JP4873565B2

JP4873565B2 - リソグラフィー用ペリクル

Info

Publication number: JP4873565B2
Application number: JP2007098618A
Authority: JP
Inventors: 享白崎
Original assignee: Shin Etsu Chemical Co Ltd
Current assignee: Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date: 2006-04-07
Filing date: 2007-04-04
Publication date: 2012-02-08
Anticipated expiration: 2027-04-04
Also published as: JP2008040469A

Description

本発明はリソグラフィー用ペリクル、特にはＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体デバイスあるいは液晶表示板などを製造する際のゴミよけとして使用されるリソグラフィー用ペリクル、特に高解像度を必要とする露光において使用される２００ｎｍ以下の紫外光露光に使用されるリソグラフィー用ペリクルに関するものである。

従来、ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体デバイスあるいは液晶表示板などの製造においては、半導体ウエハあるいは液晶用原板に光を照射してパターニングをするわけであるが、この場合に用いる露光原版にゴミが付着していると、このゴミが光を吸収したり、光を反射してしまうため、転写したパターニングが変形したり、エッジががさついたりしてしまい、寸法、品質、外観などがそこなわれ、半導体装置や液晶表示板などの性能や製造歩留まりの低下を来すという問題があった。

このため、これらの作業は通常クリーンルームで行われるが、このクリーンルーム内でも露光原版を常に清浄に保つことが難しいので、露光原版の表面にゴミよけの為の、露光用の光を良く通過させるペリクルを貼着する方法が行われている。
この場合、ゴミは露光原版の表面には直接付着せず、ペリクル膜上に付着するため、リソグラフィー時に焦点を露光原版のパターン上に合わせておけば、ペリクル上のゴミは、転写に無関係となる利点がある。

このペリクルは光を良く通過させるニトロセルロース、酢酸セルロースなどからなる透明なペリクル膜を、アルミニウム、ステンレス、ポリエチレン等からなるペリクル枠の上部にペリクル膜の良溶媒を塗布し、風乾して接着する（特許文献１参照）か、アクリル樹脂（特許文献２参照）やエポキシ樹脂（特許文献３参照）、また、非晶質フッ素系重合体（特許文献４参照）などの接着剤で接着し、ペリクル枠の下部にはポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂等からなる粘着層及び粘着層を保護する離型層（セパレータ）を接着して構成されている。

近年、リソグラフィーの解像度は次第に高くなってきており、その解像度を実現するために徐々に波長の短い光が光源として用いられるようになってきている。
具体的には紫外光［ｇ線（４３６ｎｍ）、Ｉ線（３６５ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザー（２４８ｎｍ）］と移行しており、近年ではＡｒＦエキシマレーザー（１９３ｎｍ）が使用され始めた。
リソグラフィーに使用される光の短波長化により、光のエネルギーが大きくなってきていることから、ＫｒＦ、ＡｒＦレーザーに対してはペリクル膜の材料はよりレーザー光耐性が大きい透明フッ素樹脂が使用されるようになってきている（特許文献３、特許文献４参照）。

近年、ＡｒＦエキシマレーザーを用いて更に微細な加工を行う為に、液浸露光装置を用いる検討が始められている（特許文献５参照）。露光装置の対物レンズとシリコンウエハの間を液体で満たすことにより、より高いＮＡ（numerical aperture ）を実現し、その結果、より高い解像度を得ている。
対物レンズとシリコンウエハ間の液体が純水の場合、ＮＡの理論限界は１．４４程度であるが、実際にはレンズ等の制約から実用上のＮＡの限界は１．３程度になると考えられている。
このように露光装置が高ＮＡ化すると、ペリクルを透過する光も周辺部は斜入射の角度が大きくなり、露光装置によっても多少異なるが、ＮＡが１の場合で最大斜入射角は約１５度、ＮＡが１．３の場合で約１９度まで大きくなる。

ペリクルの透過率は一般に垂直入射光に対して最大透過率になるように設計され、製造されているが、斜入射の角度（垂直入射光と斜入射光とのなす角度）が大きくなるにつれ透過率が低下していく。一般に用いられているＡｒＦペリクルの膜厚は約８３０ｎｍであるが、垂直入射光に対して約１００％の透過率を示すものであっても、１５度の斜入射光線に対しては約９６％、１９度の斜入射に対しては約９２％と、透過率は非常に低くなる。

ペリクルの透過率が低くなる、それも入射角により徐々に低くなると、露光時の照射ムラの原因になり、リソグラフィーの品質低下につながる。また透過率が低くなるということは、それだけペリクル膜面での反射が増えるということであり、フレア等の問題が生じ、これもリソグラフィーの品質低下につながる。またペリクル膜面で反射した光が散乱光となり、露光装置内の不必要な場所に光が当たることになり材料の劣化等の問題が生じる可能性がある。
特許文献３では、「フォトマスク用防塵カバー」の「平均光線透過率」が検討されているが、そこで検討される光線の波長は「２４０〜５００ｎｍ」の範囲であり、かつ、斜入射光線の光透過率に関しては検討されていない。

特開昭５８−２１９０２３号米国特許第４８６１４０２号明細書特公昭６３−２７７０７号公報特開平７−１６８３４５号公報国際公開ＷＯ９９／４９５０４

本発明は、上記事情に鑑み、リソグラフィーに際して、斜入射光の光透過率が、リソグラフィー操作にとって許容できる範囲を拡げた、リソグラフィー用ペリクルを提供することを課題とする。

本発明のペリクルは、ＡｒＦエキシマレーザー光を用いたリソグラフィーに使用されるペリクルであって、そのペリクル膜厚が垂直入射のＡｒＦレーザー光に対して極大透過率を示す膜厚である場合に、そのペリクル膜の膜厚が４００ｎｍ以下であることを特徴とする。
また、ペリクル膜が斜入射のＡｒＦレーザー光に対して極大透過率を持つことを特徴とする。この場合に、斜入射の角度が１３．４度であること、そして、そのペリクル膜の膜厚が６００ｎｍ以下であり、特にそのペリクル膜の膜厚が５６０〜５６３ｎｍ、もしくは４８９〜４９４ｎｍ、もしくは４１８〜４２５ｎｍ、もしくは３４６〜３５５ｎｍ、もしくは２７５〜２８６ｎｍ、もしくは２０４〜２１７ｎｍであるものが好ましい。

また、ＡｒＦエキシマレーザー光を用いたリソグラフィーに使用されるペリクルにおいて、ペリクル膜の膜厚が２７０ｎｍから２９０ｎｍの範囲であり、かつＡｒＦエキシマレーザー光に対する透過率が、入射角０度から２０度に対して９９．０％以上であること、あるいは、ＡｒＦエキシマレーザー光を用いたリソグラフィーに使用されるペリクルにおいて、ペリクル膜の膜厚が２００ｎｍから２２０ｎｍの範囲であり、かつＡｒＦエキシマレーザー光に対する透過率が、入射角０度から２０度に対して９９．５％以上であることを特徴とする。

本発明によれば、ＡｒＦエキシマレーザー光を用いたリソグラフィーに使用されるペリクルにおいて、そのペリクル膜厚が垂直入射のＡｒＦレーザー光に対して極大透過率を示す膜厚である場合に、そのペリクル膜の膜厚を４００ｎｍ以下にすることによって垂直入射および最大１９度までの斜入射に対して透過率が９８％を超える高い透過率を持つペリクル膜を提供することが可能になった。
またペリクル膜の膜厚を垂直入射のＡｒＦレーザー光に対して極大透過率を示す膜厚に調整した場合には入射角の増大に伴い透過率は低下するが、ペリクルの膜厚を垂直入射のＡｒＦレーザー光に対して極大透過率を示す膜厚に調整するのではなく、斜入射光に対して極大透過率を持つように調整することで、ペリクル透過率の入射角依存性を小さくすることができる。

特には、１３．４度の斜入射ＡｒＦレーザー光に対して極大透過率を示す膜厚にすることによって、斜入射ＡｒＦレーザー光の０度〜１９度の全入射角範囲においてペリクル透過率の入射角依存性を最小にすることができる。この場合ペリクル膜の膜厚は垂直入射のＡｒＦレーザー光に対して極大透過率を示す膜厚に対して約１．４％厚くするようにすれば良い。
更にはペリクル膜の膜厚を１３．４度の斜入射ＡｒＦレーザー光に対して極大透過率を示す膜厚にする際に、ペリクル膜の膜厚を６００ｎｍ以下にすることにより、入射角０〜１９度に対して透過率が９８％を超える高い透過率を持つペリクルを提供できる。

更には、ペリクル膜の膜厚が２７０ｎｍから２９０ｎｍの範囲であり、かつＡｒＦエキシマレーザー光に対する透過率が、入射角０度から２０度に対して９９．０％以上である高い透過率を持つペリクル、また、ペリクル膜の膜厚が２００ｎｍから２２０ｎｍの範囲であり、かつＡｒＦエキシマレーザー光に対する透過率が、入射角０度から２０度に対して９９．５％以上である高い透過率を持つペリクル、を提供できる。

ペリクルは、一般に短波長の光に対して使用される為、その波長の光に対して最大透過率が出るように設計され、製造される。光の干渉効果により、膜厚を制御することで、幾つかの膜厚で透過率が極大値を取ることが知られている。膜厚が薄い方が膜材料による散乱等が減少する為透過率が高いが、一方で膜厚が厚い方が膜の機械的強度が向上し、取り扱いが容易になる。現在のＡｒＦレーザー用ペリクルの場合、その両者の兼ね合いから、一般にその膜厚は８３０ｎｍ程度に制御されている。

しかし、上に記したように、この膜厚においては、垂直入射に対して最大透過率が出るように膜厚を設定されているので、垂直入射光に対してはほぼ１００％の透過率を示すものの、入射角の増大に従い透過率は低下し、前述のとおり、１９度の斜入射光に対しては約９２％の透過率しかなく、高ＮＡ露光装置で使用するには問題がある。

上記の不具合を解消するために、発明者は、そのペリクル膜厚が垂直入射のＡｒＦレーザー光に対して極大透過率を示す膜厚である条件の元でペリクル膜厚と斜入射光の透過率との関係を鋭意検討した結果、そのペリクル膜の膜厚を４００ｎｍ以下にすることにより、垂直入射光に対してはほぼ１００％の透過率を有し、かつ、１９度の斜入射光に対しても９８％以上の透過率を有することを見出した。

つまりはＡｒＦレーザー光のペリクル膜への入射角が０度から１９度の範囲に亘り９８％以上の透過率を有するペリクルが提供できるのである。
また、ペリクル膜の膜厚を垂直入射光に対して最大透過率を示すように膜厚を制御することに換えて、ペリクル膜の膜厚をＡｒＦレーザー光の垂直入射ではなく、斜入射に対して極大透過率を示す膜厚にすることによって透過率の入射角依存性を小さくすることができる。特にはペリクル膜の膜厚を１３．４度の斜入射ＡｒＦレーザー光に対して極大透過率を示す膜厚にすることによって、垂直入射光に対する透過率は低下するものの、１９度までの斜入射光に対する透過率は向上し、入射角が０〜１９度の範囲での斜入射に対して透過率の入射角依存性を最小にできることを見出した。

更には、ペリクル膜の膜厚を１３．４度の斜入射ＡｒＦレーザー光に対して極大透過率を示す膜厚にする際に、ペリクル膜の膜厚を６００ｎｍ以下にすることにより、垂直入射および最大１９度までの斜入射に対して透過率が９８％を超える高い透過率を持つペリクル膜を製造でき、上記の問題が発生しなくなることを見出した。
この場合ペリクル膜の膜厚を１３．４度の斜入射ＡｒＦレーザー光に対して極大透過率を示す膜厚にすることによって、垂直入射光に対して極大透過率を示す膜厚にする場合と比較して、入射角が０〜１９度の範囲での斜入射に対して透過率が９８％を超える高い透過率を持つペリクル膜をより厚い膜厚で製造でき、膜の機械的強度がより高く、透過率の入射角依存性が小さいペリクルを提供することができる。

具体的には、ペリクル膜の膜厚を５６０〜５６３ｎｍ、もしくは４８９〜４９４ｎｍ、もしくは４１８〜４２５ｎｍ、もしくは３４６〜３５５ｎｍ、もしくは２７５〜２８６ｎｍ、もしくは２０４〜２１７ｎｍの各範囲に制御することにより、入射角が０〜１９度に対して９８％以上の透過率を有するペリクルを製造することができる。

また、ペリクル膜の膜厚が２７０ｎｍから２９０ｎｍの範囲のものにあっては、ＡｒＦエキシマレーザー光に対する透過率が、入射角０度から２０度に対して９９．０％以上とすることができることを見出し、さらに、ペリクル膜の膜厚が２００ｎｍから２２０ｎｍの範囲のものにあっては、ＡｒＦエキシマレーザー光に対する透過率が、入射角０度から２０度に対して９９．５％以上とすることができることをも見出した。

以下、本発明の実施例を示す。
[実施例１]
環状構造を有するパーフルオロエーテル重合体、サイトップＣＴＸ−Ｓ（旭硝子（株）製商品名）をパーフルオロトリブチルアミンに溶解させた３％溶液をシリコンウエハ上に滴下し、スピンコート法により８５０ｒｐｍでウエハを回転させウエハ上に広げた。その後室温で３０分間乾燥後、１８０℃で乾燥し均一な膜とした。これに接着剤を塗布したアルミ枠を貼り付け、膜だけを剥離しペリクル膜とした。
表面がアルマイト処理されたアルミニウム製のフレーム（外寸：１４９ｍｍ×１２２ｍｍ×５．８ｍｍ）の上面に膜接着剤を、下面にマスク粘着剤を塗布した。その後膜接着剤側をアルミ枠に取ったペリクル膜に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。

完成したペリクルの膜厚を測定したところ２７７ｎｍであった。この膜厚はＡｒＦレーザー（波長１９３ｎｍ）の垂直入射光に対して極大透過率となる膜厚であった。
このペリクルの透過率の入射角依存性を測定したところ、垂直入射（入射角０度）で９９．９％、１０度の斜入射で９９．８％、１９度の斜入射で９８．６％と、入射角が大きくなるに従い透過率は低下するものの、０〜１９度の全入射角に対して９８％以上という高い透過率を示した。この場合の透過率の角度依存性を図１に示す。

［実施例２］
環状構造を有するパーフルオロエーテル重合体、サイトップＣＴＸ−Ｓ（旭硝子（株）製商品名）をパーフルオロトリブチルアミンに溶解させた５％溶液をシリコンウエハ上に滴下し、スピンコート法により８３５ｒｐｍでウエハを回転させウエハ上に広げた。その後室温で３０分間乾燥後、１８０℃で乾燥し均一な膜とした。これに接着剤を塗布したアルミ枠を貼り付け、膜だけを剥離しペリクル膜とした。

表面がアルマイト処理されたアルミニウム製のフレーム（外寸：１４９ｍｍ×１２２ｍｍ×５．８ｍｍ）の上面に膜接着剤を、下面にマスク粘着剤を塗布した。その後膜接着剤側をアルミ枠に取ったペリクル膜に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
完成したペリクルの膜厚を測定したところ８４２ｎｍであった。この膜厚はＡｒＦレーザー（波長１９３ｎｍ）の１３．４度の斜入射光に対して極大透過率となる膜厚であった。

このペリクルの透過率の入射角依存性を測定したところ、垂直入射（入射角０度）で９７．０％、斜入射の１０度で９９．１％、１３．４度で９９．７％、１９度で９７．０％と、膜厚を垂直入射で極大透過率になるように定めた場合（比較例１）に比較して、最低透過率が９７％となり、０〜１９度の全入射角に対して９７％以上という高い透過率を示した。この場合の透過率の角度依存性は非常に小さかった。この場合の透過率の角度依存性を図２に示す。

［実施例３］
環状構造を有するパーフルオロエーテル重合体、サイトップＣＴＸ−Ｓ（旭硝子（株）製商品名）をパーフルオロトリブチルアミンに溶解させた４％溶液をシリコンウエハ上に滴下し、スピンコート法により９００ｒｐｍでウエハを回転させウエハ上に広げた。その後室温で３０分間乾燥後、１８０℃で乾燥し均一な膜とした。これに接着剤を塗布したアルミ枠を貼り付け、膜だけを剥離しペリクル膜とした。

表面がアルマイト処理されたアルミニウム製のフレーム（外寸：１４９ｍｍ×１２２ｍｍ×５．８ｍｍ）の上面に膜接着剤を、下面にマスク粘着剤を塗布した。その後膜接着剤側をアルミ枠に取ったペリクル膜に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
完成したペリクルの膜厚を測定したところ４２１ｎｍであった。この膜厚はＡｒＦレーザー（波長１９３ｎｍ）の１３．４度の斜入射光に対して極大透過率となる膜厚であった。

このペリクルの透過率の入射角依存性を測定したところ、垂直入射（入射角０度）で９９．１％、斜入射の１０度で９９．８％、１３．４度で９９．９％、１９度で９９．１％と透過率の角度依存性も少なく、０〜１９度の全入射角に対して９９％以上の高い透過率を示した。この場合の透過率の角度依存性を図３に示す。

［実施例４］
環状構造を有するパーフルオロエーテル重合体であるサイトップＣＴＸ−Ｓ（旭硝子（株）製商品名）をパーフルオロトリブチルアミンに溶解させた５％溶液をシリコンウエハ上に滴下し、スピンコート法により８４５ｒｐｍでウエハを回転させウエハ上に広げた。その後室温で３０分間乾燥後、１８０℃で乾燥し均一な膜とした。これに接着剤を塗布したアルミ枠を貼り付け、膜だけを剥離しペリクル膜とした。

表面がアルマイト処理されたアルミニウム製のフレーム（外寸：１４９ｍｍ×１２２ｍｍ×５．８ｍｍ）の上面に膜接着剤を、下面にマスク粘着剤を塗布した。その後膜接着剤側をアルミ枠に取ったペリクル膜に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
完成したペリクルの膜厚を測定したところ８３５ｎｍであった。この膜厚はＡｒＦレーザー（波長１９３ｎｍ）の約８度の斜入射に対して極大透過率となる膜厚であった。

このペリクルの透過率の入射角依存性を測定したところ、０度の垂直入射で９９．２％、８度の斜入射で９９．７％、１２度の斜入射で９９．２％となった。
約８度の斜入射光に対して極大透過率となるようにペリクル膜を製作することにより、０度から１２度の全入射角範囲での最低透過率が９９．２％となり、膜厚を垂直入射で極大透過率になるように定めた場合（比較例１）の０度から１２度の全入射角範囲での最低透過率９７．８％と比較して、最低透過率が高くなり、角度依存性が小さかった。この場合の透過率の角度依存性を図４に示す。

［実施例５］
環状構造を有するパーフルオロエーテル重合体であるサイトップＣＴＸ−Ｓ（旭硝子（株）製商品名）をパーフルオロトリブチルアミンに溶解させた５％溶液をシリコンウエハ上に滴下し、スピンコート法により８３４ｒｐｍでウエハを回転させウエハ上に広げた。その後室温で３０分間乾燥後、１８０℃で乾燥し均一な膜とした。これに接着剤を塗布したアルミ枠を貼り付け、膜だけを剥離しペリクル膜とした。

表面がアルマイト処理されたアルミニウム製のフレーム（外寸：１４９ｍｍ×１２２ｍｍ×５．８ｍｍ）の上面に膜接着剤を、下面にマスク粘着剤を塗布した。その後膜接着剤側をアルミ枠に取ったペリクル膜に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
完成したペリクルの膜厚を測定したところ８４６ｎｍであった。この膜厚はＡｒＦレーザー（波長１９３ｎｍ）の１５．２度斜入射に対して極大透過率となる膜厚であった。

このペリクルの透過率の入射角依存性を測定したところ、１０度の斜入射で９８．４％、１５度の斜入射で９９．７％、１９度の斜入射で９８．４％となった。
１５．２度の斜入射光に対して極大透過率となるようにペリクル膜を製作することにより、１０度から１９度の斜入射光に対する最低透過率は９８．４％となり、膜厚を垂直入射で極大透過率になるように定めた場合（比較例１）の１０度から１９度の斜入射光に対する最低透過率９２％に比較して、最低透過率が高くなり、透過率の角度依存性は非常に小さかった。この場合の透過率の角度依存性を図５に示す。

［実施例６］
サイトップＣＴＸ−Ｓ（旭硝子（株）製）をパーフルオロトリブチルアミンに溶解させた３％溶液をシリコンウエハ上に滴下し、スピンコート法により８４５ｒｐｍでウエハを回転させウエハ上に広げた。その後室温で３０分間乾燥後、１８０℃で乾燥し均一な膜とした。これに接着剤を塗布したアルミ枠を貼り付け、膜だけを剥離しペリクル膜とした。

表面がアルマイト処理されたアルミニウム製のフレーム（外寸：１４９ｍｍ×１２２ｍｍ×５．８ｍｍ）の上面に膜接着剤を、下面にマスク粘着剤を塗布した。その後膜接着剤側をアルミ枠に取ったペリクル膜に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
完成したペリクルの膜厚を測定したところ２８１ｎｍであった。この膜厚はＡｒＦレーザー（波長１９３ｎｍ）の１３．４度の斜入射光に対して極大透過率となる膜厚であった。

このペリクルの透過率の入射角依存性を測定したところ、垂直入射（入射角０度）で９９．４％、斜入射の１０度で９９．５％、１９度で９９．４％となり、膜厚を垂直入射で極大透過率になるように定めた場合（実施例１）に比較して、０度から１９度の全入射角範囲での最低透過率が９９．４％となり、最低透過率が高くなり、透過率の角度依存性も小さかった。この場合の透過率の角度依存性を図６に示す。

［実施例７］
環状構造を有するパーフルオロエーテル重合体、サイトップＣＴＸ−Ｓ（旭硝子（株）製商品名）をパーフルオロトリブチルアミンに溶解させた３％溶液をシリコンウエハ上に滴下し、スピンコート法により８４４ｒｐｍでウエハを回転させウエハ上に広げた。その後室温で３０分間乾燥後、１８０℃で乾燥し均一な膜とした。これに接着剤を塗布したアルミ枠を貼り付け、膜だけを剥離しペリクル膜とした。

表面がアルマイト処理されたアルミニウム製のフレーム（外寸：１４９ｍｍ×１２２ｍｍ×５．８ｍｍ）の上面に膜接着剤を、下面にマスク粘着剤を塗布した。その後膜接着剤側をアルミ枠に取ったペリクル膜に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
完成したペリクルの膜厚を測定したところ２８２ｎｍであった。この膜厚はＡｒＦレーザー（波長１９３ｎｍ）の１４．１度の斜入射光に対して極大透過率となる膜厚であった。
このペリクルの透過率の入射角依存性を測定したところ、垂直入射（入射角０度）で９９．４％、１０度の斜入射で９９．５％、２０度で９９．４％となり、０〜２０度の全入射角に対して９９％以上という高い透過率を示した。この場合の透過率の角度依存性を図７に示す。

［実施例８］
環状構造を有するパーフルオロエーテル重合体、サイトップＣＴＸ−Ｓ（旭硝子（株）製商品名）をパーフルオロトリブチルアミンに溶解させた２．５％溶液をシリコンウエハ上に滴下し、スピンコート法により８００ｒｐｍでウエハを回転させウエハ上に広げた。その後室温で３０分間乾燥後、１８０℃で乾燥し均一な膜とした。これに接着剤を塗布したアルミ枠を貼り付け、膜だけを剥離しペリクル膜とした。

表面がアルマイト処理されたアルミニウム製のフレーム（外寸：１４９ｍｍ×１２２ｍｍ×５．８ｍｍ）の上面に膜接着剤を、下面にマスク粘着剤を塗布した。その後膜接着剤側をアルミ枠に取ったペリクル膜に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
完成したペリクルの膜厚を測定したところ２１１ｎｍであった。この膜厚はＡｒＦレーザー（波長１９３ｎｍ）の１４．１度の斜入射光に対して極大透過率となる膜厚であった。
このペリクルの透過率の入射角依存性を測定したところ、垂直入射（入射角０度）で９９．６％、１０度の斜入射で９９．８％、２０度で９９．６％となり、０〜２０度の全入射角に対して９９．５％以上という高い透過率を示した。この場合の透過率の角度依存性を図８に示す。

［比較例１］
環状構造を有するパーフルオロエーテル重合体、サイトップＣＴＸ−Ｓ（旭硝子（株）製商品名）をパーフルオロトリブチルアミンに溶解させた５％溶液をシリコンウエハ上に滴下し、スピンコート法により８５０ｒｐｍでウエハを回転させウエハ上に広げた。その後室温で３０分間乾燥後、１８０℃で乾燥し均一な膜とした。これに接着剤を塗布したアルミ枠を貼り付け、膜だけを剥離しペリクル膜とした。

表面がアルマイト処理されたアルミニウム製のフレーム（外寸：１４９ｍｍ×１２２ｍｍ×５．８ｍｍ）の上面に膜接着剤を、下面にマスク粘着剤を塗布した。その後膜接着剤側をアルミ枠に取ったペリクル膜に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
完成したペリクルの膜厚を測定したところ８３０ｎｍであった。この膜厚はＡｒＦレーザー（波長１９３ｎｍ）の垂直入射光に対して極大透過率となる膜厚であった。

このペリクルの透過率の入射角依存性を測定したところ、垂直入射（入射角０度）で９９．７％と高い透過率を示すものの、１０度の斜入射で９８．７％、１９度の斜入射で９２．０％と入射角が大きくなるに従い徐々に透過率が低下し、入射角が１２度を超えると透過率は９８％以下になってしまった。この場合の透過率の角度依存性を図９に示す。

本発明によれば、リソグラフィーに際してペリクル透過率の入射角依存性を小さくすることができるので、半導体デバイスあるいは液晶表示板などを高効率に製造することができ、かつ、液浸露光利用にも大きく道が開けるようになるから、ＩＴ産業界に貢献する処大である。

実施例１のペリクル膜の透過率の入射角依存性を示すグラフである。実施例２のペリクル膜の透過率の入射角依存性を示すグラフである。実施例３のペリクル膜の透過率の入射角依存性を示すグラフである。実施例４のペリクル膜の透過率の入射角依存性を示すグラフである。実施例５のペリクル膜の透過率の入射角依存性を示すグラフである。実施例６のペリクル膜の透過率の入射角依存性を示すグラフである。実施例７のペリクル膜の透過率の入射角依存性を示すグラフである。実施例８のペリクル膜の透過率の入射角依存性を示すグラフである。比較例１のペリクル膜の透過率の入射角依存性を示すグラフである。

Claims

ＡｒＦエキシマレーザー光を用いたリソグラフィーに使用されるペリクルであって、そのペリクル膜厚が角度１３．４度の斜入射のＡｒＦレーザー光に対して極大透過率を持つことを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。
請求項１に記載のペリクルであって、そのペリクル膜の膜厚が６００ｎｍ以下２００ｎｍ以上であるリソグラフィー用ペリクル。
請求項１に記載のペリクルであって、そのペリクル膜の膜厚が５６０〜５６３ｎｍ、もしくは４８９〜４９４ｎｍ、もしくは４１８〜４２５ｎｍ、もしくは３４６〜３５５ｎｍ、もしくは２７５〜２８６ｎｍ、もしくは２０４〜２１７ｎｍであるリソグラフィー用ペリクル。