JP2018049256A - ペリクル - Google Patents
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Abstract
Description
〔1〕
面積1000cm2以上の平面視矩形状の開口部を備えるペリクル用枠体と、当該ペリクル用枠体の一方の端面に前記開口部を覆うように展張支持されたペリクル膜と、前記ペリクル用枠体の他方の端面にマスク粘着剤と、を含むペリクルであって、
前記ペリクル膜の膜厚が1.0μm以上3.0μm以下であり、前記ペリクル膜面内の膜厚バラツキが80nm以下である、ペリクル。
〔2〕
前記ペリクル膜の365nmの波長に対する透過率が、95%以上である、〔1〕に記載のペリクル。
〔3〕
前記ペリクルを貼り付けたマスクを使用して露光した時に、転写されるL/S(縦縞模様)におけるパターン寸法精度の面内レンジが、200nm以下である、〔1〕又は〔2〕に記載のペリクル。
〔4〕
前記ペリクルを貼り付けたマスクを使用して露光した時に、転写されるコンタクトホールにおけるパターン寸法精度の面内レンジが、300nm以下である、〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載のペリクル。
本実施形態のペリクルは、面積1000cm2以上の平面視矩形状の開口部を備えるペリクル用枠体と、当該ペリクル用枠体の一方の端面に前記開口部を覆うように展張支持されたペリクル膜と、前記ペリクル用枠体の他方の端面にマスク粘着剤と、を含むペリクルであって、前記ペリクル膜の膜厚が1.0μm以上3.0μm以下であり、前記ペリクル膜面内の膜厚バラツキが80nm以下である。
本実施形態におけるペリクル膜は、ペリクル用枠体の一方の端面に前記開口部を覆うように展張支持されたものである。このようなペリクル膜を構成する成分としては、特に制限されないが、例えば、セルロース誘導体(ニトロセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等、あるいはこれら2種以上の混合物)、フッ素系ポリマー(テトラフルオロエチレン−ビニリデンフルオライド−ヘキサフルオロプロピレンの3元コポリマー、主鎖に環状構造を持つポリマーであるデュ・ポン社製のテフロンAF(商品名)、旭硝子社製のサイトップ(商品名)、アウジモント社製のアルゴフロン(商品名)等)等のポリマー等が用いられる。
また、ペリクルを貼り付けたマスクを使用して露光した時にコンタクトホールを形成する場合、転写されるコンタクトホールにおけるCDの面内レンジは、好ましくは300nm以下であり、より好ましくは250nm以下であり、さらに好ましくは200nm以下、よりさらに好ましくは150nm以下である。
L/S及びコンタクトホールにおけるCDの面内レンジが上記範囲にあることにより、解像度が2.0μm以降の等倍投影露光の場合で大面積であっても、ラインとラインの間のスペースが接触することや、所望のホールが確保できないことや、パターンの切れ不良が、発生しない傾向にある。
本実施形態におけるペリクル用枠体は、面積1000cm2以上の平面視矩形状の開口部を備える。ペリクル用枠体の形状は、マスク形状と相似の矩形や正方形である。そのため、ペリクル用枠体も同様にマスク形状と相似の矩形や正方形である。
必要に応じてペリクル用枠体の内壁面又は全面に、異物を捕捉するための粘着剤(アクリル系、酢酸ビニル系、シリコーン系、ゴム系等)やグリース(シリコーン系、フッ素系等)を塗布しても良い。
ペリクル膜は、例えばポリマー溶液から成膜された薄膜が使用されている。この薄膜には張力が存在する。一方、この張力は、ペリクル膜が撓んだりしわが入らないようにするために必要である。
ぺリクル膜とペリクル用枠体に接着するための膜接着剤は、ペリクル膜の材質とペリクル枠体の材質によって適宜選択する。たとえば、エポキシ系、アクリル系、シリコーン系、フッ素系等の接着剤が使用される。
本実施形態に係るペリクルでは、マスク粘着剤として、ペリクルをフォトマスクに均一に貼り付け可能で、マスクからペリクルを容易に剥離できるように、比較的柔らかいホットメルト材料やフォームが好適である。フォームの場合は、その断面にアクリル系や酢酸ビニル系の粘着性材料あるいは非粘着性材料で覆うことにより、フォームからの発塵を防ぐことが出来る。
(1)膜厚バラツキ(nm)
外寸40mm×35mm、長辺幅、短辺幅ともに5mmのアルミニウムの枠体に両面テープを貼付けた。この枠体をペリクル膜の9点の測定対象場所(後述)それぞれに対して貼付け、ペリクルのペリクル膜を切り出した。その後、切り出した膜付枠体を紫外可視分光光度計(株式会社島津製作所、UV−1800)にセットし測定した(測定波長365nm)。測定した9点の測定対象場所の膜厚のうち、一番厚い膜厚から一番薄い膜厚を引いた値を膜厚バラツキとした。
上記膜厚バラツキと同じ方法で9点の測定対象場所毎の膜付枠体を切り出した。切り出した膜付枠体を測定し、一番厚い膜厚と一番薄い膜厚の中間(平均)を膜厚とした。
上記膜厚バラツキと同じ方法で9点の測定対象場所毎の膜付枠体を切り出した。切り出した膜付枠体を紫外可視分光光度計(株式会社島津製作所、UV−1800)にセットし365nmの透過率を測定した。9点の透過率の相加平均値を透過率とした。
シリコン基板(12インチ、300mmφ)を成膜基板として、その表面にシランカップリングを行い、離型性を向上させた。次いで、ポリマー溶液や条件はそれぞれの実施例と同じものを用い、膜厚バラツキが同じになるようにして成膜を行った。次いで仮枠に成膜基板から乾燥された膜を引き剥がした。
上記(4)にて作製されたウェハー上のパターンをSEM(株式会社日立ハイテクノロジーズ社製 SU8000走査電子顕微鏡)にて、加電圧1.0kV、30000〜35000倍にて観察し、SEM上でL/Sの解像度2.0μmのパターンに対して、9本ラインの中央ラインの長さを任意の三カ所で測定し、平均を出した。それを縦18か所(0.4mmピッチ)行い、各々の平均値から一番長い長さから一番短い長さを算出し、その値を5倍した値を、CDの面内レンジとした。
また、コンタクトホールの解像度2.0μmのパターンに対して、9か所のホールの直径を算出し、「2.0μm−算出結果」の値を5倍した値を、コンタクホールでのCDの面内レンジとした。
ペリクル膜を構成するポリマーであるセルロースアセテートプロピオネート(CAP 4 80−20、 Eastman Chemical Company製)と、溶媒である乳酸エチルとを混合し、固形分濃度4質量%の溶液を作製した。この溶液を窒素で0.01MPaに加圧し、口径0.1μmのメンブレンフィルターを通してろ過を行った。
ペリクル用枠体として、ヤング率70[GPa]のアルミニウム合金(5052)製であって、外寸900mm×750mm、外側コーナーR10mm、内側コーナーR2mm、長辺幅が8mm、短辺幅が7mm、高さが5.2mmである枠体を用いたこと以外は、実施例1と同様にペリクルを作製した。また、このペリクルの膜厚バラツキの算出場所を中央1ヶ所、ペリクルの対角線を引いた時の中央から345mmの4ヶ所、中央から690mmの4ヶ所の計9か所の膜厚を測定したこと以外は、実施例1と同様に評価を行った。
ペリクル膜を構成するポリマーであるセルロースアセテートプロピオネート(CAP 4 80−20、 Eastman Chemical Company製)と、溶媒である乳酸エチルとを混合し、固形分濃度4質量%の溶液を作製した。この溶液を窒素で0.01MPaに加圧し、口径0.1μmのメンブレンフィルターを通してろ過を行った。
成膜用基板を物理研磨し、物理研磨後さらに化学研磨し、純水で洗浄したものを用意した。この成膜用基板をクリーンオーブンで100℃、2時間加熱乾燥した後、室温まで冷却した。次に、この成膜用基板とヘキサメチルジシラザン20ccを導入した直径5cmの上部が開放されたポリエチレンの容器を、清浄な金属製の箱に室温で30分間封入した。成膜用基板を取り出した後、クリーンオーブンで100℃、2時間加熱した。このようにして準備した成膜用基板をクローズドカップ式のスピンコーターにセットし、先に準備したポリマー溶液をガラス基板上に約300g供給し、成膜用基板を320rpmで600sec間回転させた。この成膜用基板を60℃のホットプレート上に15分間載せて、ポリマー溶液中の溶媒を蒸発させて、主膜を作製した。
次に、反射防止層を構成するポリマーとしてフッ素樹脂(旭硝子(株)社製、サイトップ)をフッ素系溶媒であるサイトップCT−SLV(旭硝子(株)社製)の溶液で調製し、孔径0.1μmのメンブレンフィルターでろ過し、そのろ過液を上記主膜の中心層の上に5cc滴下し、320rpmで200秒間回転させた後、風乾し反射防止層を形成したこと以外は、実施例1と同様のペリクルフレームにてペリクルを作製し、実施例1と同様の評価を行った。
実施例3の成膜基板を100rpmで500sec間回転させ、更に、実施例2と同様のペリクルフレームを使用してペリクルを作製したこと以外は、実施例3と同様にしてペリクルを作製した。更に、実施例1と同様の評価を行った。
ペリクル膜を構成するポリマーであるフッ素樹脂(旭硝子(株)社製、サイトップ)をフッ素系溶媒(旭硝子(株)社製、サイトップCT−SLV)で希釈後、成膜基板上に塗布し、成膜基板を300rpmで600sec間回転させた。次いで、ホットプレートにより180℃まで加熱して溶媒を完全に除去したこと以外は実施例1と同様にしてペリクルを作製した。更に、実施例1と同様の評価を行った。
ペリクル膜を構成するポリマーであるフッ素樹脂(旭硝子(株)社製、サイトップ)をフッ素系溶媒(旭硝子(株)社製、サイトップCT−SLV)で希釈後、成膜基板上に塗布し、成膜基板を300rpmで400sec間回転させた。次いで、ホットプレートにより180℃まで加熱して溶媒を完全に除去したこと以外は、実施例1と同様にしてペリクルを作製した。更に、実施例1と同様の評価を行った。
ペリクル膜を構成するポリマーであるセルロースアセテートプロピオネート(CAP 4 80−20、 Eastman Chemical Company製)と、溶媒である乳酸エチルとを混合し、固形分濃度8質量%の溶液を作製した。この溶液を窒素で0.01MPaに加圧し、口径0.1μmのメンブレンフィルターを通してろ過を行った。
ペリクル用枠体として、ヤング率70[GPa]のアルミニウム合金(5052)製であって、外寸900mm×750mm、外側コーナーR10mm、内側コーナーR2mm、長辺幅が8mm、短辺幅が7mm、高さが5.2mmである枠体を用いたこと以外は、比較例1と同様にペリクルを作製した。また、露光条件としてフォーカスを−0.2μmにしたこと以外は、実施例1と同様に評価を実施した。
参考例としてペリクル無しでの露光評価を実施し、そのときのCDの面内レンジを測定した。その結果を表に記載する。
Claims (4)
- 面積1000cm2以上の平面視矩形状の開口部を備えるペリクル用枠体と、当該ペリクル用枠体の一方の端面に前記開口部を覆うように展張支持されたペリクル膜と、前記ペリクル用枠体の他方の端面にマスク粘着剤と、を含むペリクルであって、
前記ペリクル膜の膜厚が1.0μm以上3.0μm以下であり、前記ペリクル膜面内の膜厚バラツキが80nm以下である、ペリクル。 - 前記ペリクル膜の365nmの波長に対する透過率が、95%以上である、請求項1に記載のペリクル。
- 前記ペリクルを貼り付けたマスクを使用して露光した時に、転写されるL/S(縦縞模様)におけるパターン寸法精度の面内レンジが200nm以下である、請求項1又は2に記載のペリクル。
- 前記ペリクルを貼り付けたマスクを使用して露光した時に、転写されるコンタクトホールにおけるパターン寸法精度の面内レンジが300nm以下である、請求項1〜3のいずれか一項に記載のペリクル。
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