JP2002040628A - ペリクルおよびペリクル板とペリクルフレームとの接着方法 - Google Patents
ペリクルおよびペリクル板とペリクルフレームとの接着方法Info
- Publication number
- JP2002040628A JP2002040628A JP2000231220A JP2000231220A JP2002040628A JP 2002040628 A JP2002040628 A JP 2002040628A JP 2000231220 A JP2000231220 A JP 2000231220A JP 2000231220 A JP2000231220 A JP 2000231220A JP 2002040628 A JP2002040628 A JP 2002040628A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- plate
- frame
- quartz glass
- synthetic quartz
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ペリクル板の変形を抑制する。
【解決手段】 合成石英ガラスからなるペリクル板５
が、合成石英ガラスより熱膨張係数が小さい材料からな
るペリクルフレーム６に接着されてなるペリクル１１。
が、合成石英ガラスより熱膨張係数が小さい材料からな
るペリクルフレーム６に接着されてなるペリクル１１。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＬＳＩ、超ＬＳＩ
などの半導体素子あるいは液晶表示装置などの製造に用
いられ、とりわけ実質的に波長２２０ｎｍ以下の光を用
いる露光法に好適なペリクルおよびペリクル板とペリク
ルフレームとの接着方法に関する。
などの半導体素子あるいは液晶表示装置などの製造に用
いられ、とりわけ実質的に波長２２０ｎｍ以下の光を用
いる露光法に好適なペリクルおよびペリクル板とペリク
ルフレームとの接着方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＬＳＩや超ＬＳＩなどの半導体素子ある
いは液晶表示装置の製造においては、パターニングの際
に露光原版のパターン形成面にゴミが付着するのを防止
するために、ペリクルを露光原版上に載置して露光作業
を行うのが一般的である。また、これらの素子や装置の
製造に用いられる露光光は、微細化の要求に対して波長
は益々短くなってきており、今日ではＦ2レーザーなど
波長２２０ｎｍ以下の露光光を使用する技術が考案され
ている。
いは液晶表示装置の製造においては、パターニングの際
に露光原版のパターン形成面にゴミが付着するのを防止
するために、ペリクルを露光原版上に載置して露光作業
を行うのが一般的である。また、これらの素子や装置の
製造に用いられる露光光は、微細化の要求に対して波長
は益々短くなってきており、今日ではＦ2レーザーなど
波長２２０ｎｍ以下の露光光を使用する技術が考案され
ている。
【０００３】図５に示すように、ペリクル１は、露光光
を透過する材料からなるペリクル膜２をペリクルフレー
ム３に接着して構成されるのが一般的であるが、従来で
はこのペリクル膜２として、厚さ１μｍ以下の合成樹脂
製の薄膜が使用されている。しかし、従来のペリクル膜
２では、上記したような短波長の光が照射されると合成
樹脂が容易に分解して実用に耐えられないため、上記し
たような短波長の露光光を用いる露光系では、合成石英
ガラスを薄い平板に加工したペリクル板を使用すること
が検討されている。尚、この合成石英ガラスは、例えば
珪素源と酸素源とを気相で反応させてスートと呼ばれる
酸化珪素からなる多孔質を成長させ、焼結して得られる
実質的に酸化珪素のみからなるガラスである
を透過する材料からなるペリクル膜２をペリクルフレー
ム３に接着して構成されるのが一般的であるが、従来で
はこのペリクル膜２として、厚さ１μｍ以下の合成樹脂
製の薄膜が使用されている。しかし、従来のペリクル膜
２では、上記したような短波長の光が照射されると合成
樹脂が容易に分解して実用に耐えられないため、上記し
たような短波長の露光光を用いる露光系では、合成石英
ガラスを薄い平板に加工したペリクル板を使用すること
が検討されている。尚、この合成石英ガラスは、例えば
珪素源と酸素源とを気相で反応させてスートと呼ばれる
酸化珪素からなる多孔質を成長させ、焼結して得られる
実質的に酸化珪素のみからなるガラスである
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図６は図５
に示したペリクル１の製造工程を説明するための断面図
（図５のＡＡ断面）であるが、先ず同図（ａ）に示すよ
うに、ペリクルフレーム３の上端面に紫外線硬化型接着
剤４を塗布し、次いで同図（ｂ）に示すように、その上
にペリクル膜２を載置し、ペリクル膜２の上方から紫外
線（ＵＶ）を照射して紫外線硬化型接着剤４を硬化させ
てペリクル膜２とペリクルフレーム３とを接着してペリ
クル１が完成する。
に示したペリクル１の製造工程を説明するための断面図
（図５のＡＡ断面）であるが、先ず同図（ａ）に示すよ
うに、ペリクルフレーム３の上端面に紫外線硬化型接着
剤４を塗布し、次いで同図（ｂ）に示すように、その上
にペリクル膜２を載置し、ペリクル膜２の上方から紫外
線（ＵＶ）を照射して紫外線硬化型接着剤４を硬化させ
てペリクル膜２とペリクルフレーム３とを接着してペリ
クル１が完成する。
【０００５】しかし、図７に示すように、上記の製造工
程に従って合成石英ガラスからなるペリクル板５を有す
るペリクル１を作製すると、ペリクル板５は実用上の強
度を確保するために０．０１〜２ｍｍ程度の板厚を有し
ているため、その自重によりペリクルフレーム３の中心
部分で下方に撓んでしまう。ペリクル板５の面積が狭い
場合には特に問題はないもの、例えば、本発明者らが試
作した１４９×１２２×０．３ｍｍのペリクル板５で
は、最大撓み量（Ｄ）は数十μｍ〜１００μｍ程度にも
なる。ペリクル板５の板厚は０．３ｍｍ（試作品）であ
るため、このような撓みが生じると、露光光のペリクル
板５への入射角度が垂直でなくなり、露光光がペリクル
板５の内部で複雑な屈折を起こして露光パターンの寸法
精度に悪影響を及ぼすようになる。
程に従って合成石英ガラスからなるペリクル板５を有す
るペリクル１を作製すると、ペリクル板５は実用上の強
度を確保するために０．０１〜２ｍｍ程度の板厚を有し
ているため、その自重によりペリクルフレーム３の中心
部分で下方に撓んでしまう。ペリクル板５の面積が狭い
場合には特に問題はないもの、例えば、本発明者らが試
作した１４９×１２２×０．３ｍｍのペリクル板５で
は、最大撓み量（Ｄ）は数十μｍ〜１００μｍ程度にも
なる。ペリクル板５の板厚は０．３ｍｍ（試作品）であ
るため、このような撓みが生じると、露光光のペリクル
板５への入射角度が垂直でなくなり、露光光がペリクル
板５の内部で複雑な屈折を起こして露光パターンの寸法
精度に悪影響を及ぼすようになる。
【０００６】従来の合成樹脂製のペリクル膜２では、膜
厚が１μｍ以下と薄く、しかも合成樹脂自体も比重が小
さいことから、上記したような自重による撓みは発生せ
ず、あるいは撓みが発生しても極く僅かであり、さらに
は膜厚が薄いことから、露光光の光路に与える影響は実
質的に無視できた。しかし、今後の微細加工のために合
成石英ガラスからなるペリクル板５を使用するのに伴
い、自重による撓みの問題は重要な課題となってくる。
さらに、ペリクル板５を用いたペリクルでは、使用に伴
って露光光照射の回数を重ねるうちに、ペリクル板の撓
みが増幅される傾向があった。
厚が１μｍ以下と薄く、しかも合成樹脂自体も比重が小
さいことから、上記したような自重による撓みは発生せ
ず、あるいは撓みが発生しても極く僅かであり、さらに
は膜厚が薄いことから、露光光の光路に与える影響は実
質的に無視できた。しかし、今後の微細加工のために合
成石英ガラスからなるペリクル板５を使用するのに伴
い、自重による撓みの問題は重要な課題となってくる。
さらに、ペリクル板５を用いたペリクルでは、使用に伴
って露光光照射の回数を重ねるうちに、ペリクル板の撓
みが増幅される傾向があった。
【０００７】本発明はこのような状況に鑑みてなされた
ものであり、ペリクル板の変形を抑制して、長い使用寿
命を保証できるペリクルを提供することを目的とする。
ものであり、ペリクル板の変形を抑制して、長い使用寿
命を保証できるペリクルを提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は、合成石英ガラスからなるペリクル板が
接着剤によりペリクルフレームに接着されてなるペリク
ルにおいて、前記ペリクルフレームが、合成石英ガラス
より熱膨張係数が小さい材料からなることを特徴とする
ペリクルを提供する。
めに、本発明は、合成石英ガラスからなるペリクル板が
接着剤によりペリクルフレームに接着されてなるペリク
ルにおいて、前記ペリクルフレームが、合成石英ガラス
より熱膨張係数が小さい材料からなることを特徴とする
ペリクルを提供する。
【０００９】以上のような構成のペリクルは、長期にわ
たってペリクル板の変形が生じない。このペリクルを用
いることで、良好な露光を行うことができる。本明細書
において「ペリクル板」とは、厚さ０．０１〜２ｍｍ程
度の合成石英ガラスからなる板材をいう。合成石英ガラ
スの線膨張係数は、室温（２０℃）で約５．７×１０-7
（℃-1）である。本発明において、ペリクルフレームの
材料として、例えば合成石英ガラスよりも熱膨張係数が
小さいセラミックスを用いることができる。このような
セラミックスとして具体的には、Ａｌ2Ｏ3（４６％）お
よびＴｉＯ 2（４５％）を主成分とするセラミックス
（例えば、旭硝子株式会社製「ローテック−ＴＭ」；線
膨張係数−１３×１０-7℃-1（２０〜３００℃での平均
値））を例示できる。なおこのセラミックスは、マシナ
ブルセラミックスと呼ばれる、加工性の良好なものであ
る。接着剤としては、従来と同様に、ポリブテン樹脂、
アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン系粘着剤等を
用いることができる。
たってペリクル板の変形が生じない。このペリクルを用
いることで、良好な露光を行うことができる。本明細書
において「ペリクル板」とは、厚さ０．０１〜２ｍｍ程
度の合成石英ガラスからなる板材をいう。合成石英ガラ
スの線膨張係数は、室温（２０℃）で約５．７×１０-7
（℃-1）である。本発明において、ペリクルフレームの
材料として、例えば合成石英ガラスよりも熱膨張係数が
小さいセラミックスを用いることができる。このような
セラミックスとして具体的には、Ａｌ2Ｏ3（４６％）お
よびＴｉＯ 2（４５％）を主成分とするセラミックス
（例えば、旭硝子株式会社製「ローテック−ＴＭ」；線
膨張係数−１３×１０-7℃-1（２０〜３００℃での平均
値））を例示できる。なおこのセラミックスは、マシナ
ブルセラミックスと呼ばれる、加工性の良好なものであ
る。接着剤としては、従来と同様に、ポリブテン樹脂、
アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン系粘着剤等を
用いることができる。
【００１０】また、前述した目的を達成するために、本
発明は、露光光がペリクル板を透過する時のペリクルの
温度より高い温度下で、合成石英ガラスからなるペリク
ル板を、合成石英ガラスよりも熱膨張係数が小さい材料
からなるペリクルフレーム上に接着剤により接着するペ
リクル板とペリクルフレームとの接着方法を提供する。
発明は、露光光がペリクル板を透過する時のペリクルの
温度より高い温度下で、合成石英ガラスからなるペリク
ル板を、合成石英ガラスよりも熱膨張係数が小さい材料
からなるペリクルフレーム上に接着剤により接着するペ
リクル板とペリクルフレームとの接着方法を提供する。
【００１１】例えば５０〜３００℃程度の温度下でペリ
クル板とペリクルフレームとを接着してペリクルを構成
した後、そのペリクルの温度が、ペリクルの使用温度
（露光光がペリクル板を透過する時のペリクルの温度）
である５０℃付近またはそれ以下の室温にまで下がった
際に、ペリクル板がペリクルフレームより大きく収縮す
る。このとき、ペリクル板の自重による撓み変形が補正
される。したがって、露光原版に対するペリクル板の平
行度が高い高品質のペリクルを得ることができる。ま
た、こうして得られたペリクルは、使用に伴って露光光
照射の回数を重ねても、ペリクル板の撓みの発生、増幅
がなく、長い使用寿命を保証できる。
クル板とペリクルフレームとを接着してペリクルを構成
した後、そのペリクルの温度が、ペリクルの使用温度
（露光光がペリクル板を透過する時のペリクルの温度）
である５０℃付近またはそれ以下の室温にまで下がった
際に、ペリクル板がペリクルフレームより大きく収縮す
る。このとき、ペリクル板の自重による撓み変形が補正
される。したがって、露光原版に対するペリクル板の平
行度が高い高品質のペリクルを得ることができる。ま
た、こうして得られたペリクルは、使用に伴って露光光
照射の回数を重ねても、ペリクル板の撓みの発生、増幅
がなく、長い使用寿命を保証できる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明に関して図面を参照
して説明する。
して説明する。
【００１３】図１は本発明の実施形態であるペリクル１
１の斜視図であり、図２は図１のペリクル１１を露光原
版８に装着した様子を示す断面図である。ペリクル１１
は、露光光を透過させるペリクル板５を接着剤４により
ペリクルフレーム６に接着して構成されている。図２に
示すように、ペリクル１１は、ペリクルフレーム６を接
着剤７により露光原版８に接着固定される。
１の斜視図であり、図２は図１のペリクル１１を露光原
版８に装着した様子を示す断面図である。ペリクル１１
は、露光光を透過させるペリクル板５を接着剤４により
ペリクルフレーム６に接着して構成されている。図２に
示すように、ペリクル１１は、ペリクルフレーム６を接
着剤７により露光原版８に接着固定される。
【００１４】ペリクルフレーム６は、例えば、セラミッ
クスからなる板材からエンドミルを用いて長方形状に所
定の枠厚で切り取り、高さ方向の平行度を出すためにダ
イヤモンドや酸化セリウム、シリカ、アルミナなどから
なる砥粒を用いて上下端面を鏡面研磨することで形成で
きる。
クスからなる板材からエンドミルを用いて長方形状に所
定の枠厚で切り取り、高さ方向の平行度を出すためにダ
イヤモンドや酸化セリウム、シリカ、アルミナなどから
なる砥粒を用いて上下端面を鏡面研磨することで形成で
きる。
【００１５】ペリクル板５とペリクルフレーム６とを接
着する方法を説明する。先ず、図３（ａ）に示すよう
に、ペリクルフレーム６の一方の端面（図では上端面）
に紫外線硬化型接着剤４を塗布する。次に、図３（ｂ）
に示すように、露光光がペリクル板５を透過する時のペ
リクルの温度より高温に設定された恒温槽１０で、ペリ
クル板５の平面状態をなるべく保ちつつ、すなわちペリ
クル板５の中心側が重力方向に変位してペリクル板５が
たわむことを防ぎつつ、ペリクル板５をペリクルフレー
ム６に塗布された接着剤４上に載置する。そして、図示
は省略される紫外線源から紫外線（ＵＶ）を照射して接
着剤４を硬化させる。
着する方法を説明する。先ず、図３（ａ）に示すよう
に、ペリクルフレーム６の一方の端面（図では上端面）
に紫外線硬化型接着剤４を塗布する。次に、図３（ｂ）
に示すように、露光光がペリクル板５を透過する時のペ
リクルの温度より高温に設定された恒温槽１０で、ペリ
クル板５の平面状態をなるべく保ちつつ、すなわちペリ
クル板５の中心側が重力方向に変位してペリクル板５が
たわむことを防ぎつつ、ペリクル板５をペリクルフレー
ム６に塗布された接着剤４上に載置する。そして、図示
は省略される紫外線源から紫外線（ＵＶ）を照射して接
着剤４を硬化させる。
【００１６】たわみを防ぎつつぺリクル板５をペリクル
フレーム６上に載置する方法として、次のようなものが
挙げられる。例えば、ペリクル板５の材料となる合成石
英ガラス板として、ペリクル板５の外形寸法より大きい
寸法の例えば平面視円形状のものを用意する。そして、
その合成石英ガラス板の周縁部をリング状のフレーム材
等で把持しつつ、その合成石英ガラス板をその面方向に
引張り、合成石英ガラス板に張力をかける。このとき、
均一な張力をかける観点から、合成石英ガラス板とリン
グ状フレーム材とを接着剤により接着しておき、リング
状フレーム材からの張力を接着剤を介して合成石英ガラ
ス板に伝わらせることが好ましい。そして、その張力が
かかった状態を維持しつつ、合成石英ガラス板を移動し
て接着剤を塗布したペリクルフレーム６上に載置した
り、ペリクルフレーム６を合成石英ガラス板に移動して
接着したりする。合成石英ガラス板とペリクルフレーム
６とが接着された後、合成石英ガラス板をペリクル板５
の形状にカットする。こうしてペリクル板５をペリクル
フレーム６上に載置固定できる。また、次のようにする
こともできる。先ず、上記方法と同様に、ペリクル板５
より外形寸法が大きい合成石英ガラス板を用意し、接着
剤を塗布したペリクルフレーム６上にその合成石英ガラ
ス板を載置する。そして、合成石英ガラス板のペリクル
フレーム６外周より外側に突出した部分におもりを載せ
ることで、合成石英ガラス板に張力をかけて、この状態
で合成石英ガラス板とペリクルフレーム６とを接着す
る。その後、合成石英ガラス板をペリクル板５の形状に
カットする。他にも、合成石英ガラス板またはペリクル
板５を、その面方向が重力方向に対して平行となるよう
な状態、すなわち立てた状態にして、ペリクルフレーム
６と接着させる方法が考えられる。
フレーム６上に載置する方法として、次のようなものが
挙げられる。例えば、ペリクル板５の材料となる合成石
英ガラス板として、ペリクル板５の外形寸法より大きい
寸法の例えば平面視円形状のものを用意する。そして、
その合成石英ガラス板の周縁部をリング状のフレーム材
等で把持しつつ、その合成石英ガラス板をその面方向に
引張り、合成石英ガラス板に張力をかける。このとき、
均一な張力をかける観点から、合成石英ガラス板とリン
グ状フレーム材とを接着剤により接着しておき、リング
状フレーム材からの張力を接着剤を介して合成石英ガラ
ス板に伝わらせることが好ましい。そして、その張力が
かかった状態を維持しつつ、合成石英ガラス板を移動し
て接着剤を塗布したペリクルフレーム６上に載置した
り、ペリクルフレーム６を合成石英ガラス板に移動して
接着したりする。合成石英ガラス板とペリクルフレーム
６とが接着された後、合成石英ガラス板をペリクル板５
の形状にカットする。こうしてペリクル板５をペリクル
フレーム６上に載置固定できる。また、次のようにする
こともできる。先ず、上記方法と同様に、ペリクル板５
より外形寸法が大きい合成石英ガラス板を用意し、接着
剤を塗布したペリクルフレーム６上にその合成石英ガラ
ス板を載置する。そして、合成石英ガラス板のペリクル
フレーム６外周より外側に突出した部分におもりを載せ
ることで、合成石英ガラス板に張力をかけて、この状態
で合成石英ガラス板とペリクルフレーム６とを接着す
る。その後、合成石英ガラス板をペリクル板５の形状に
カットする。他にも、合成石英ガラス板またはペリクル
板５を、その面方向が重力方向に対して平行となるよう
な状態、すなわち立てた状態にして、ペリクルフレーム
６と接着させる方法が考えられる。
【００１７】恒温槽１０から取り出されて、露光光がペ
リクル板を透過する時のペリクルの温度である５０℃付
近またはそれ以下の室温にまでペリクル１１の温度が下
がった際には、ペリクル板５がペリクルフレーム６より
大きく収縮する。このとき、相対的にペリクル板５がペ
リクルフレーム６により外方に引っ張られる。その結
果、仮にペリクル板５の自重による撓み変形が生じてい
ても、この撓み変形は補正される。こうして製造された
ペリクル１１は、図２に示すような、使用時における露
光原版８に対するペリクル板５の平行度が極めて高い。
また、このペリクル１１は、使用時、非使用時のいずれ
においても、ペリクル板５が相対的にペリクルフレーム
６により外方に引っ張られた状態にあるため、ペリクル
板５が変形しにくい。さらに、ペリクルフレーム６がセ
ラミックスからなるため、ペリクルフレーム６の強度も
高い。したがって、このペリクル１１は長い使用寿命を
保証できる。
リクル板を透過する時のペリクルの温度である５０℃付
近またはそれ以下の室温にまでペリクル１１の温度が下
がった際には、ペリクル板５がペリクルフレーム６より
大きく収縮する。このとき、相対的にペリクル板５がペ
リクルフレーム６により外方に引っ張られる。その結
果、仮にペリクル板５の自重による撓み変形が生じてい
ても、この撓み変形は補正される。こうして製造された
ペリクル１１は、図２に示すような、使用時における露
光原版８に対するペリクル板５の平行度が極めて高い。
また、このペリクル１１は、使用時、非使用時のいずれ
においても、ペリクル板５が相対的にペリクルフレーム
６により外方に引っ張られた状態にあるため、ペリクル
板５が変形しにくい。さらに、ペリクルフレーム６がセ
ラミックスからなるため、ペリクルフレーム６の強度も
高い。したがって、このペリクル１１は長い使用寿命を
保証できる。
【００１８】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に説明す
る。
る。
【００１９】旭硝子株式会社製「ローテック−ＴＭ」か
らなる板厚６．５ｍｍの平板から、エンドミルを用いて
外寸１４９ｍｍ×１２２ｍｍ、内寸１４５ｍｍ×１１８
ｍｍの長方形の枠体を切り出し、各角部に半径５ｍｍの
丸みをつけ、さらにダイヤモンド砥粒を用いて上下端面
を研磨して高さ５．８ｍｍのペリクルフレームを作成し
た。このペリクルフレームの上端面に、ポリブテン系紫
外線硬化型接着剤を塗布した。その上に、厚さ０．３ｍ
ｍで、ペリクルフレームの外寸に一致する平面形状のペ
リクル板を載置した。
らなる板厚６．５ｍｍの平板から、エンドミルを用いて
外寸１４９ｍｍ×１２２ｍｍ、内寸１４５ｍｍ×１１８
ｍｍの長方形の枠体を切り出し、各角部に半径５ｍｍの
丸みをつけ、さらにダイヤモンド砥粒を用いて上下端面
を研磨して高さ５．８ｍｍのペリクルフレームを作成し
た。このペリクルフレームの上端面に、ポリブテン系紫
外線硬化型接着剤を塗布した。その上に、厚さ０．３ｍ
ｍで、ペリクルフレームの外寸に一致する平面形状のペ
リクル板を載置した。
【００２０】上記のペリクルフレームおよびペリクル板
を、温度２００℃の恒温槽に入れ、紫外線を照射（３０
００Ｊ／ｃｍ2）して接着剤を硬化させてペリクルフレ
ームとペリクル板とを接着した。接着後、ペリクルを恒
温槽から取り出し、２０℃で１２時間放置した後、レー
ザーフォーカス変位計ＬＴ−８１００（株式会社キーエ
ンス製）を用いて２０℃にてペリクル板の最大撓み量を
測定した。測定の結果、ペリクル板の撓みはほぼゼロで
あった。比較のため、上記のペリクルフレームおよびペ
リクル板を、温度１５０℃、１２０℃、１００℃、７５
℃、５０℃、２５℃の恒温層に入れて、それぞれ同様に
ペリクルフレームとペリクル板とを接着して最大撓み量
を測定した。その結果を図４に示す。図４に示すよう
に、２５℃の温度下でペリクルフレームとペリクル板と
を接着したものは最大撓み量が４０μｍ以上（４１．３
μｍ）であったのに対して、５０℃の温度下でペリクル
フレームとペリクル板とを接着したものは最大撓み量が
２５μｍ以下（２３．９μｍ）と大幅に減った。
を、温度２００℃の恒温槽に入れ、紫外線を照射（３０
００Ｊ／ｃｍ2）して接着剤を硬化させてペリクルフレ
ームとペリクル板とを接着した。接着後、ペリクルを恒
温槽から取り出し、２０℃で１２時間放置した後、レー
ザーフォーカス変位計ＬＴ−８１００（株式会社キーエ
ンス製）を用いて２０℃にてペリクル板の最大撓み量を
測定した。測定の結果、ペリクル板の撓みはほぼゼロで
あった。比較のため、上記のペリクルフレームおよびペ
リクル板を、温度１５０℃、１２０℃、１００℃、７５
℃、５０℃、２５℃の恒温層に入れて、それぞれ同様に
ペリクルフレームとペリクル板とを接着して最大撓み量
を測定した。その結果を図４に示す。図４に示すよう
に、２５℃の温度下でペリクルフレームとペリクル板と
を接着したものは最大撓み量が４０μｍ以上（４１．３
μｍ）であったのに対して、５０℃の温度下でペリクル
フレームとペリクル板とを接着したものは最大撓み量が
２５μｍ以下（２３．９μｍ）と大幅に減った。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ペリクル板の変形を抑制して、使用寿命が長く高品質な
ペリクルを提供できる。
ペリクル板の変形を抑制して、使用寿命が長く高品質な
ペリクルを提供できる。
【図１】本発明の一実施形態を示す斜視図である。
【図２】図１のペリクルを露光原版に装着したときの断
面図である。
面図である。
【図３】本発明のペリクルの製造方法を説明する図であ
る。
る。
【図４】接着温度と撓み量の関係を示すグラフである。
【図５】従来のペリクル膜を用いたペリクルを示す斜視
図である。
図である。
【図６】従来のペリクル膜を用いたペリクルの製造方法
を説明する図である。
を説明する図である。
【図７】従来のペリクル板を用いたペリクルの模式断面
図である。
図である。
４，７ 接着剤 ５ ペリクル板 ６ ペリクルフレーム ８ 露光原版 １１ ペリクル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岡田 要 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社内 (72)発明者 菊川 信也 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社内 (72)発明者 有島 浩 東京都千代田区有楽町一丁目12番１号 旭 硝子株式会社内 (72)発明者 森田 寛 東京都千代田区有楽町一丁目12番１号 旭 硝子株式会社内 (72)発明者 重松 茂人 山口県玖珂郡和木町和木六丁目１番２号 三井化学株式会社内 (72)発明者 中川 広秋 山口県玖珂郡和木町和木六丁目１番２号 三井化学株式会社内 Ｆターム(参考） 2H095 BC33 BC37
Claims (3)
- 【請求項１】合成石英ガラスからなるペリクル板が接着
剤によりペリクルフレームに接着されてなるペリクルに
おいて、前記ペリクルフレームが、合成石英ガラスより
熱膨張係数が小さい材料からなることを特徴とするペリ
クル。 - 【請求項２】前記ペリクルフレームの材料がセラミック
スである請求項１に記載のペリクル。 - 【請求項３】露光光がペリクル板を透過する時のペリク
ルの温度より高い温度下で、合成石英ガラスからなるペ
リクル板を、合成石英ガラスよりも熱膨張係数が小さい
材料からなるペリクルフレーム上に接着剤により接着す
るペリクル板とペリクルフレームとの接着方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000231220A JP2002040628A (ja) | 2000-07-31 | 2000-07-31 | ペリクルおよびペリクル板とペリクルフレームとの接着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000231220A JP2002040628A (ja) | 2000-07-31 | 2000-07-31 | ペリクルおよびペリクル板とペリクルフレームとの接着方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002040628A true JP2002040628A (ja) | 2002-02-06 |
Family
ID=18724086
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000231220A Pending JP2002040628A (ja) | 2000-07-31 | 2000-07-31 | ペリクルおよびペリクル板とペリクルフレームとの接着方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002040628A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005148620A (ja) * | 2003-11-19 | 2005-06-09 | Asahi Glass Co Ltd | ペリクルおよびペリクル製品群 |
| JP2005165141A (ja) * | 2003-12-04 | 2005-06-23 | Semiconductor Leading Edge Technologies Inc | ペリクルの製造方法 |
| JP2007003747A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Hoya Corp | ペリクル付きフォトマスク及びペリクル |
| JP2016122092A (ja) * | 2014-12-25 | 2016-07-07 | 日本特殊陶業株式会社 | ペリクル枠およびペリクル枠の製造方法 |
| JP2016177120A (ja) * | 2015-03-20 | 2016-10-06 | 日本特殊陶業株式会社 | ペリクル枠およびペリクル枠の製造方法 |
| JP2016200616A (ja) * | 2015-04-07 | 2016-12-01 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル用フレーム及びそれを用いたペリクル |
| JP2017076024A (ja) * | 2015-10-14 | 2017-04-20 | 日本特殊陶業株式会社 | ペリクル枠およびペリクル枠の製造方法 |
| JP2017227914A (ja) * | 2012-12-12 | 2017-12-28 | 大日本印刷株式会社 | 露光用部材、露光マスクの保持部材 |
| JP2018049256A (ja) * | 2016-04-05 | 2018-03-29 | 旭化成株式会社 | ペリクル |
-
2000
- 2000-07-31 JP JP2000231220A patent/JP2002040628A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005148620A (ja) * | 2003-11-19 | 2005-06-09 | Asahi Glass Co Ltd | ペリクルおよびペリクル製品群 |
| JP2005165141A (ja) * | 2003-12-04 | 2005-06-23 | Semiconductor Leading Edge Technologies Inc | ペリクルの製造方法 |
| JP2007003747A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Hoya Corp | ペリクル付きフォトマスク及びペリクル |
| JP2017227914A (ja) * | 2012-12-12 | 2017-12-28 | 大日本印刷株式会社 | 露光用部材、露光マスクの保持部材 |
| JP2016122092A (ja) * | 2014-12-25 | 2016-07-07 | 日本特殊陶業株式会社 | ペリクル枠およびペリクル枠の製造方法 |
| JP2016177120A (ja) * | 2015-03-20 | 2016-10-06 | 日本特殊陶業株式会社 | ペリクル枠およびペリクル枠の製造方法 |
| JP2016200616A (ja) * | 2015-04-07 | 2016-12-01 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル用フレーム及びそれを用いたペリクル |
| EP3079014A3 (en) * | 2015-04-07 | 2017-06-14 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | An euv pellicle frame and an euv pellicle using it |
| JP2017076024A (ja) * | 2015-10-14 | 2017-04-20 | 日本特殊陶業株式会社 | ペリクル枠およびペリクル枠の製造方法 |
| JP2018049256A (ja) * | 2016-04-05 | 2018-03-29 | 旭化成株式会社 | ペリクル |
| JP2022010209A (ja) * | 2016-04-05 | 2022-01-14 | 旭化成株式会社 | ペリクル |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN1151511C (zh) | 曲面光学元件及制作方法 | |
| KR101478123B1 (ko) | 리소그래피용 펠리클 | |
| KR101762957B1 (ko) | 펠리클 및 그 부착 방법, 그리고 펠리클 부착 마스크 및 마스크 | |
| TWI409581B (zh) | 防塵薄膜組件之製造方法、微影用防塵薄膜組件框架及微影用防塵薄膜組件 | |
| US6977126B2 (en) | Pellicle, photomask, pellicle frame, and method for manufacturing pellicle | |
| US8524422B2 (en) | Low expansion glass substrate for reflection type mask and method for processing same | |
| JP2002040628A (ja) | ペリクルおよびペリクル板とペリクルフレームとの接着方法 | |
| JP2016130789A (ja) | Ｅｕｖマスク用ペリクル | |
| JP6175470B2 (ja) | レーザダイシング装置及び方法 | |
| JP2002040629A (ja) | ペリクル板とペリクルフレームとの接着方法 | |
| KR20050022291A (ko) | 리소그래피용 펠리클 | |
| JP2003307832A (ja) | ペリクル及びペリクル装着フォトマスク | |
| JP2004012597A (ja) | ペリクル | |
| JP4082845B2 (ja) | リソグラフィー用ペリクルおよびペリクル膜の反りの緩和方法 | |
| JP3429752B2 (ja) | 透明物質の接合方法並びに接合された石英ガラス板及びそれを用いた装置 | |
| JP2002323752A (ja) | ペリクル | |
| JP2002323751A (ja) | ペリクル | |
| JPH1165092A (ja) | ペリクルおよびペリクルの製造方法 | |
| JP2005308901A (ja) | ペリクルフレーム及びそれを用いたフォトリソグラフィー用ペリクル | |
| JPH0868898A (ja) | 反射鏡およびその製造方法 | |
| JP2003186180A (ja) | ペリクルフレームの製造方法およびペリクル | |
| JP2005524862A (ja) | 石英基板からなる光学素子を製造する方法 | |
| JP2012112998A (ja) | リソグラフィ用ペリクルの貼り付け方法および装置 | |
| JP6483204B2 (ja) | レーザダイシング装置及び方法 | |
| JP2003186179A (ja) | ペリクルマウンタおよびペリクルのフォトマスクへの装着方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20060424 |