナイフコータ
ーを用いる溶液キャスティング法でシリコン基板やガラ
ス基板の上で成膜させるという方法で行なわれており、
このようにして作られたペリクル膜はこの基板上に成膜
された膜にペリクル枠フレームを接着してから、水中で
この基板と膜を剥離するという方法でペリクル膜とされ
ているのであるが、水中での膜剥離では水の汚れは勿論
のこと、基板裏面やフレームを抑える治具などの水と接
触する材料から発生する異物が水を媒体として膜および
フレーム全体を汚染してしまうという危険性をもつもの
であった。
を解決したペリクル膜の製造方法に関するもので、これ
はペリクル膜の基板からの剥離工程を相対湿度60%以上
の気体中で行なうことを特徴とするものである。
ペリクル膜の基体からの剥離方法について種々検討した
結果、ペリクル膜の基体からの剥離工程を従来のような
水中ですることなく、これを気体中で行なえば水中剥離
のような汚染拡散が少なくなり、乾燥工程も不要となる
ので、目的とするペリクル膜を容易に、かつ効率よく得
ることができるということを見出し、気体中での処理条
件などについての研究を進めて本発明を完成させた。以
下にこれをさらに詳述する。
ル膜形成材料を溶剤に溶解して濃度が3〜10%の溶液を
作り、この溶液をスピンコーターやナイフコーターなど
を用いる溶液キャスティング法でシリコン基板やガラス
基板の上にペリクル膜として成膜したのち、これにペリ
クル枠フレームを接着し、ついでペリクル膜を基板から
剥離してペリクル膜を作成するのであるが、本発明では
ペリクル膜の基板からの剥離が相対湿度60%以上の気体
中で行なわれる。
がペリクル枠フレームに接着されているので、剥離工程
室内において基板側を引張るだけでよく、これによれば
容易に基板からペリクル膜を剥離することができるが、
この剥離工程は相対湿度60%以上の気体中で行なわれ
る。この気体中は空気中であってもよいが、窒素ガス
中、酸素ガス中、その他の気体中、あるいはこれらの混
合気体中であってもよい。また、気体の圧力は減圧下で
も高圧下であってもよいが、作業のしやすさということ
からは大気圧下とすることがよい。
ほうが剥離性が向上するが、剥離時の気体の相対湿度が
60%未満のときにはペリクル膜と基板との剥離性が悪く
なって、剥離の際に膜が伸びてシワになったり、膜が破
損し易くなるので、ペリクル膜を基板から容易に剥離す
るためには相対湿度を60%以上とし、好ましくは90%以
上のものとすることがよい。
ぎて結露が生ずると、水中剥離と同様にしずくによって
異物が拡散されるし、乾きムラも発生するので、高すぎ
ないようにすることも必要である。
も水分子を通すことができる大きさの隙間がその分子
間、原子間に存在するものとすることがよく、これによ
ればこの隙間に水分子が通るので気体剥離でも水中剥離
と同等の剥離性が与えられる。
ように、ペリクル膜の基板からの剥離が相対湿度60%以
上の気体中で行なわれるのであるが、これによれば水中
剥離したときに水と接触していた基板の裏面やペリクル
枠フレームの抑える治具などから発生した異物が水を媒
介としてペリクル膜およびペリクル枠フレームなどを汚
染するという危険が全くなくなるので、目的とするペリ
クル膜およびペリクル枠フレームが汚染されず、これら
を清浄なものとして得ることができ、この場合には水中
剥離では必須とされる事後の乾燥工程が不要にもなる。
ルオロエチレンと環状パーフルオロエーテル基を有する
含フッ素モノマーとの重合体・サイトップCTXSタイ
プ[旭硝子(株)製商品名]をその溶剤・CTsolv 180
[旭硝子(株)製商品名]に溶解して濃度 6.0%の溶液
を調製した。
表面研磨した石英基板面に、スピンコーターを用いて膜
厚0.84μmの透明膜として形成させ、180 ℃で15分間乾
燥してペリクル膜を成膜させた。他方、アルマイト処理
した 120mm角のアルミニウム製のペリクル枠フレームの
上面にフッ素含有ジオルガノポリシロキサン組成物を塗
布し、このフッ素含有ジオルガノポリシロキサン組成物
の塗布面に上記で得た石英基板上に成膜されているペリ
クル膜を接着させた。
入れ、容器内の雰囲気を表1に示した温度、相対湿度を
もつ空気とし、この雰囲気中においてペリクル膜を石英
基板から剥離したところ、相対湿度が50%のとき(比較
例1)のときには膜が破れ、相対湿度が59%のとき(比
較例2)には膜にシワが発生したが、相対湿度が84%、
88%、99%のとき(実施例1〜3)では良好な膜が得ら
れた。
ときの水を媒介とした汚染が防止されるので目的とする
ペリクル膜を清浄なものとして取得でき、爾後の乾燥工
程も不要になる。また、ペリクル膜にシワや破損を生ず
ることなく、基板から容易に剥離することができる。
Claims (1)
- 【請求項1】ペリクル膜の基板からの剥離工程を相対湿
度60%以上の気体中で行なうことを特徴とするペリクル
膜の製造方法。
Priority Applications (2)
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JP24582892A JP2790946B2 (ja) | 1992-08-21 | 1992-08-21 | ペリクル膜の製造方法 |
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP24582892A JP2790946B2 (ja) | 1992-08-21 | 1992-08-21 | ペリクル膜の製造方法 |
Publications (2)
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JPH0667410A JPH0667410A (ja) | 1994-03-11 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP24582892A Expired - Lifetime JP2790946B2 (ja) | 1992-08-21 | 1992-08-21 | ペリクル膜の製造方法 |
Country Status (2)
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-
1993
- 1993-08-06 US US08/103,928 patent/US5368675A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
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