JP2001255643A - リソグラフィー用ペリクル - Google Patents
リソグラフィー用ペリクルInfo
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 フッ素エキシマレーザー光（波長：１５８ｎ
ｍ）に対して透過率の高い、高性能なリソグラフィー用
ペリクルを提供する。 【解決手段】 本発明のリソグラフィー用ペリクルは、
少なくともペリクル膜とペリクルフレームからなるペリ
クルにおいて、該ペリクルフレームに張設されるペリク
ル膜が、繰り返し構造単位中の主鎖を形成する部分にエ
ーテル結合を含み、かつ環状構造を含まないフッ素樹脂
を主成分としてなることを特徴としている。
ｍ）に対して透過率の高い、高性能なリソグラフィー用
ペリクルを提供する。 【解決手段】 本発明のリソグラフィー用ペリクルは、
少なくともペリクル膜とペリクルフレームからなるペリ
クルにおいて、該ペリクルフレームに張設されるペリク
ル膜が、繰り返し構造単位中の主鎖を形成する部分にエ
ーテル結合を含み、かつ環状構造を含まないフッ素樹脂
を主成分としてなることを特徴としている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、リソグラフィー用
ペリクル、特にはＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置あ
るいは液晶表示板を製造する際の露光原版（レチクル）
のゴミよけとして使用されるリソグラフィー用ペリクル
に関する。
ペリクル、特にはＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置あ
るいは液晶表示板を製造する際の露光原版（レチクル）
のゴミよけとして使用されるリソグラフィー用ペリクル
に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置ある
いは液晶表示板などの製造においては、半導体ウエハー
あるいは液晶用原版に光を照射してパターニングされる
が、このとき用いる露光原版にゴミ等の異物が付着して
いると、異物が光を吸収したり反射するため、転写した
パターンが変形したり、エッジががさついたものとなる
ほか、下地が黒く汚れたりして、寸法、品質、外観など
が損われ、半導体装置や液晶表示板などの性能や歩留り
の低下を来すという問題があった。
いは液晶表示板などの製造においては、半導体ウエハー
あるいは液晶用原版に光を照射してパターニングされる
が、このとき用いる露光原版にゴミ等の異物が付着して
いると、異物が光を吸収したり反射するため、転写した
パターンが変形したり、エッジががさついたものとなる
ほか、下地が黒く汚れたりして、寸法、品質、外観など
が損われ、半導体装置や液晶表示板などの性能や歩留り
の低下を来すという問題があった。
【０００３】このため、これらの作業は通常クリーンル
ーム内で行われているが、クリーンルーム内でも露光原
版を常に清浄に保つことが難しいため、ゴミ等の異物よ
けとして露光原版の表面に、露光用の光をよく透過させ
るペリクルを装着する方法が採られている。この場合、
異物は露光原版の表面には直接付着せず、ペリクル膜に
付着するため、リソグラフィー時に焦点を露光原版のパ
ターン上に合わせておけば、ペリクル膜面上の異物は転
写に無関係となる。
ーム内で行われているが、クリーンルーム内でも露光原
版を常に清浄に保つことが難しいため、ゴミ等の異物よ
けとして露光原版の表面に、露光用の光をよく透過させ
るペリクルを装着する方法が採られている。この場合、
異物は露光原版の表面には直接付着せず、ペリクル膜に
付着するため、リソグラフィー時に焦点を露光原版のパ
ターン上に合わせておけば、ペリクル膜面上の異物は転
写に無関係となる。
【０００４】ペリクルフレーム（以下，単にフレームと
称する）に張設されるペリクル膜は、通常光をよく透過
させるニトロセルロース、酢酸セルロースなどからなる
透明な膜を、アルミニウム、ステンレス、ポリエチレン
などからなるフレームの上端面に、ペリクル膜の良溶媒
を塗布して、風乾し接着することにより（特開昭58‐21
9023号公報参照）、あるいはペリクル膜をアクリル樹脂
やエポキシ樹脂などの接着剤で接着することにより作製
される（米国特許第4,861,402号明細書、特公昭63‐277
07号公報参照）。ペリクルを露光原版に装着するため
に、フレームの下部にはポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニ
ル樹脂、アクリル樹脂などからなる粘着層、及びこの粘
着層の保護を目的とした保護シート(セパレータ)が貼付
されている。
称する）に張設されるペリクル膜は、通常光をよく透過
させるニトロセルロース、酢酸セルロースなどからなる
透明な膜を、アルミニウム、ステンレス、ポリエチレン
などからなるフレームの上端面に、ペリクル膜の良溶媒
を塗布して、風乾し接着することにより（特開昭58‐21
9023号公報参照）、あるいはペリクル膜をアクリル樹脂
やエポキシ樹脂などの接着剤で接着することにより作製
される（米国特許第4,861,402号明細書、特公昭63‐277
07号公報参照）。ペリクルを露光原版に装着するため
に、フレームの下部にはポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニ
ル樹脂、アクリル樹脂などからなる粘着層、及びこの粘
着層の保護を目的とした保護シート(セパレータ)が貼付
されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】近年、リソグラフィー
の解像度は次第に高くなってきており、その解像度を実
現するために、徐々に波長の短い光が光源として用いら
れるようになってきている。具体的には、ｇ線（４３６
ｎｍ）やｉ線（３６５ｎｍ）の紫外光から、現在は、遠
紫外光のＫｒＦエキシマレーザー（２４８ｎｍ）へと移
行している。近い将来には、真空紫外光のＡｒＦエキシ
マレーザー（１９３ｎｍ）が使用されるようになり、さ
らに、より高い解像度を実現するため、Ｆ2エキシマレ
ーザー（１５８ｎｍ）が使用される可能性が高い。
の解像度は次第に高くなってきており、その解像度を実
現するために、徐々に波長の短い光が光源として用いら
れるようになってきている。具体的には、ｇ線（４３６
ｎｍ）やｉ線（３６５ｎｍ）の紫外光から、現在は、遠
紫外光のＫｒＦエキシマレーザー（２４８ｎｍ）へと移
行している。近い将来には、真空紫外光のＡｒＦエキシ
マレーザー（１９３ｎｍ）が使用されるようになり、さ
らに、より高い解像度を実現するため、Ｆ2エキシマレ
ーザー（１５８ｎｍ）が使用される可能性が高い。
【０００６】ＫｒＦエキシマレーザーやＡｒＦエキシマ
レーザー用ペリクルの膜材料には、エーテル結合を含ま
ない直鎖タイプのパーフルオロ樹脂（特開昭60‐83082
号公報参照）や、環状エーテル結合を有する非晶質パー
フルオロ樹脂で、パーフルオロブテニルビニルエーテル
の重合体による非晶質フッ素樹脂、あるいは７０モル％
以下のパーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオ
キソールと３０モル％以上のテトラフルオロエチレンの
共重合体による非晶質フッ素樹脂（特開平３‐67262号
公報、米国特許第4,754,009号明細書参照）が使用され
ている。
レーザー用ペリクルの膜材料には、エーテル結合を含ま
ない直鎖タイプのパーフルオロ樹脂（特開昭60‐83082
号公報参照）や、環状エーテル結合を有する非晶質パー
フルオロ樹脂で、パーフルオロブテニルビニルエーテル
の重合体による非晶質フッ素樹脂、あるいは７０モル％
以下のパーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオ
キソールと３０モル％以上のテトラフルオロエチレンの
共重合体による非晶質フッ素樹脂（特開平３‐67262号
公報、米国特許第4,754,009号明細書参照）が使用され
ている。
【０００７】これらの非晶質フッ素樹脂は、１９３ｎｍ
以上の波長域において高い透過率を有し、これを用いた
ペリクル膜は、ＫｒＦエキシマレーザー光やＡｒＦエキ
シマレーザー光の照射に対して、実用に耐え得る耐光性
を有している。しかし、このペリクル膜は、フッ素エキ
シマレーザー光に対しては透過率が低く、実用上問題が
あった。このため、未だフッ素エキシマレーザー用とし
て使用可能なペリクルは実用化されていない。本発明
は、このような問題点に鑑みなされたもので、フッ素エ
キシマレーザー光（波長：１５８ｎｍ）に対して透過率
の高い、高性能なリソグラフィー用ペリクルを提供する
ことを課題としている。
以上の波長域において高い透過率を有し、これを用いた
ペリクル膜は、ＫｒＦエキシマレーザー光やＡｒＦエキ
シマレーザー光の照射に対して、実用に耐え得る耐光性
を有している。しかし、このペリクル膜は、フッ素エキ
シマレーザー光に対しては透過率が低く、実用上問題が
あった。このため、未だフッ素エキシマレーザー用とし
て使用可能なペリクルは実用化されていない。本発明
は、このような問題点に鑑みなされたもので、フッ素エ
キシマレーザー光（波長：１５８ｎｍ）に対して透過率
の高い、高性能なリソグラフィー用ペリクルを提供する
ことを課題としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決すべく真空紫外光に対するペリクル膜の光吸収につ
いて検討した結果、繰り返し構造単位中の主鎖を形成す
る部分にエーテル結合を含み、かつ環状構造を含まない
フッ素樹脂が、真空紫外光に対して高い透光性を示すこ
とを見出し、さらに耐光性、製膜性に対する検討を加え
て本発明を完成させた。
解決すべく真空紫外光に対するペリクル膜の光吸収につ
いて検討した結果、繰り返し構造単位中の主鎖を形成す
る部分にエーテル結合を含み、かつ環状構造を含まない
フッ素樹脂が、真空紫外光に対して高い透光性を示すこ
とを見出し、さらに耐光性、製膜性に対する検討を加え
て本発明を完成させた。
【０００９】すなわち、本発明のリソグラフィー用ペリ
クルは、少なくともペリクル膜とペリクルフレームから
なるペリクルにおいて、該ペリクルフレームに張設され
るペリクル膜が、繰り返し構造単位中の主鎖を形成する
部分にエーテル結合を含み、かつ環状構造を含まないフ
ッ素樹脂を主成分としてなることを特徴としている。本
発明で使用するフッ素樹脂は、例えば、下記の化学式
（化１）〜（化４）に示されるものであり、形成された
膜の強度、柔軟性を良好なものとするためには非晶質て
あることが望ましい。なお、式中のＲｉ（ｉは１〜８）
は１価の有機基であり、ｍ，ｎ，ｐ，ｑ，ｒ，ｓ，ｔは
正数である。
クルは、少なくともペリクル膜とペリクルフレームから
なるペリクルにおいて、該ペリクルフレームに張設され
るペリクル膜が、繰り返し構造単位中の主鎖を形成する
部分にエーテル結合を含み、かつ環状構造を含まないフ
ッ素樹脂を主成分としてなることを特徴としている。本
発明で使用するフッ素樹脂は、例えば、下記の化学式
（化１）〜（化４）に示されるものであり、形成された
膜の強度、柔軟性を良好なものとするためには非晶質て
あることが望ましい。なお、式中のＲｉ（ｉは１〜８）
は１価の有機基であり、ｍ，ｎ，ｐ，ｑ，ｒ，ｓ，ｔは
正数である。
【００１０】
【化１】
【００１１】
【化２】
【００１２】
【化３】
【００１３】
【化４】
【００１４】この繰り返し構造単位中の元素構成比は、
酸素原子１に対して炭素原子３以下とするのが好まし
い。この理由は、エーテル結合（Ｃ−Ｏ−Ｃ）の多い方
が透過率が高くなる、つまり光吸収が減るためであり、
この値が３を超えるとＣＦX‐ＣＦX‐ＣＦX結合が長く
なりすぎて光吸収を生じるため好ましくない。このよう
な構成からなる本発明のリソグラフィー用ペリクルは、
照射される露光用光源の波長が２００ｎｍ以下であって
も極めて高い透光性を有している。
酸素原子１に対して炭素原子３以下とするのが好まし
い。この理由は、エーテル結合（Ｃ−Ｏ−Ｃ）の多い方
が透過率が高くなる、つまり光吸収が減るためであり、
この値が３を超えるとＣＦX‐ＣＦX‐ＣＦX結合が長く
なりすぎて光吸収を生じるため好ましくない。このよう
な構成からなる本発明のリソグラフィー用ペリクルは、
照射される露光用光源の波長が２００ｎｍ以下であって
も極めて高い透光性を有している。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施態様について
説明する。図１は、ペリクルの構造を示す拡大断面図で
あり、ペリクル膜１は膜接着層２を介してフレーム３の
上端面に張設され、フレーム３は基板粘着層４を介して
露光基板５に粘着されている。
説明する。図１は、ペリクルの構造を示す拡大断面図で
あり、ペリクル膜１は膜接着層２を介してフレーム３の
上端面に張設され、フレーム３は基板粘着層４を介して
露光基板５に粘着されている。
【００１６】非晶質フッ素系（共）重合体をペリクル膜
用に薄膜化する場合、公知の方法で薄膜化することがで
きる。例えば、平滑な基板上に透明フッ素樹脂溶液を滴
下し、スピンコート法で均一に薄膜化し、その後溶媒を
蒸発させ、基板から薄膜のみを剥離して得られる。この
場合、ペリクル膜の厚さは、０．１μｍよりも薄いと強
度が不足し、一方１０μｍよりも厚くなると光の透過率
が低下する恐れがあるので、０．１μｍ〜１０μｍの範
囲にすることが望ましい。
用に薄膜化する場合、公知の方法で薄膜化することがで
きる。例えば、平滑な基板上に透明フッ素樹脂溶液を滴
下し、スピンコート法で均一に薄膜化し、その後溶媒を
蒸発させ、基板から薄膜のみを剥離して得られる。この
場合、ペリクル膜の厚さは、０．１μｍよりも薄いと強
度が不足し、一方１０μｍよりも厚くなると光の透過率
が低下する恐れがあるので、０．１μｍ〜１０μｍの範
囲にすることが望ましい。
【００１７】フレームの材料としては、特に制限され
ず、アルミ材に陽極酸化処理を行ったものや、ステンレ
ス、ポリアセタール、ポリカーボネート、ＰＭＭＡ、ア
クリル樹脂等の樹脂、青板ガラス等が挙げられる。ま
た、膜接着層には、ペリクル膜とフレームとを接着でき
る材料であればよく、例えば、アクリル樹脂、エポキシ
樹脂あるいはフッ素樹脂などの接着剤が用いられる。基
板粘着層には、ポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、
アクリル樹脂、シリコーン樹脂等からなる粘着剤を用い
ることができる。露光基板は、レチクル、フォトマスク
等、その名称に関係なく、光を照射してリソグラフィー
に供されるものであれば如何なるものであってもよい。
ず、アルミ材に陽極酸化処理を行ったものや、ステンレ
ス、ポリアセタール、ポリカーボネート、ＰＭＭＡ、ア
クリル樹脂等の樹脂、青板ガラス等が挙げられる。ま
た、膜接着層には、ペリクル膜とフレームとを接着でき
る材料であればよく、例えば、アクリル樹脂、エポキシ
樹脂あるいはフッ素樹脂などの接着剤が用いられる。基
板粘着層には、ポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、
アクリル樹脂、シリコーン樹脂等からなる粘着剤を用い
ることができる。露光基板は、レチクル、フォトマスク
等、その名称に関係なく、光を照射してリソグラフィー
に供されるものであれば如何なるものであってもよい。
【００１８】このようにして構成される本発明のリソグ
ラフィー用ペリクルは、フッ素エキシマレーザー光に対
して優れた透光性を有し、その分、シリコンウエハ等の
露光基板に与え得るエネルギーが多くなるという効果を
奏する。また、透光性が高いということは、それだけ吸
収される光が少ないということであり、耐光性にも好ま
しい効果をもたらす。
ラフィー用ペリクルは、フッ素エキシマレーザー光に対
して優れた透光性を有し、その分、シリコンウエハ等の
露光基板に与え得るエネルギーが多くなるという効果を
奏する。また、透光性が高いということは、それだけ吸
収される光が少ないということであり、耐光性にも好ま
しい効果をもたらす。
【００１９】
【実施例】以下、実施例1乃至４、比較例１にもとづき
さらに詳細に説明する。 （実施例１）下記の化学式（化５）で示され、繰り返し
構造単位中の主鎖を形成する部分にエーテル結合を含
み、かつ環状構造を含まない透明フッ素樹脂を、フッ素
系溶媒ＩＬ−２６３（トクヤマ社製、商品名）に溶解
し、１５重量％の溶液とした。次いで、この溶液を表面
研磨したシリコン基板上に滴下し、スピンコーターを用
いて基板を回転させた後、基板を１８０℃で１０分間加
熱し、膜厚１μｍの透明膜を形成した。その後、シリコ
ン基板から薄膜を剥離し、ペリクル膜を得た。次に、ア
ルミ製フレームの上端面に接着剤を塗布してペリクル膜
を貼り付け、フレームの下端面には粘着剤を塗布した。
最後に、フレームの外周に沿って不要の膜を切断するこ
とによりペリクルを完成させた。このペリクルの透過率
を測定すると、フッ素エキシマレーザー光に対する透過
率は９９．８％と、非常に高い値を示した。
さらに詳細に説明する。 （実施例１）下記の化学式（化５）で示され、繰り返し
構造単位中の主鎖を形成する部分にエーテル結合を含
み、かつ環状構造を含まない透明フッ素樹脂を、フッ素
系溶媒ＩＬ−２６３（トクヤマ社製、商品名）に溶解
し、１５重量％の溶液とした。次いで、この溶液を表面
研磨したシリコン基板上に滴下し、スピンコーターを用
いて基板を回転させた後、基板を１８０℃で１０分間加
熱し、膜厚１μｍの透明膜を形成した。その後、シリコ
ン基板から薄膜を剥離し、ペリクル膜を得た。次に、ア
ルミ製フレームの上端面に接着剤を塗布してペリクル膜
を貼り付け、フレームの下端面には粘着剤を塗布した。
最後に、フレームの外周に沿って不要の膜を切断するこ
とによりペリクルを完成させた。このペリクルの透過率
を測定すると、フッ素エキシマレーザー光に対する透過
率は９９．８％と、非常に高い値を示した。
【００２０】
【化５】
【００２１】（実施例２）下記の化学式（化６）で示さ
れ、繰り返し構造単位中の主鎖を形成する部分にエーテ
ル結合を含み、かつ環状構造を含まない透明フッ素樹脂
を用いた以外は、実施例１と同じ条件でペリクル膜を形
成し、これを用いてペリクルを作製した。このペリクル
の透過率を測定すると、フッ素エキシマレーザー光に対
する透過率は９９．８％と、非常に高い値を示した。
れ、繰り返し構造単位中の主鎖を形成する部分にエーテ
ル結合を含み、かつ環状構造を含まない透明フッ素樹脂
を用いた以外は、実施例１と同じ条件でペリクル膜を形
成し、これを用いてペリクルを作製した。このペリクル
の透過率を測定すると、フッ素エキシマレーザー光に対
する透過率は９９．８％と、非常に高い値を示した。
【００２２】
【化６】
【００２３】（実施例３）下記の化学式（化７）で示さ
れ、繰り返し構造単位中の主鎖に、エーテル結合と側鎖
を含み、環状構造を含まない透明フッ素樹脂を用いた以
外は、実施例１と同じ条件でペリクル膜を形成し、これ
を用いてペリクルを作製した。このペリクルの透過率を
測定すると、フッ素エキシマレーザー光に対する透過率
は９９．５％と、非常に高い値を示した。
れ、繰り返し構造単位中の主鎖に、エーテル結合と側鎖
を含み、環状構造を含まない透明フッ素樹脂を用いた以
外は、実施例１と同じ条件でペリクル膜を形成し、これ
を用いてペリクルを作製した。このペリクルの透過率を
測定すると、フッ素エキシマレーザー光に対する透過率
は９９．５％と、非常に高い値を示した。
【００２４】
【化７】
【００２５】（実施例４）下記の化学式（化８）で示さ
れ、繰り返し構造単位中の主鎖に、エーテル結合と側鎖
を含み、環状構造を含まない透明フッ素樹脂を用いた以
外は、実施例１と同じ条件でペリクル膜を形成し、これ
を用いてペリクルを作製した。このペリクルの透過率を
測定すると、フッ素エキシマレーザー光に対する透過率
は９９．０％と、非常に高い値を示した。これらの樹脂
は、繰り返し構造単位中の主鎖を形成する部分にエーテ
ル結合を有し、該単位の元素構成比は、酸素原子１に対
して炭素原子が３以下となっている。
れ、繰り返し構造単位中の主鎖に、エーテル結合と側鎖
を含み、環状構造を含まない透明フッ素樹脂を用いた以
外は、実施例１と同じ条件でペリクル膜を形成し、これ
を用いてペリクルを作製した。このペリクルの透過率を
測定すると、フッ素エキシマレーザー光に対する透過率
は９９．０％と、非常に高い値を示した。これらの樹脂
は、繰り返し構造単位中の主鎖を形成する部分にエーテ
ル結合を有し、該単位の元素構成比は、酸素原子１に対
して炭素原子が３以下となっている。
【００２６】
【化８】
【００２７】（比較例１）下記の化学式（化９）で示さ
れ、繰り返し構造単位中の主鎖を形成する部分に環状構
造を含む透明環状エーテルフッ素樹脂 サイトップＣＴ
Ｘ−Ｓ（旭硝子社製、商品名）をフッ素系溶媒ＩＬ−２
６３（トクヤマ社製、商品名）に溶解し、５重量％の溶
液とした以外は、実施例１と同じ条件でペリクル膜を形
成し、これを用いてペリクルを作製した。このペリクル
の透過率を測定すると、１５７ｎｍに対する透過率は２
％と、非常に低い値を示した。上記実施例１乃至４、比
較例１の透過率値の測定結果を表１にまとめて示した。
なお、化学式（化５）〜（化９）の式中の記号ａ〜ｅ、
ｋ〜ｎ，ｐ，ｑは、いずれも正数である。ｃ，ｄはｃ≦
ｄの関係を有している。
れ、繰り返し構造単位中の主鎖を形成する部分に環状構
造を含む透明環状エーテルフッ素樹脂 サイトップＣＴ
Ｘ−Ｓ（旭硝子社製、商品名）をフッ素系溶媒ＩＬ−２
６３（トクヤマ社製、商品名）に溶解し、５重量％の溶
液とした以外は、実施例１と同じ条件でペリクル膜を形
成し、これを用いてペリクルを作製した。このペリクル
の透過率を測定すると、１５７ｎｍに対する透過率は２
％と、非常に低い値を示した。上記実施例１乃至４、比
較例１の透過率値の測定結果を表１にまとめて示した。
なお、化学式（化５）〜（化９）の式中の記号ａ〜ｅ、
ｋ〜ｎ，ｐ，ｑは、いずれも正数である。ｃ，ｄはｃ≦
ｄの関係を有している。
【００２８】
【化９】
【００２９】
【表１】
【００３０】表１から明らかなように、実施例１乃至４
の繰り返し構造単位中の主鎖を形成する部分にエーテル
結合を含み、かつ環状構造を含まないフッ素樹脂を用い
て形成したペリクルは、フッ素エキシマレーザー光に対
して極めて高い透過率値を示し、実用可能なものであっ
たが、比較例１の繰り返し構造単位中の主鎖を形成する
部分に環状構造を有する透明環状エーテルフッ素樹脂を
用いて形成したペリクルは、透過率が低く、実用に耐え
ないものであった。
の繰り返し構造単位中の主鎖を形成する部分にエーテル
結合を含み、かつ環状構造を含まないフッ素樹脂を用い
て形成したペリクルは、フッ素エキシマレーザー光に対
して極めて高い透過率値を示し、実用可能なものであっ
たが、比較例１の繰り返し構造単位中の主鎖を形成する
部分に環状構造を有する透明環状エーテルフッ素樹脂を
用いて形成したペリクルは、透過率が低く、実用に耐え
ないものであった。
【００３１】なお、本発明は、上記実施態様に限定され
るものではない。これらはあくまでも本発明の例示であ
り、本発明の特許請求の範囲に記載された技術思想と実
質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するもの
は、如何なるものであっても本発明の技術的範囲に含ま
れる。
るものではない。これらはあくまでも本発明の例示であ
り、本発明の特許請求の範囲に記載された技術思想と実
質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するもの
は、如何なるものであっても本発明の技術的範囲に含ま
れる。
【００３２】
【発明の効果】以上、詳述したように、上記構成からな
る本発明のリソグラフィー用ペリクルは、真空紫外光に
対して高い透光性と耐光性を有し、従来、実用化されて
いなかったフッ素エキシマレーザーリソグラフィーへの
実用化を可能にした。
る本発明のリソグラフィー用ペリクルは、真空紫外光に
対して高い透光性と耐光性を有し、従来、実用化されて
いなかったフッ素エキシマレーザーリソグラフィーへの
実用化を可能にした。
【図面の簡単な説明】
【図１】 ペリクルの構造を示す概略拡大断面図であ
る。
る。
１． ペリクル膜、 ２． 膜接着層、 ３． フレーム、 ４． 基板粘着層、 ５． 露光基板。
Claims (3)
- 【請求項１】 少なくともペリクル膜とペリクルフレー
ムからなるペリクルにおいて、該ペリクルフレームに張
設されるペリクル膜が、繰り返し構造単位中の主鎖を形
成する部分にエーテル結合を含み、かつ環状構造を含ま
ないフッ素樹脂を主成分としてなることを特徴とするリ
ソグラフィー用ペリクル。 - 【請求項２】 前記繰り返し構造単位中の元素構成比
が、酸素原子１に対して炭素原子が３以下である請求項
１に記載のリソグラフィー用ペリクル。 - 【請求項３】 前記ペリクルに対して照射される露光用
光源の波長が、２００ｎｍ以下である請求項１または２
に記載のリソグラフィー用ペリクル。
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