JPWO2012004950A1 - ペリクル膜 - Google Patents
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Abstract
Description
[1]非晶質フルオロポリマーを含有するリソグラフィ用ペリクル膜であって、5〜800質量ppmのフッ素系溶剤を含有するペリクル膜。
[2]前記非晶質フルオロポリマーが、主鎖に環状構造を有するパーフルオロ脂環式ポリマーである、[1]に記載のペリクル膜。
[3]前記フッ素系溶剤が、前記非晶質ポリマーを可溶である、[1]に記載のペリクル膜。
[4]前記フッ素系溶剤は、パーフルオロトリアルキルアミンである、[3]に記載のペリクル膜。
[5]前記リソグラフィ用ペリクル膜のリソグラフィ露光光の波長は、200nm以下である、[1]に記載のペリクル膜。
[6]前記[1]に記載のペリクル膜と、前記ペリクル膜を貼り付けられたペリクル枠と、を含むペリクル。
前記工程Bにおいて、前記塗布膜中に5〜800質量ppmのフッ素系溶剤を残留させる、ペリクル膜の製造方法。
本発明のペリクル膜は、非晶質フルオロポリマーを主成分として含む。本願でいう非晶質とは、X線回折法で明確な回折現象が示されないことを言う。非晶質フルオロポリマーは、エキシマレーザー光に対する透過性が高く、溶剤可溶性を有するからである。非晶質フルオロポリマーは、波長193nmの光に対して透過率が99%以上になる膜厚設計が可能である樹脂であることが求められる。また、非晶質フルオロポリマーは、厚さ1μm以下のフィルムとしたときに、自立膜として存在可能であることが求められる。自立膜として存在可能とは、ペリクル枠に貼り付けたときに、皺や弛みが発生しない膜を意味する。
aが0の場合、Rfは炭素数4〜100の直鎖または分岐鎖状で水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換されているフルオロアルキル基または炭素数4〜100の直鎖または分岐鎖状で水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換されているエーテル結合を含むフルオロアルキル基から選ばれる少なくとも1種;
aが1の場合、Rfは炭素数3〜99の直鎖または分岐鎖状で水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換されているフルオロアルキル基または炭素数3〜99の直鎖または分岐鎖状で水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換されているエーテル結合を含むフルオロアルキル基から選ばれる少なくとも1つである。
1)露光光の照射によりポリマー中のC−C結合またはC−F結合が切断されて発生したラジカルを、フッ素系溶剤が安定化させることで、ペリクル膜の劣化を抑制する。特に、フッ素系溶剤がパーフルオロトリアルキルアミンである場合には、N原子の非共有電子対の密度が、パーフルオロアルキル基によって低下していると考えられるので、ラジカルを安定化させることができる。
2)フッ素系溶剤が光吸収剤として作用する。ペリクルに照射された露光光の大部分はペリクル膜を透過するが、その一部はペリクル膜に吸収される。ペリクル膜に吸収された露光光が、ペリクル膜のポリマーを劣化させると考えられるが、それをフッ素系溶剤が吸収していると考えられる。
本発明のペリクル膜は、1)非晶質フルオロポリマーとフッ素系溶剤とを含む溶液の塗布膜を成膜する工程Aと、2)前記塗布膜中のフッ素系溶剤を除去する工程Bとを含む。
非晶質フルオロポリマーであるサイトップ(型番:CHX809SP2、旭硝子株式会社)を、フッ素系溶剤であるパーフルオロトリブチルアミン(EFL−174S、トーケムプロダクツ)に溶解して、ポリマー含量が6重量%の溶液を得た。得られた溶液を、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)製メンブランフィルター(ポアサイズ:500nm)でろ過して、異物を除去したろ液を得た。
GC/MS装置:AGILENT製 6890/5973-GC-MS
カラム:HT-1
温度プログラム:40℃〜320℃に、15℃/分の速度で昇温して5分間保持した。
大塚電子製 発光測定システム MCPD-7000
波長180〜400nmの光の透過率を測定し、物質の屈折率との関係から多重干渉による透過率ピークのフィッティングシミュレーションにより膜厚を求めた。
大塚電子製 発光測定システム MCPD-7000
波長193nmの光の透過率を測定した。
乾燥温度を150℃、乾燥時間を20分とした以外は、実施例1と同様にペリクル膜を得た。実施例1と同様に、ペリクル膜に含まれるフッ素系溶剤をガス化させ、ガス化したフッ素系溶剤の量を求めた。フッ素系溶剤の含有量は0.7質量ppmであった。
乾燥温度を180℃、乾燥時間を5分とした以外は、実施例1と同様にペリクル膜を得た。実施例1と同様に、ペリクル膜に含まれるフッ素系溶剤をガス化させ、ガス化したフッ素系溶剤の量を求めた。フッ素系溶剤の含有量は0.7質量ppmであった。
スピンコート条件を変更し、さらに表2に記載の乾燥温度、乾燥時間とした以外は、実施例1と同様にペリクル膜を得た。得られたペリクル膜の膜厚は281nmであった。実施例1と同様に、ペリクル膜に含まれるフッ素系溶剤をガス化させ、ガス化したフッ素系溶剤の量を求めた。フッ素系溶剤の含有量を表2に示す。
比較例2で得られたペリクル膜に、以下の方法でフッ素系溶剤を吸収させた。
(方法)
6800mlのガラス製の密閉容器に比較例2で得られたペリクル膜を入れ、それぞれ表3に示す溶剤を、表3に示す量滴下し、溶剤雰囲気を調整後、24時間放置した。ペリクル膜に吸収された溶剤量をGC/MS装置にて実施例1と同様の方法で測定した。フッ素系溶剤の種類及び溶剤の滴下量、ペリクル膜に吸収されたフッ素系溶剤量を表3に示す。(フッ素系溶剤)・溶剤1:1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-トリデカフルオロオクタン(旭硝子社製 AC−6000)、沸点:114℃・溶剤2:1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-デカフルオロ-3メトキシ−4(トリフルオロメチル)−ペンタン(旭硝子社製 CT−solv.100E)、沸点:97℃
図5のグラフは、ArFエキシマレーザー光の照射エネルギー量(X軸)と、ペリクル膜の膜厚減少量(Y軸)との関係を示すグラフである。比較例2(溶剤量:1.8質量ppm)のデータを◆で示し;実施例13(溶剤量:32質量ppm)のデータを■で示し;実施例15(溶剤量:23質量ppm)のデータを▲で示す。非晶質フルオロポリマーを溶解させることができるフッ素系溶剤であれば、溶剤の種類に関係なく、溶剤含有量が増えると、膜厚減少量が少なくなり、耐光性が改善することがわかる。
12 ペリクル膜
13 接着剤層
14 ペリクル枠
15 粘着層
Claims (7)
- 非晶質フルオロポリマーを含有するリソグラフィ用ペリクル膜であって、5〜800質量ppmのフッ素系溶剤を含有するペリクル膜。
- 前記非晶質フルオロポリマーが、主鎖に環状構造を有するパーフルオロ脂環式ポリマーである、請求項1に記載のペリクル膜。
- 前記フッ素系溶剤が、前記非晶質ポリマーを可溶である、請求項1に記載のペリクル膜。
- 前記フッ素系溶剤は、パーフルオロアルキルアミンである、請求項3に記載のペリクル膜。
- 前記リソグラフィ用ペリクル膜のリソグラフィ露光光の波長は、200nm以下である、請求項1に記載のペリクル膜。
- 請求項1に記載のペリクル膜と、前記ペリクル膜を貼り付けられたペリクル枠と、を含むペリクル。
- 非晶質フルオロポリマーとフッ素系溶剤とを含む溶液の塗布膜を成膜する工程Aと、前記塗布膜中のフッ素系溶剤を除去する工程Bとを含む、ペリクル膜の製造方法であって、
前記工程Bにおいて、前記塗布膜中に5〜800質量ppmのフッ素系溶剤を残留させる、ペリクル膜の製造方法。
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