JP6389353B2

JP6389353B2 - ペリクル枠体及びペリクル

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Publication number: JP6389353B2
Application number: JP2013168821A
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Inventors: 典子谷
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Description

本発明は、ＬＳＩ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）を構成する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、カラーフィルター（ＣＦ）等を製造する際のリソグラフィー工程で使用されるフォトマスク、レティクル等に異物が付着することを防止するために用いられるペリクルの構成部材である枠体に関し、特に液晶用大型ペリクルの構成部材であるペリクル枠体及びペリクルに関する。

従来、半導体回路パターン等の製造に於いては、一般にペリクルと呼ばれる防塵手段を用いて、例えば、フォトマスク、レティクル等（以下、単に「マスク」と称する）への異物の付着を防止することが行われている。ペリクルは、マスクの形状に合わせた形状を有する厚さ数ｍｍ程度のペリクル枠体の上縁面に、厚さ１０μｍ以下のニトロセルロース、セルロース誘導体又はフッ素ポリマーなどの透明な高分子膜（以下、ペリクル膜という）を展張して接着し、かつ該ペリクル枠体の下縁面に粘着材を塗着すると共に、この粘着材上に所定の接着力で保護フィルムを粘着させたものである。

前記粘着材は、ペリクルをマスクに固着するためのものであり、また、保護フィルムは該粘着材がその用に供するまで該粘着材の接着力を維持するために、該粘着材の接着面を保護するものである。このようなペリクルは、一般的には、ペリクルを製造するメーカーから、マスクを製造するメーカーに供給され、そこで、ペリクルをマスクに貼付の後、半導体メーカー、パネルメーカー等のリソグラフィーを行うメーカーに供給される。

最も長い辺の長さが１４００ｍｍ以上の大型のマスクになると、マスク自身の撓みが大きくなるということがある。この課題に対して、従来は、マスク自身の撓みに追従するようなペリクルを作製することによって、マスクが自重で撓んでもペリクル膜にシワを寄せず、露光に影響しないようにしていた（特許文献１参照）。

国際公開第２０１０／０２９９９７号

しかし、マスクの大型化に伴ってペリクルも大型化する結果、特許文献１記載のペリクルは、大型のマスクに貼り付けられることによって、マスク自身の自重による撓み以上の撓みを発生させていた。

そこで、本発明は、大型のマスクの撓みを抑制するペリクル枠体及びペリクルを提供することを目的とする。

上記の課題を解決するために本発明者らは、鋭意検討した結果、大型のペリクル枠体の対向する少なくとも１対の辺において、該１対の辺の長さに対して、長さの合計が４．０％以上１０％未満である凹形状の第１溝部を設け、該１対の辺の平坦性を２５０μｍ以下とすることで解決した。

つまり、本発明のペリクル枠体は、面積が２００００ｃｍ^２以上４００００ｃｍ^２以下の略矩形の開口部を内側に有する大型のペリクル枠体であって、対向する少なくとも１対の辺を有し、１対の辺の外側には１対の辺の長さに対して、長さの合計が４．０％以上１０％未満である凹形状の第１溝部が設けられ、１対の辺の平坦性は、２５０μｍ以下である、ことを特徴とする。

これによれば、１対の辺の応力が解放されて、平坦性を維持できると共に、剛性を維持できる。その結果、１対の辺に沿って支持台が設置される大型のマスクにおいて、ペリクル枠体が支持台を補強することになり、マスクの撓みを抑制することができる。

本発明のペリクル枠体は、１対の辺の他に対向する他の１対の辺を有し、この他の１対の辺の外側には他の１対の辺の長さに対して、長さの合計が８％以上である凹形状の第２溝部が設けられるようにしてもよい。第２溝部を把持することで、第２溝部を利用したハンドリングがし易くなる。なお、第２溝部を設けることで、他の１対の辺の剛性は落ちたとしても、１対の辺の剛性は、好適に維持されるので、マスクへの貼り付け時のマスクの撓みは最小限に抑えられる。また、若干の軽量化により、マスクへの貼り付け時のマスクの撓みも抑制される。更に、第２溝部は、他の１対の辺の長さに対して、長さの合計が８％以上であるので、他の１対の辺は、マスクが撓んだ場合に追従し易くなる。

本発明のペリクル枠体では、第２溝部は、他の１対の辺の全長に渡る長さを有するようにしてもよい。これによれば、更にハンドリングの自由度が上がる。また、第２溝部を他の１対の辺の一部ではなく、全長に渡る長さとすることで、より軽量化でき、その結果、ペリクル枠体をマスクに貼り付けた際のマスクの撓みに対する影響を低減でき、マスクの撓みをより抑制できる。更に、全長に渡る長さとすることでマスクの撓みに対する追従性の向上にもつながる。

本発明のペリクル枠体では、開口部は、長方形であって、１対の辺は、ペリクル枠体における１対の長辺であってもよい。マスクの撓み抑制という点では、短辺よりも長辺の方が、影響が大きく、従って、長辺の剛性と平坦性を維持することで、マスクの撓み抑制の効果が大きくなる。

本発明のペリクル枠体では、開口部は、長方形であって、長辺の幅が１７〜３０ｍｍであり、短辺の幅が１９〜３０ｍｍであってもよい。これによれば、各辺の幅を一般的なペリクル枠体を構成する辺の幅よりも太くするので、マスクに貼り付けて用いた際に、ペリクル枠体による支持台の補強機能がより高まり、マスクの撓みがより抑止される。

本発明のペリクル枠体は、第１溝部は、３つ以上の第１溝からなっていてもよい。分散して溝を設ける方が、平坦性及び剛性維持の効果がより発揮される。

本発明のペリクル枠体は、第１溝の各々の間隔は、２００〜８００ｍｍであってもよい。これによれば、更に平坦性がよくなるため好ましい。

本発明のペリクルは、上記のペリクル枠体と、ペリクル枠体の上縁面に設けられたペリクル膜と、ペリクル枠体の下縁面に設けられた粘着材と、を備える。

これによれば、ペリクル枠体の１対の辺の応力が解放されて、平坦性を維持できると共に、剛性を維持できる。その結果、大型のマスクに貼り付けて用いた際に、マスクの撓みを抑制することができる。

本発明によれば、大型のマスクに貼り付けて用いた際に、マスクの撓みを抑制することができる。

本発明の実施形態に係るペリクルをマスクに貼り付けた状態を示す斜視図である。長辺の第１溝部の拡大断面図である。短辺の第２溝部の拡大断面図である。マスクの自重撓みを評価する評価方法を説明するための説明図である。

添付の図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。以下に説明する実施の形態は本発明の構成の例であり、本発明は、以下の実施の形態に制限されるものではない。

本実施形態のペリクルは、ペリクル枠体の最も長い辺の長さが、１４００ｍｍ以上、特に１７００ｍｍ以上、２１００ｍｍ以下であって、ペリクル有効面積（ペリクル枠体の開口部の面積）が２００００ｃｍ^２以上、特に２３０００ｃｍ^２以上の場合に顕著な効果を奏する。尚、ＴＦＴＬＣＤ(薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ)の製造に用いるマスク等に要求されている大きさから、有効面積の上限は４００００ｃｍ^２であれば十分である。

前述のように、従来は、大型のマスク自身の自重の撓みについては、撓みに追従するようなペリクルにすることで露光中に問題が発生しないようにしていた。これに対して本実施形態では、大型のマスク自身の自重による撓みという課題に対し、ペリクルでマスクの撓みを抑制するという全く新しい解決手段を採用している。

具体的には、ペリクルの対向する１対の辺に沿ってマスクの支持台が設置されるが、ペリクル枠体をマスクの支持台の一部として機能させることで、マスクの撓みを抑制する。その際、マスクが徐々に自重で撓んだとしてもペリクルが剥がれることが無いように、ペリクル枠体の平坦性を維持することが重要である。ところが、ペリクル枠体を構成する辺は、細く厚みが小さく長さが長いため、ペリクル枠体の平坦性を出すことは容易ではない上、加工が多くなるほど平坦性が悪くなる傾向にある。また、ペリクル枠体の面積が大きくなるほどペリクル枠体全体の平坦性を出すことが困難になる。そこで、本実施形態では、ペリクル枠体の１対の辺に一定領域の第１溝部を設けることで、剛性を維持しつつ、内部応力を解放している。これによって、ペリクル枠体の平坦性を維持し、マスクが自重で撓んだとしてもペリクルが剥がれるのを防いでいる。

図１〜３に示されるように、ペリクル１は、長方形の開口部２ａを内側に有するペリクル枠体２を備えている。ペリクル枠体２の開口部２ａの形状は、マスク３の形状と相似であり、本実施形態では長方形を例示するが、マスクが正方形の場合には正方形となる。ペリクル枠体２は、対向する１対の長辺４と、対向する１対の短辺５とを有している。長辺４とは、ペリクル枠体２の最も長い辺であり、短辺５とは、ペリクル枠体２の最も短い辺である。より具体的に説明すると、開口部２ａが長方形の場合は、直交する２辺のうち長い方が長辺４、短い方が短辺５であり、開口部２ａが正方形の場合は、４辺とも同じ長さである。ペリクル枠体２の各辺の断面形状としては、矩形形状が最も好ましい。

ペリクル１は、ペリクル枠体２の上縁面２ｃに接着されたペリクル膜６と、ペリクル枠体２の下縁面２ｄに塗着された粘着材７とを更に備え、粘着材７を介してマスク３に接着されている。マスク３に接着される前のペリクル１は、ペリクル枠体２の下縁面２ｄに粘着材７を介して保護フィルム（不図示）が粘着された構造を有している。

１対の長辺４の外側面（外側）４ａにはそれぞれ、長辺４の長さに対して４．０％以上１０％未満の長さを有する凹形状の第１溝部８が設けられている。第１溝部８は、ｎを２以上の自然数として、複数の第１溝８_１、８_２・・・８_ｎからなることがより好ましい。本実施形態では、第１溝部８は、３つの第１溝８_１、８_２、８_３からなっている。第１溝部８の長さ、即ち、複数の第１溝８_１、８_２・・・８_ｎの長さの合計は、長辺４の長さ対して、４．０％以上１０．０％未満である。更に、４．５％以上１０％未満であることが好ましく、５．０％以上９．９％以下であることがより好ましい。

上記範囲内にあると、１対の長辺４は、２５０μｍ以下の平坦性を保ちつつ、マスク３を支持する支持台１０（図４参照）に沿って設置されたときに、マスク３の自重撓みを抑制することが可能となる。ここでいう平坦性とは、ペリクル枠体２の石定盤からのうねりの測定値である。例えば、ペリクル枠体２を石定盤に静置し、ペリクル枠体２の上部（石定盤の反対側）からレーザーを入光させ、レーザー変位計にて厚みを測定する。石定盤をゼロ点とし、入光側のペリクル枠体２から石定盤までの距離を測定する。ここで、測定数は１辺で３２点とし、辺の両端から３０ｍｍの点を各々測定し、更にその間を３０点等間隔になるように測定する。これを４辺において行い、４辺においてゼロ点からの高さが一番高い点及び一番低い点の高さの差を平坦性とする。

ペリクル枠体２の平坦性は、マスク３に平坦性良く貼り付けるために、最も長い辺の長さが１４００ｍｍ以上の場合でも、最も長い辺の長さが３００ｍｍ程度の場合と同程度であることが重要になっている。ペリクル枠体２の平坦性が悪いと、粘着材７がペリクル枠体２の平坦性に沿って成型されるためマスク３に貼り付けた時にエアパスが入る可能性があり、そのエアパスがきっかけとなって剥がれが生じたり、そこから異物が混入したりする可能性がでてくる。

１対の長辺４がマスク３を支持する支持台１０に沿って設置される場合、１対の長辺４には剛性をもたせた方がよいため、剛性の観点からは、１対の長辺４には加工を施さない方が好ましい。しかし、長辺４には、切削による内部応力が残留（以下、「残留応力」という）すると考えられている。残留応力は外観からは見えないため、残留応力が残った状態でペリクル枠体２が完成すると、そのペリクル枠体２をペリクル１として製造する工程での加熱等でペリクル枠体２の平坦性が更に悪くなる。その結果、ペリクル膜６を接着する接着剤及び粘着材７が平坦に塗布できずにペリクル膜６の貼付けが悪くなったり、粘着材７の成型性が悪くなったりして、マスク３に貼り付けた場合にエアパスが発生する可能性もある。したがって、前述の通り、１対の長辺４に第１溝部８を設け、ペリクル枠体２の平坦性を維持する必要がある。また、溝部の長さが辺の長さに対して４．０％以上１０％未満であると、辺に対して加工時に残留応力が残らないような加工になるためより好ましい。

また、ペリクル枠体２の１対の短辺５に沿って支持台１０が設置された場合も同様にすることで、短辺５に剛性をもたせることが可能になり、少しでもマスク３の撓みを抑制可能とする。同様にするとは、１対の短辺５の外側面（外側）５ａにそれぞれ、短辺５の長さに対して４．０％以上１０．０％未満の長さを有する凹形状の溝部を設けるようにすることである。

第１溝部８を複数の第１溝８_１、８_２・・・８_ｎで構成することによって、このような残留応力をより解放することができ、好ましい。更には、ペリクル枠体２の状態で熱処理等をすることでペリクル枠体２全体の熱応力を低減できる効果がある上に、均一に長辺４の剛性を保つことが可能になり、好適である。

ｎは、特に３以上であることが好ましい。例えば、ｎが３の場合は、３つの第１溝８_１、８_２、８_３を両端部より若干離れた所に左右に１つずつ設け、残り１つは、短辺５の中央付近（例えば、中心から左右に１００ｍｍ前後）に設けるとより好ましい。ｎが４の場合は、両端部より若干離れた所に左右に１つずつと、短辺５の中央付近（中心から左右に２００ｍｍ前後）に２つというように、両端側と中央寄りに設けると好ましい。

上記のような配置をとることで、切削時の応力をバランスよく解放することができ、平坦性と辺全体の剛性のバランスを保ったままペリクル１を製作することができる。また、応力は角部に集中しやすいが、角部に曲率Ｒをもたせて角部の応力を逃がすように切削しているため、角部より若干離れた所に応力がかかりやすくなっていると考えられる。したがって、両端部より若干離れた場所に第１溝部８をもつ方が好ましいと推測される。

一つの第１溝８_ｘを構成する長さは、２０ｍｍ以上であることが好ましく、更には３０ｍｍ以上、特に３５ｍｍ以上であることが好ましい。上限としては、１００ｍｍ以下であり、９０ｍｍ以下、８０ｍｍ以下であると更に好ましい。残留応力を緩和するためには第１溝８_ｘは長い方がよいが、剛性と平坦性を考慮すると第１溝８_ｘは上記範囲が好ましい。また、第１溝８_ｘの長さが短い場合は、切削時のバリが少ない上に異物の付着が少なく、洗浄性もよいため更に好ましい。

第１溝８_ｘの各々の間隔は２００ｍｍ以上８００ｍｍ以下が好ましい。特に３００ｍｍ以上７５０ｍｍ以下が好ましく、更には３５０ｍｍ以上７００ｍｍ以下が好ましい。両端からではなく、第１溝８_ｘ同士の間隔である。例えば、３ヵ所の場合は、辺の中央付近に１ヵ所と２００ｍｍ以上８００ｍｍ以下空けて両脇に２ヵ所といった具合である。上記範囲内にあると角部の剛性を保持しつつ更に平坦性がよくなるため好ましい。

１対の短辺５の外側面（外側）５ａにはそれぞれ、短辺５の長さに対して８％以上の長さを有する凹形状の第２溝部９が設けられている。第２溝部９の長さは、短辺５の長さに対して、８％以上の好ましくは１０％以上、更に好ましくは３０％以上、最も好ましくは１００％である。本実施形態では、１００％である。つまり、本実施形態では、第２溝部９は、短辺５の全長に渡る長さを有している。なお、第２溝部９は、ｍを２以上の自然数として、複数の第２溝９_１、９_２・・・９_ｍからなっていてもよい。このとき、第２溝部９の長さは、複数の第２溝９_１、９_２・・・９_ｍの長さの合計である。なお、短辺５にも、前述したように長辺４と同様に、切削による残留応力が存在すると考えられるが、第２溝部９を設けることによって、残留応力が解放され、ペリクル枠体２の平坦性が維持される。

支持台１０は長辺４に沿って配置されるため、短辺５は、マスク３を支持しない辺に相当する。したがって、短辺５は、少しでもマスク３が自重で撓んだ場合、マスク３に追従する必要がある。上記範囲内であれば、短辺５は、剛性を落とすことでマスク３に対する追従性が良くなり、マスク３から剥がれる心配がなくなる。

第１溝部８、第２溝部９について説明する。第１溝部８、第２溝部９は、ペリクル枠体２の外側面４ａ，５ａに設けることが冶具または装置の設計上好ましい。更に、把持時にペリクル膜６の接着剤（図示せず）またはマスク３との粘着材７に余計な力が働くことがないように、上縁面２ｃ及び下縁面２ｄから離間した位置に設けることが好ましい。

第１溝部８の深さｄ_４は、長辺４の外側面４ａを基準として、長辺４の幅Ｗ_４の０．０１〜０．９倍の深さが好ましく、０．０１〜０．５倍の深さがより好ましく、０．０１〜０．３倍の深さが更に好ましい。同様に、第２溝部９の深さｄ_５は、短辺５の外側面５ａを基準として、短辺５の幅Ｗ_５の０．０１〜０．９倍の深さが好ましく、０．０１〜０．５倍の深さがより好ましく、０．０１〜０．３倍の深さが更に好ましい。

第１溝部８、第２溝部９の断面形状としては、矩形、台形、多角形、円形・半円形又は楕円形等、特には問わない。また、第１溝部８、第２溝部９が深くなる方向に沿って第１溝部８の高さｈ_４、第２溝部９の高さｈ_５が小さくなったり、大きくなったりする形態でもよい。必要に応じて第１溝部８、第２溝部９に曲率Ｒ、Ｃ面を設けても良い。

本実施形態のペリクル枠体２を構成する材料は、例えば、機械構造用炭素鋼（SCシリーズ等）、工具鋼（炭素工具鋼SKシリーズ、高速度工具鋼SKHシリーズ、合金工具鋼SKSシリーズ、SKDシリーズ、SKTシリーズ等）、マルテンサイト系ステンレスシリーズ（SUS403、SUS410、SUS410S、SUS420J1、SUS420J2、SUS429J1、SUS440A等）、アルミニウム、アルミニウム合金（5000系、6000系、7000系等）等の金属、セラミックス（SiC、AlN、Al2O3等）、セラミックスと金属の複合材料（Al-SiC、Al-AlN、Al-Al2O3等）があげられ、中でもアルミニウム及びその合金をあげることができ、より具体的にはアルミニウムとマグネシウムの合金、アルミニウムとマグニシウムそしてケイ素の合金、アルミニウムと亜鉛そしてマグネシウムの合金、または樹脂（複合材料、ガラス繊維強化樹脂、カーボン入り強化樹脂など）等をあげることができる。

また、ペリクル枠体２は一体物でも、複数の部材の接合物でもどちらの場合でもよい。

尚、上記の各鋼材は磁性材料のため磁石で固定出来、特に大型のペリクル枠体２の場合、加工作業が良くなり好ましく用いられる。ペリクル枠体２の表面に、黒色クロムメッキ、黒色アルマイト、黒色塗装、黒色セラミックス化等の黒色化処理を施すことも出来る。

この中で、黒色アルマイト処理についてさらに説明する。ペリクル枠体２としては一般に５０００系のアルミニウム合金を用いることが多いので、アルミニウム合金を例にあげて説明する。一般的な黒色アルマイト処理は、アルミニウム合金でペリクル枠体２を成形後、アルマイト処理し、この処理により発生した微細な孔を黒色化剤で封入処理し、そしてその微細孔をふさぐ封孔処理を施して黒色アルマイト処理がなされる。しかし、このようにして一般的な方法で作られた支持枠の表面を、電子顕微鏡で観察すると、細かいひびわれ（マイクロクラック）の発生が確認される。このようなマイクロクラックはパターンの微細化が進展し、配線幅が一層狭くなると、該クラックに入り込んだ極小さい異物の落下も問題となる。そこで、このようなマイクロクラックの発生を防止する方法として以下のような方法をとることが好ましい。

先ず、ペリクル枠体２の表面をアルマイト処理する。このアルマイト処理は、硫酸濃度１０〜２０％、電流密度１〜２Ａ／ｄｍ^２、電解液温度１５〜３０℃、通電時間１０〜３０分の範囲で行われる。その際、アルミニウム合金の表面にはミクロな孔（直径５０〜２００Å、ピッチ５００〜１５００Å）が規則正しく多数形成される。その後、この孔を使って黒色化処理を行う。黒色化処理は枠からの光の反射を防止するために行うので黒色に限らず黒に近い、茶色、紺色等の濃い色も含むものである。黒色化処理には、染色、電解着色等が挙げられる。染色は、黒色の染料を溶解した液の中に浸漬することでこの孔に染料を吸着させ色調を得る方法であり、また、電解着色は、この孔に電気的に金属元素を析出させ色調を得る方法である。染色は例えば、染料濃度３〜１０ｇ／Ｌ、染色液温度５０〜６５℃にて行う。

続いて、この孔を塞ぐ封孔処理が施される。この処理には、例えば低温封孔剤とよばれる日華化学工業（株）製ハードウォール３（商品名）封孔助剤６〜１２ｇ／Ｌを加えた煮沸水が使われる。この時の封孔によりアルマイト膜表面の微細な孔が埋められアルマイト膜は緻密になっていくのであるが、封孔の温度を１００℃より若干低い温度、例えば７０〜９５℃、より好ましくは８０〜９０℃で封孔処理を行えば、極めて均一な表面性を有し、実質的にマイクロクラックのないペリクル枠体２を作ることができる。

尚、マイクロクラックの有無の判断は、ペリクル枠２表面を電子顕微鏡にて１０００倍に拡大した写真において１０ｃｍ（実寸法０．１ｍｍ）の直線を引き、その直線に交差するクラック数を計算する。クラックの幅は、その電子顕微鏡写真で観察できるもの、即ちクラック幅０．１μｍ以上のものを計数する。この数値が多いほどクラックが高密度で存在すると判断する。

必要に応じてペリクル枠体２の開口部２ａに接する面又は全面に、異物を補足するための粘着材（アクリル系、酢酸ビニル系、シリコン系、ゴム系等）、グリース（シリコーン系、フッ素系等）を塗布しても良い。

また、必要に応じてペリクル枠体２の内部と外部を貫通する微細な穴を開けて、ペリクル１とマスク３で形成された空間の内外の気圧差がなくなるようにすると、ペリクル膜６の膨らみ、凹みを防止出来る。また、この時、微細な穴の外側に異物除去フィルターを取り付けると、気圧調整が可能な上、ペリクル１とマスク３で形成された空間の中に異物が侵入することを防げるので好ましい。ペリクル１とマスク３で形成された空間容積が大きい場合には、これらの穴、フィルターを複数個設けると、気圧変動によるペリクル膜６の膨らみ、凹みの回復時間が短くなり、好ましい。

本実施形態のペリクル枠体２は、上記の要件を満足することで、最も長い辺が１４００ｍｍ以上の大型のペリクル枠体２の平坦性をよくすることが可能である。これによって本実施形態のペリクル枠体２は、ペリクル１をマスク３に貼着後もエアパス等が生じることがなく、しかも、ペリクル１自体のハンドリング時に自重による撓みがないため膜シワが生じることがないといった優れた効果を奏するものである。

本実施形態におけるペリクル枠体２を構成する各辺４，５の幅Ｗ_４、Ｗ_５について説明する。図２に示されるように、ペリクル枠体２の長辺４の幅Ｗ_４は、１７ｍｍ以上３０ｍｍ以下であり、好ましくは下限が１７．５ｍｍ以上、最も好ましくは１８ｍｍ以上である。一方、上限は３０ｍｍ以下であり、好ましくは２８ｍｍ以下、最も好ましくは２５ｍｍ以下である。この幅は、一般的なペリクル枠体を構成する辺の幅よりも太いものとなっている。

また、図３に示されるように、短辺５の幅Ｗ_５は、１９ｍｍ以上３０ｍｍ以下であり、好ましくは下限が１９．５ｍｍ以上、最も好ましくは２０ｍｍ以上である。一方、上限は３０ｍｍ以下であり、好ましくは２８ｍｍ以下、最も好ましくは２５ｍｍ以下である。この幅は、一般的なペリクル枠体を構成する辺の幅よりも太いものとなっている。上記範囲内であれば、短辺５の幅Ｗ_５が長辺４の幅Ｗ_４より大きくても、長辺４の幅Ｗ_４が短辺５の幅Ｗ_５より大きくても、或いは、長辺４の幅Ｗ_４が短辺５の幅Ｗ_５と同じでもよい。

また、図２、及び図３に示されるように、ペリクル枠体２の厚みｔについては、好ましくは４．０ｍｍ以上で、より好ましくは５．０ｍｍ以上で、更に好ましくは６．０ｍｍ以上である。また、上限は１５．０ｍｍ以下が好ましく、より好ましくは１３．０ｍｍ以下、さらに好ましくは１０．０ｍｍ以下である。

上述のペリクル枠体２は、開口部２ａの面積が１６０００ｃｍ^２以上であり、このペリクル枠体２にペリクル膜６を展張して接着することで超大型のペリクル１を製作できる。以下に、ペリクル膜６の詳細、及びペリクル枠体２にペリクル膜６を接着することで製造されるペリクル１、更に、マスク３へのペリクル１の貼り付け（固着）方法について説明する。

ペリクル膜６としては、セルロース誘導体（ニトロセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等、あるいはこれら２種以上の混合物）、フッ素系ポリマー（テトラフルオロエチレン−ビニリデンフルオライド−ヘキサフルオロプロピレンの３元コポリマー、主鎖に環状構造を持つポリマーであるデュ・ポン社製のテフロンAF（商品名）（「テフロン」は登録商標）、旭硝子社製のサイトップ（商品名）、アウジモント社製のアルゴフロン（商品名）等）等のポリマー等が用いられる。

ペリクル膜６は、例えばポリマー溶液から成膜された薄膜が使用されている。この薄膜には張力が存在する。一方、この張力は、ペリクル膜６が撓んだりしわが入らないようにするために必要である。ペリクル膜６が撓んだりしわが入ると、ペリクル膜６に付着した異物をエアブローで除去する時に、ペリクル膜６が大きく振動し除去し難い。また、ペリクル膜６の高さが場所により変わるために、ペリクル膜６の異物検査機が正常に機能しない。また、ペリクル膜６の光学的高さ測定に誤差を及ぼす等の問題が生じる。

現在用いられている一括露光液晶露光機の光源である超高圧水銀ランプに対しては、耐光性、コストの点から、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートが好ましく使用される。

ペリクル膜６の膜厚は、０．５μｍ〜１０μｍ程度が好適であり、本実施形態の大型のペリクル１では、ペリクル膜６の強度、均一な膜の作り易さから、２μｍ〜８μｍが好ましい。上記のポリマーは、夫々に適した溶媒（ケトン系、エステル系、アルコール系、フッ素系等）により、ポリマー溶液とする。上記のセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートに対しては、乳酸エチル等のエステル系が好ましい。ポリマー溶液は必要に応じてデプスフィルター、メンブレンフィルター等により濾過される。

ポリマー溶液の成膜法には、スピンコート法、ロールコート法、ナイフコート法、キャスト法等があるが、均一性、異物の管理の点から、スピンコート法が好ましい。スピンコート法により成膜基板上に成膜した後、必要に応じてホットプレート、クリーンオーヴン、（遠）赤外線加熱等により溶媒を乾燥することにより、均一な膜が形成される。この時の成膜基板としては、合成石英、溶融石英、無アルカリガラス、低アルカリガラス、ソーダライムガラス等が利用出来る。

本実施形態のペリクル１は大型であるため、ペリクル膜６の成膜に用いられる成膜基板もサイズが大きく、乾燥時の温度斑により成膜基板が割れることがある。これを防ぐために、成膜基板の熱膨張係数は小さいほど好ましい。特に、０℃〜３００℃における線膨張係数が５０×１０^−７ｍ／℃以下であることが好ましい。

また、成膜基板の表面には、シリコーン系、フッ素系等の材料により、あらかじめ離型処理を施しておけば良い。また、上記のペリクル膜６の片側、あるいは両側に、該ペリクル膜６よりも屈折率の低い層（即ち、反射防止層）を形成することにより、露光光線に対する透過率を高めることが出来、好ましい。

反射防止層の材料としては、フッ素系ポリマー（テトラフルオロエチレン−ビニリデンフルオライド−ヘキサフルオロプロピレンの３元コポリマー、主鎖に環状構造を持つポリマーであるデュ・ポン社製のテフロンAF（商品名）（「テフロン」は登録商標）、旭硝子社製のサイトップ（商品名）、アウジモント社製のアルゴフロン（商品名）、ポリフルオロアクリレート等）、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、フッ化バリウム等屈折率の低い材料が使用される。

反射防止層は、ポリマーの場合、前述と同様のスピンコート法により、無機物の場合、真空蒸着、スパッタリング等の薄膜形成法により形成することが出来る。異物の点からは、ポリマー溶液によるスピンコート法が好ましい。デュ・ポン社製のテフロンAF（商品名）（「テフロン」は登録商標）、アウジモンド社製のアルゴフロン（商品名）は屈折率が小さいので反射防止効果が高く好ましい。

上記により成膜基板上に形成されたペリクル膜６は、アルミニウム合金、ステンレススチール、樹脂等に粘着材を貼り付けた仮枠により、成膜基板から剥がし取って所望のペリクル枠体２に貼り替えても良い。また成膜基板上で所望のペリクル枠体２を接着後、成膜基板から剥がし取っても良い。このようにして得られた大型のペリクル膜６は、ペリクル枠体２に張力を架けて接着剤により貼着される。

ペリクル膜６は、張力が適度な範囲にあると、その自重及びペリクル膜６内外の気圧差等により膜面の鉛直方向に膨らんだり凹んだりするのを抑制して露光不良を防止することが出来る。また、ペリクル膜６に付着した異物をエアブローで除去する時に該ペリクル膜６が大きく振動し、異物を除去し難いという問題を解決出来、更には、ペリクル膜６の高さが場所により変わるために該ペリクル膜６の異物検査機が正常に機能しないという問題、また、ペリクル膜６の光学的高さ測定に誤差を及ぼすといった問題を解決出来る。また大型のペリクル１内外の気圧変動に対する追従性能を確保することが出来る。

ペリクル膜６とペリクル枠体２に接着するための接着剤は、ペリクル膜６の材質とペリクル枠体２の材質によって適宜選択する。たとえば、エポキシ系、アクリル系、シリコーン系、フッ素系等の接着剤が使用される。また、接着剤の硬化方法は夫々の接着剤に適した硬化方法（熱硬化、光硬化、嫌気性硬化等）が採用される。発塵性、コスト、作業性の面から、アクリル系の紫外線硬化型接着剤が好ましい。

ペリクル枠体２をマスク３に貼り付けるための粘着材７には、それ自身に粘着力のあるホットメルト系（ゴム系、アクリル系）、基材の両面に粘着材７を塗布したテープ系（基材としてアクリル系、PVC系等のシートあるいはゴム系、ポリオレフィン系、ウレタン系等のフォーム等が適用出来、粘着材７としてゴム系、アクリル系、シリコーン系等の粘着性材料が適用される）等が使用される。

本実施形態に係る大型のペリクル１では、粘着材７として、ペリクル１をマスク３に低荷重で均一に貼り付けるために、比較的柔らかいホットメルト材料、フォームが好適である。フォームの場合は、その断面にアクリル系、酢酸ビニル系の粘着性材料あるいは非粘着性材料で覆うことにより、フォームからの発塵を防ぐことが出来る。

粘着材７の厚さは通常０．２ｍｍ以上とされるが、マスク３への均一な貼付のために、好ましくは１ｍｍ以上とされる。粘着材７の粘着面をマスク３に貼り付けるまでの間保護するために、シリコーン、フッ素で離型処理されたポリエステルフィルムが使用される。

ペリクル１を輸送する際のケースは、アクリル系、ABS系、PVC系、PET系等の材料を、射出成型、真空成型することにより作成される。これらの材料は帯電を防止するために、帯電防止剤を練り込んでも良いし、帯電防止構造をもったポリマー（クレハ製BAYON（商標）、旭化成製ADION（商標））を利用しても良い。

本実施形態に係る超大型のペリクル１のケースは、輸送中にケースが歪みケース内のペリクルのダメージを与えないように、ケースの蓋、トレイ、またはその両方にリブ構造を設け、外力に対する抵抗性を高めることが好ましい。

又、ペリクル枠体２は、確実に把持できることに加えて、その後の収納容器からのペリクル１の取り出しに際し、ペリクル枠体２に撓み、ねじれを生じさせることなく、取り出すことができる方法が要求されている。そして、特に、ペリクル１自体が大きくなり、ハンドリングも困難となる大型のものにおいては、収納・運搬・保管に際しては、確実な把持はもちろん、収納容器からの取り出しの際、取り出し後直接マスク等に貼り付けられるよう、保護フィルムと粘着材７の界面からペリクル１の歪み撓みを生じさせることなく取り出す方法が要求されている。

そこで、本実施形態では、短辺５に把持用としても有効な第２溝部９を設けている。その結果、最も長い辺の長さが１４００ｍｍ〜２１００ｍｍの大型のペリクル１の把持を達成可能としている。なお、本実施形態では、第２溝部９を主体的に把持用として用いることを想定して説明したが、マスク３からの制約を受けないように、例えば、長辺４、短辺５に、それぞれ把持用の凸部を形成して大型のペリクル１の把持を達成可能とすることもできる。

以上説明したように本実施形態のペリクル枠体２は、面積が２００００ｃｍ^２以上４００００ｃｍ^２以下の長方形の開口部を内側に有する大型のペリクル枠体２であって、１対の長辺４を有し、長辺４の外側面４ａには長辺４の長さに対して４．０％以上１０％未満の長さを有する凹形状の第１溝部８が設けられ、長辺４の平坦性は、２５０μｍ以下である、ことを特徴とする。

これによれば、長辺４の残留応力が解放されて、平坦性を維持できると共に、剛性を維持できる。その結果、長辺４に沿って支持台１０が設置される大型のマスク３において、ペリクル枠体２が支持台１０を補強することになり、マスク３の撓みを抑制することができる。

また、ペリクル枠体２は、短辺５を有し、短辺５の外側面５ａには短辺５の長さに対して８％以上の長さを有する凹形状の第２溝部９が設けられている。この第２溝部９を把持用として用いることで、ハンドリングがし易くなる。なお、第２溝部９を設けることで、短辺５の剛性は落ちたとしても、長辺４の剛性は、好適に維持されるので、マスク３への貼り付け時のマスク３の撓みは最小限に抑えられる。また、若干の軽量化により、マスク３への貼り付け時のマスク３の撓みも抑制される。更に、第２溝部９は、短辺５の長さに対して８％以上の長さを有するので、短辺５は、マスク３が撓んだ場合に追従し易くなる。

また、ペリクル枠体２では、第２溝部９は、短辺５の全長に渡る長さを有するので、更にハンドリングの自由度が上がる。また、第２溝部９を短辺５の一部ではなく、全長に渡る長さとすることで、より軽量化でき、その結果、ペリクル枠体２をマスク３に貼り付けた際のマスク３の撓みに対する影響を低減でき、マスク３の撓みをより抑制できる。更に、全長に渡る長さとすることでマスク３の撓みに対する追従性の向上にもつながる。

また、ペリクル枠体２では、長辺４の幅Ｗ_４は、長辺４の幅Ｗ_４は、１７〜３０ｍｍであり、短辺５の幅Ｗ_５は、１９〜３０ｍｍである。このように各辺４，５の幅Ｗ_４、Ｗ_５を一般的なペリクル枠体を構成する辺の幅よりも太くするので、マスク３に貼り付けて用いた際に、ペリクル枠体２による支持台１０の補強機能がより高まり、マスク３の撓みがより抑止される。

また、ペリクル枠体２では、第１溝部８は、３つの第１溝８_１、８_２、８_３からなっている。このように分散して溝８_１、８_２、８_３を設ける方が、平坦性及び剛性維持の効果がより発揮される。

また、ペリクル枠体２は、３つの第１溝８_１、８_２、８_３の各々の間隔は、２００〜８００ｍｍであるため、更に平坦性がよくなる。

また、ペリクル１は、上記のペリクル枠体２と、ペリクル枠体２の上縁面２ｃに設けられたペリクル膜６と、ペリクル枠体２の下縁面２ｄに設けられた粘着材７と、を備える。

これによれば、ペリクル枠体２の長辺４の応力が解放されて平坦性を維持できると共に、剛性を維持できる。その結果、大型のマスク３に貼り付けて用いた際に、マスク３の撓みを抑制することができる。

なお、上記の本実施形態では、長辺４を支持台１０に沿って（近接して）配置することを想定しており、長辺４に第１溝部８を形成する態様を説明したが、短辺５を支持台１０に沿って（近接して）配置する場合には、短辺５の外側面５ａに、短辺５の長さに対して４．０％以上１０％未満の長さを有する凹形状の第１溝部８を形成し、一方で、長辺４の外側面４ａに、長辺４の長さに対して８％以上の長さを有する凹形状の第２溝部９を形成してもよい。ただし、マスク３の撓み抑制という点では、短辺５よりも長辺４の方が、影響が大きく、従って、長辺４に第１溝部８を形成して剛性と平坦性とを維持する上記の実施形態の方が、マスク３の撓み抑制の効果が大きくなる。

以下に、実施例をあげてより具体的に本発明を説明するが、本発明は、これらの実施例のみに限定されるものではない。

[実施例１]

長辺の長さが１８００ｍｍ、短辺の長さが１６００ｍｍ、長辺の幅が１７ｍｍ、短辺の幅が１７ｍｍ、厚みが６．５ｍｍである長方形のアルミニウム合金の枠体を準備した。各長辺の外側面には、枠体の下縁面から３ｍｍの位置に、周方向に長さ５０ｍｍ、高さ１．５ｍｍの開口部を有する深さ３ｍｍの溝を設けた。溝は長辺に３ヵ所設け、溝の間隔は、左端から２００ｍｍ＋溝＋６２５ｍｍ＋溝＋６２５ｍｍ＋溝＋２００ｍｍとした。他方の長辺も同様に溝を設けた。また、各短辺の外側面には、枠体の下縁面から３ｍｍの位置に、短辺の全辺に沿って高さ１．５ｍｍの開口部を有する深さ３ｍｍの溝を設けた。

上記枠体に黒色アルマイト処理を施し、ペリクル枠体とした。ハンドリングする場合は、短辺のみを把持した。このペリクル枠体の長辺側の平坦性を評価した。平坦性は、ペリクル枠体を石定盤に静置し、レーザー変位計にて測定した。測定方法は前述の通りとした。その結果を表１に記載する。

また、上記のようなペリクル枠体を用いてペリクルを作成し、その性能評価を実施した。具体的な内容を以下に示す。

まず、ペリクル膜としては、主膜及び反射防止層からなる厚み４μｍの一様なペリクル膜を用いた。ペリクル膜は、セルロースエステルのポリマー溶液を低アルカリガラス上にスピンコートで塗布して主膜を形成し、その主膜上にフッ素ポリマー溶液をスピンコートで塗布して反射防止膜を形成することで得られた。

次に、ペリクル枠体の上縁面に接着剤を塗布し、下縁面に粘着材７を塗布した。続いて、上記で得られたペリクル膜をペリクル枠体の上縁面上に展張・接着し、ペリクルとした。粘着材７は、スチレンエチレンブチレンスチレン系共重合体粘着材（厚さ２ｍｍ）を塗布成型し、０．１ｍｍのＰＥＴフィルムをライナー（保護フィルム）として用いて保護した。

次に、ライナーを取り除き、ペリクルをマスクに貼り付けた。尚、各部材は使用前に超音波洗浄を行った。尚マスクとして、１７００ｍｍ×１８５０ｍｍ、厚み１８ｍｍの石英ガラスを使用した。

ペリクルがマスクの自重を抑制しているかどうかを測定した。図４（ａ）に示されるように、ペリクルが貼付された面を下にしてマスクの長辺を支持台で支持し、マスクを空中に浮かせた状態で放置して、自重撓みを測定した。測定結果を表1に記載する。自重撓みの評価基準として、図４（ｂ）に示されるように、ペリクルを貼っていない上記と同じ大きさの石英ガラスからなるマスクについて同様に自重撓みを測定した結果を用いた。即ち、ペリクルを貼っていないマスクの自重撓みより撓みが大きい場合を「×」、撓みが同じか少ない場合を「○」とした。
[実施例２]

長辺の長さが１８００ｍｍ、短辺の長さが１６００ｍｍ、長辺の幅が１８ｍｍ、短辺の幅が２０ｍｍ、厚みが６．５ｍｍである長方形のアルミニウム合金の枠体を準備した。各長辺の外側面には、枠体の下縁面から３ｍｍの位置に、長さ３５ｍｍ、高さ１．５ｍｍの開口部を有する深さ３ｍｍの溝を設けた。溝は長辺に５ヵ所設け、溝の間隔は、左端から２５０ｍｍ＋溝＋３０６．２５ｍｍ＋溝＋３０６．２５ｍ＋溝＋３０６．２５ｍｍ＋溝＋３０６．２５ｍｍ＋溝＋１５０ｍｍとした。他方の長辺も同様に溝を設けた。
また、各短辺の外側面には、枠体の下縁面から３ｍｍの位置に、短辺の中央、および短辺の両端から２５０ｍｍの３ヵ所に、周方向に長さ５０ｍｍ、高さ１．５ｍｍの開口部を有する深さ３ｍｍの溝を設けた。

上記枠体に黒色アルマイト処理を施し、ペリクル枠体とした。ハンドリングする場合は、長辺のみを把持した。このペリクル枠体の短辺側の平坦性を評価した。その結果を表１に記載する。

上記のペリクル枠体を使用して実施例１のようにペリクルを作製し、ペリクルの性能評価を実施した。その結果を表１に記載する。但し、今回の石英ガラスからなるマスクは２つの短辺を支持した。評価基準に使った石英ガラスからなるマスクも２つの短辺を支持し測定した。
[実施例３]

長辺の長さが２０００ｍｍ、短辺の長さが１８００ｍｍ、長辺の幅が２２ｍｍ、短辺の幅が１９ｍｍ、厚みが６．５ｍｍである長方形のアルミニウム合金の枠体を準備した。各長辺の外側面には、枠体の下縁面から３ｍｍの位置に、周方向の長さ５０ｍｍ、高さ１．５ｍｍの開口部を有する深さ３ｍｍの溝を設けた。溝は長辺に３ヵ所設け、溝の間隔は、左端から３００ｍｍ＋溝＋６２５ｍｍ＋溝＋６７５ｍｍ＋溝＋２５０ｍｍとした。他方の長辺も同様に溝を設けた。

また、各短辺の外側面には、枠体の下縁面から３ｍｍの位置に、短辺の全辺に沿って高さ１．５ｍｍの開口部を有する深さ３ｍｍの溝を設けた。

上記枠体に黒色アルマイト処理を施し、ペリクル枠体とした。ハンドリングする場合は、短辺のみを把持した。このペリクル枠体の長辺側の平坦性を評価した。その結果を表１に記載する。

上記のペリクル枠体を使用して実施例１のようにペリクルを作製し、ペリクルの性能評価を実施した。その結果を表１に記載する。ただし、マスクとして１９００ｍｍ×２０５０ｍｍ、厚み２２ｍｍの石英ガラスを用い、２つの長辺を支持した。評価基準に使ったマスクも同じ大きさの石英ガラスとし、２つの長辺を支持した。
[実施例４]

長辺の長さが１８００ｍｍ、短辺の長さが１６００ｍｍ、長辺の幅が２０ｍｍ、短辺の幅が２２ｍｍ、厚みが６．５ｍｍである長方形のアルミニウム合金の枠体を準備した。各長辺の外側面には、枠体の下縁面から３ｍｍの位置に、周方向の長さ１５０ｍｍ、高さ１．５ｍｍの開口部を有する深さ３ｍｍの溝を設けた。溝は長辺に４ヵ所設け、溝の間隔は、左端から１５０ｍｍ＋溝＋３００ｍｍ＋溝＋３００ｍｍ＋溝＋３００ｍｍ＋溝＋１５０ｍｍとした。他方の長辺も同様に溝を設けた。

また、各短辺の外側面には、枠体の下縁面から３ｍｍの位置に、周方向の長さ４０ｍｍ、高さ１．５ｍｍの開口部を有する深さ３ｍｍの溝を設けた。溝は短辺に３ヵ所設け、溝の間隔は、左端から２５０ｍｍ＋溝＋４９０ｍｍ＋溝＋４９０ｍｍ＋溝＋２５０ｍｍとした。他方の短辺も同様に溝を設けた。

上記のペリクル枠体を使用して実施例１のようにペリクルを作製し、ペリクルの性能評価を実施した。その結果を表１に記載する。但し、石英ガラスは、実施例２と同様に扱う。
[実施例５]

長辺の長さが２０００ｍｍ、短辺の長さが１８００ｍｍ、長辺の幅が１６．５ｍｍ、短辺の幅が１８ｍｍ、厚みが６．５ｍｍである長方形のアルミニウム合金の枠体を準備した。各短辺の外側面には、枠体の下縁面から３ｍｍの位置に、開口部の周方向に長さ５０ｍｍ、開口部の高さ１．５ｍｍ、溝の深さ３ｍｍの溝を設けた。溝は短辺に３ヵ所設け、溝の間隔は、左端から２５０ｍｍ＋溝＋５７５ｍｍ＋溝＋５７５ｍｍ＋溝＋２５０ｍｍとした。他方の短辺も同様に溝を設けた。また、各長辺の外側面には、枠体の下縁面から３ｍｍの位置に、長辺の全辺に沿って開口部の高さ１．５ｍｍ、深さ３ｍｍの溝を設けた。

上記の枠体を使用して実施例１のようにペリクルを作製し、ペリクルの性能評価を実施した。その結果を表１に記載する。ただし、貼り付けた石英ガラスの大きさは１９００ｍｍ×２０５０ｍｍ、厚み２２ｍｍであり、２つの短辺を支持した。評価基準に使った石英ガラスも同じ大きさの石英ガラスとし、２つの短辺を支持した。
[比較例１]

長辺に溝を設けない以外は、実施例１と同様のペリクル枠体を作製し、ペリクル枠体の長辺側の平坦性とペリクルの性能評価を実施１にならって評価した。
[比較例２]

長辺の長さが１８００ｍｍ、短辺の長さが１６００ｍｍ、長辺の幅が１７ｍｍ、短辺の幅が１７ｍｍ、厚みが６．５ｍｍである長方形のアルミニウム合金の枠体を準備した。各長辺の外側面には、枠体の下縁面から３ｍｍの位置に、周方向の長さ１５０ｍｍ、高さ１．５ｍｍの開口部を有する深さ３ｍｍの溝を設けた。溝は長辺に２ヵ所設け、溝の間隔は、左端から１００ｍｍ＋溝＋４００ｍｍ＋溝＋１０００ｍｍとした。他方の長辺も線対称となるように溝を設けた。

また、各短辺の外側面には、枠体の下縁面から３ｍｍの位置に、周方向の長さ３００ｍｍ、高さ１．５ｍｍの開口部を有する深さ３ｍｍの溝を設けた。溝は短辺に３ヵ所設け、溝の間隔は、左端から２００ｍｍ＋溝＋６００ｍｍ＋溝＋２００ｍｍとした。他方の短辺も同様に溝を設けた。

上記のペリクル枠体を使用して実施例１のようにペリクルを作製し、ペリクルの性能評価を実施例１にならって評価した。た。その結果を表１に記載する。
[比較例３]

長辺の長さが２０００ｍｍ、短辺の長さが１８００ｍｍ、長辺の幅が１８ｍｍ、短辺の幅が１６ｍｍ、厚みが６．５ｍｍである長方形のアルミニウム合金の枠体を準備した。各長辺の外側面には、枠体の下縁面から３ｍｍの位置に、長辺の全辺に沿って高さ１．５ｍｍの開口部を有する深さ３ｍｍの溝を設けた。

また、各短辺の外側面には、枠体の下縁面から３ｍｍの位置に、周方向の長さ２００ｍｍ、高さ１．５ｍｍの開口部を有する深さ３ｍｍの溝を設けた。溝は短辺に２ヵ所設け、溝の間隔は、左端から４００ｍｍ＋溝＋８００ｍｍ＋溝＋４００ｍｍとした。他方の短辺も同様に溝を設けた。

上記のペリクル枠体を使用して実施例１のようにペリクルを作製し、ペリクルの性能評価を実施例２と同様に評価した。

本発明のペリクル枠体及びペリクルを用いれば、近年開発されてきた高画質、高精細表示が可能な大型のカラーＴＦＴＬＣＤ(薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ)のフォトリソグラフィ工程で使用される大型のフォトマスク、レティクルに適用出来る。

１…ペリクル、２…ペリクル枠体、２ａ…開口部、３…マスク、４…長辺、５…短辺、６…ペリクル膜、７…粘着材、８…第１溝部、８_１、８_２、８_３…第１溝、９…第２溝部、１０…支持台。

Claims

面積が２００００ｃｍ^２以上４００００ｃｍ^２以下の長方形の開口部を内側に有する大型のペリクル枠体であって、
１対の長辺と１対の短辺とを有し、
前記１対の長辺の外側には前記１対の長辺の長さに対して、長さの合計が４．０％以上１０％未満である凹形状の第１溝部が設けられ、
前記１対の短辺の外側には前記１対の短辺の長さに対して、長さの合計が３０％以上である凹形状の第２溝部が設けられ、
前記１対の長辺の平坦性は、２５０μｍ以下である、ペリクル枠体。
前記第２溝部は、前記１対の短辺の全長に渡る長さを有する、請求項１記載のペリクル枠体。
前記１対の長辺の幅が１７〜３０ｍｍであり、前記１対の短辺の幅が１９〜３０ｍｍである、請求項１又は２に記載のペリクル枠体。
前記第１溝部は、３つ以上の第１溝からなる、請求項１〜３のいずれか１項に記載のペリクル枠体。
前記第１溝の各々の間隔は、２００〜８００ｍｍである、請求項４に記載のペリクル枠体。
請求項１〜５のいずれか１項に記載のペリクル枠体と、前記ペリクル枠体の上縁面に設けられたペリクル膜と、前記ペリクル枠体の下縁面に設けられた粘着材と、を備える、ペリクル。