JP2002296763A - 大型ペリクル - Google Patents
大型ペリクルInfo
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Abstract
持する枠体を有する大型ペリクルであって、少なくとも
一対の辺を枠体の外側に向かって突出するように形成し
たことで、該長辺の枠体の内側に向かう撓みを抑制して
フォトマスクの有効露光領域を確保することが出来、更
にはフォトマスクへの良好な貼り付け性能を確保し得る
大型ペリクルを提供することを可能にすることを目的と
している。 【解決手段】 膜厚が1μm以上、且つ10μm以下の
ペリクル膜2を展張する面積が1000cm2以上で且つ
枠体1のうち一対の長辺1aが該枠体1の外側に向かっ
て突出するように形成され、枠体1のペリクル膜2が貼
着される面と反対側の面には厚みが0.2mm以上、且つ
3mm以下で圧縮硬さが0.13N/cm2以上、且つ130.
00N/cm2以下のマスク粘着材3により、厚みが25μ
m以上、且つ1mm以下で弾性率が0.5GPa以上、且つ
50GPa以下の保護フィルム4が貼着されたことを特徴
とする。
Description
路)、LSI(大規模集積回路)、TFTLCD(薄膜
トランジスタ液晶ディスプレイ)等の半導体装置を製造
する際のリソグラフィー工程で使用されるフォトマスク
やレティクルに異物が付着することを防止するために用
いられるペリクルに関するものである。
いては、フォトマスクやレティクルの両面側にペリクル
と称する防塵手段を配置して該フォトマスクやレティク
ルへの異物の付着を防止することが行われている。
状に合わせた形状を有する厚さ数ミリ程度の枠体の一方
の縁面にニトロセルロース或いはセルロース誘導体等の
透明な高分子膜からなるペリクル膜を展張して接着し、
且つ該枠体の他方の縁面にマスク粘着材を介してフォト
マスクやレティクルの表面に貼着される。
付着した場合、その異物が半導体ウェハ上に形成された
フォトレジスト上に結像して回路パターン欠陥の原因と
なるが、フォトマスクやレティクルにペリクルを配置し
た場合、ペリクルの表面に付着した異物はフォーカス位
置のずれによって半導体ウェハ上に形成されたフォトレ
ジスト上に結像することなく回路パターンに欠陥を生じ
させないものである。
枠体は、直径5インチ(127mm)の半導体ウェハに応
じた大きさで方形状に形成されたものが一般である。
メディアの普及により高画質、高精細表示が可能な大型
のカラーTFTLCD(薄膜トランジスタ液晶ディスプ
レイ)のフォトリソグラフィ工程で使用される大型のフ
ォトマスクに適用出来る大型ペリクルが要望されてい
る。
晶ディスプレイ)等のフォトリソグラフィ工程で使用さ
れる大型のフォトマスクに適用出来る大型ペリクルの枠
体としては、長辺と短辺を有する方形状のものが一般で
あるが、この枠体にペリクル膜を貼り付けると、該ペリ
クル膜の張力により特に長辺が枠体の内側に向かって撓
み易く、この撓みによってフォトマスクの有効露光領域
が小さくなってしまうという問題があり、大型ペリクル
膜の展張面積が大きくなるにつれてその現象が顕著にな
る。
その目的とするところは、大型ペリクル膜を展張して貼
着支持する枠体を有する大型ペリクルであって、少なく
とも一対の辺を枠体の外側に向かって突出するように形
成したことで、該枠体の内側に向かう撓みを抑制してフ
ォトマスクの有効露光領域を確保することが出来、更に
はフォトマスクの良好な貼り付け性能を確保し得る大型
ペリクルを提供せんとするものである。
ク粘着材は枠体がペリクル膜の張力により略直線上に遷
移しても皺が入らないように枠体の変形に追従すること
が望ましい。マスク粘着材に皺が入るとペリクルをフォ
トマスクに貼り付ける際にエアーパスが発生する虞が有
る。
反対側の面にマスク粘着材によって貼着される保護フィ
ルムもペリクル膜の張力による枠体の変形によってマス
ク粘着材から部分的にも剥がれないように枠体の変形に
追従することが望ましい。
するための本発明に係る大型ペリクルは、大型ペリクル
膜を展張して貼着支持する4辺の枠体を有し、該大型ペ
リクル膜を展張する面積が1000cm2以上で構成さ
れ、且つ前記大型ペリクル膜が貼着される前記枠体のう
ち少なくとも一対の辺を該枠体の外側に向かって突出す
るように形成した大型ペリクルであって、前記枠体の前
記大型ペリクル膜が貼着される面と反対側の面には所定
の圧縮硬さを有するマスク粘着材によって保護フィルム
が貼着されたことを特徴とする。
ペリクル膜を展張する面積が1000cm2以上であるこ
とから大型のTFTLCD(薄膜トランジスタ液晶ディ
スプレイ)のフォトリソグラフィ工程で使用される大型
のフォトマスクに適用出来る大型ペリクルとして利用す
ることが出来る。
かって突出するように形成したことで、大型ペリクル膜
の張力による該長辺の枠体の内側に向かう撓みを抑制し
てフォトマスクの有効露光領域を確保することが出来
る。
面と反対側の面に所定の圧縮硬さを有するマスク粘着材
によって保護フィルムが貼着された場合には保護フィル
ムによりマスク粘着材を保護することが出来、フォトマ
スクへの良好な貼り付け性能を確保することが出来る。
以上、且つ3mm以下で、且つ該マスク粘着材の圧縮硬さ
が、0.13N/cm2以上、且つ130.00N/cm2以
下、好ましくは0.13N/cm2以上、且つ13.00N/
cm2以下であれば枠体の変形によりマスク粘着材に皺等
の変形が生じることがなく、フォトマスクへの良好な貼
り付け性能を確保することが出来る。尚、マスク粘着材
の幅は枠体の幅以下でホットメルト、両面テープ等の材
質が適用可能である。
以上、且つ1mm以下で、且つ該保護フィルムの弾性率が
0.5GPa以上、且つ50GPa以下であれば枠体の変形に
より保護フィルムに皺等の変形が生じることがなく、フ
ォトマスクへの良好な貼り付け性能を確保することが出
来る。
上或いは枠体サイズ以上の大きさのPET(ポリエチレ
ンテレフタレート)等の材質が適用可能であり、保護フ
ィルムはマスク粘着材の全表面を含む枠体の全面を覆う
場合でも良いし、マスク粘着材の全表面のみを覆う場合
でも良い。
成は、大型ペリクル膜を展張して貼着支持する一対の長
辺と一対の短辺とからなる4辺の枠体を有する大型ペリ
クルであって、前記大型ペリクル膜が展張される前記枠
体のうち少なくとも一対の長辺を該枠体の外側に向かっ
て突出するように形成し、該枠体の一対の長辺が、これ
に貼着された前記大型ペリクル膜の張力により略直線状
に遷移し、該大型ペリクル膜の膜厚が1μm以上、且つ
10μm以下で且つ該大型ペリクル膜を展張する面積が
1000cm2以上で構成されたことを特徴とする。
外側に向かって突出するように形成され、該枠体に貼着
された大型ペリクル膜の張力により略直線状に遷移する
ように設定されたことで、大型ペリクル膜の張力がかか
った状態で枠体のうち少なくとも一対の長辺の内側への
突出がなくなるためフォトマスクのサイズを大きくせず
に有効露光面積を大きくすることが出来る。
上、且つ10μm以下に設定したことで、大型ペリクル
膜を展張する面積が1000cm2以上で構成された場合
であっても大型ペリクル膜の強度を維持することが出来
る。
ルの一実施形態を具体的に説明する。図1は本発明に係
る大型ペリクルの枠体の構成を示す斜視図、図2は本発
明に係る大型ペリクルの第1実施形態の構成を示す平面
図及び側面図、図3は本発明に係る大型ペリクルの第2
実施形態の構成を示す平面図及び側面図、図4は枠体に
大型ペリクル膜が貼着されて長辺が略直線状に遷移した
様子を示す図である。
上、且つ10μm以下のニトロセルロースやセルロース
誘導体等の透明な高分子膜で構成される大型ペリクル膜
(以下、単に「ペリクル膜」という)2を展張して貼着
支持するアルミニウムやその合金、或いは鉄や鉄系合金
等により構成される大型ペリクル枠体(以下、単に「枠
体」という)である。
とからなる4辺を有しており、長辺1a及び短辺1bは
所定の幅寸法と、互いに等しい所定の高さ寸法と、互い
に異なる所定の長さ寸法とを夫々有して構成されてい
る。枠体1の長辺1a及び短辺1bの一方の面には該枠
体1の全体に亘って平坦面で構成され、ペリクル膜2を
貼着するための貼着面1a1,1b1が形成されている。
000cm2以上で構成され、該枠体1の一対の長辺1a
は枠体1の外側に向かって突出するように形成されてい
る。本実施形態では、枠体1の一対の長辺1aは所定の
曲率を有して外側に向かって湾曲突出したものである
が、楕円形状や放物線形状、或いは他の各種形状で突出
させても良い。
積が1000cm2以上であることから大型のTFTLC
D(薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ)のフォトリソ
グラフィ工程で使用される大型のフォトマスクに適用出
来る大型ペリクルとして利用することが出来る。
クル膜2が貼着される貼着面1a1,1b1と反対側の面には
圧縮硬さが0.13N/cm2以上、且つ130.00N/cm2
以下に設定されたマスク粘着材3が枠体1の長辺1a及
び短辺1bの夫々の幅以下の幅で、且つ0.2mm以上、
且つ3mm以下の厚みで塗布され、該マスク粘着材3によ
って、厚みが25μm以上、且つ1mm以下で、且つ弾性
率が0.5GPa以上、且つ50GPa以下に設定された保護
フィルム4が貼着されている。
プ等の材質が適用可能である。
幅以上或いは枠体1の外形以上の大きさを有するPET
(ポリエチレンテレフタレート)等が適用可能であり、
保護フィルム4は、図2に示すように、マスク粘着材3
の全表面を含む枠体1の全面を覆う略方形状の場合でも
良いし、図3に示すように、マスク粘着材3の全表面の
みを覆う枠形状の場合でも良い。
1a1,1b1と反対側の面に所定の圧縮硬さを有するマスク
粘着材3によって保護フィルム4が貼着された場合に
は、該保護フィルム4によりマスク粘着材3を保護する
ことが出来、フォトマスクへの良好な貼り付け性能を確
保することが出来る。
護フィルム4が貼着された枠体1は、図4に示すよう
に、枠体1の長辺1a及び短辺1bの貼着面1a1,1b1に
接着剤が塗布されてペリクル膜2が展張して貼着され
る。
クル膜2の張力は、特に長辺1aが枠体1の内側に向か
って撓みが発生するように作用するが、枠体1の一対の
長辺1aを該枠体1の外側に向かって突出するように形
成したことで、該長辺1aの枠体1の内側に向かう撓み
を抑制して上記大型ペリクルが取り付けられる図示しな
いフォトマスクの有効露光領域を確保することが出来
る。
向かって突出するように形成された一対の長辺1aが該
枠体1の貼着面1a1,1b1に貼着されたペリクル膜2の張
力により略直線状に遷移するように設定された場合に
は、ペリクル膜2の張力がかかった状態で枠体1の一対
の長辺1aの内側への突出がなくなるためフォトマスク
のサイズを大きくせずに有効露光面積を大きくすること
が出来る。
成された一対の長辺1aがペリクル膜2の張力により略
直線状に遷移する一例として、枠体1の材質としてアル
ミニウム合金を使用し、長辺1a及び短辺1bの断面形
状が幅7mm、高さ4.3mmの方形状で、一対の短辺1b
の長さが348mm、一対の長辺1aの長さが582mm、
該長辺1aの中央部の突出量を1mmとし、ペリクル膜2
の材質としてセルロース系ポリマーを使用し、その膜厚
を4μmとした場合、枠体1の貼着面1a1,1b1にペリク
ル膜2を貼着した後の該ペリクル膜2の張力により略直
線状に遷移した長辺1aの中央部の最大突出量が0.1
〜0.2mmであった。
0.2mm以上、且つ3mm以下で、且つ該マスク粘着材3
の圧縮硬さが0.13N/cm2以上、且つ130.00N/cm
2以下であれば、図4に示す枠体1の変形によりマスク
粘着材3に皺等の変形が生じることがなく、フォトマス
クへの良好な貼り付け性能を確保することが出来る。
当っては、「JISK6767」の測定方法に基づい
て、次の条件で実施した。 試験片サイズ:t25mm×50mm□ ※材料のフォームの厚みがt0.8mmであるために、J
ISで認められている内容に従って25mmの厚みに達す
るまで積層した。 圧縮条件:10mm/secのスピードで厚みの25%まで圧
縮 測定方法:25%まで圧縮し20秒止めた際の荷重を測
定
上、且つ1mm以下で、且つ該保護フィルム4の弾性率が
0.5GPa以上、且つ50GPa以下であれば枠体1の変形
により保護フィルム4に皺等の変形が生じることがな
く、フォトマスクへの良好な貼り付け性能を確保するこ
とが出来る。
且つ10μm以下に設定したことで、ペリクル膜2を展
張する面積が1000cm2以上で構成された場合であっ
てもペリクル膜2の強度を維持することが出来る。
1bとを有する略方形状の枠体1を有して構成された大
型ペリクルの一例について説明したが、4辺が略等しい
略正方形の枠体1を有する大型ペリクルについても同様
に適用することが出来る。
辺を該枠体1の外側に向かって突出るように形成すれば
良く、対向する2辺を枠体1の外側に向かって突出るよ
うに形成しても良いし、4辺全てを枠体1の外側に向か
って突出るように形成しても良い。
いて、長辺1a及び短辺1bの4辺全てを枠体1の外側
に向かって突出るように形成しても良い。
するので、大型ペリクル膜を展張する面積が1000cm
2以上であることから大型のTFTLCD(薄膜トラン
ジスタ液晶ディスプレイ)のフォトリソグラフィ工程で
使用される大型のフォトマスクに適用出来る大型ペリク
ルとして利用することが出来る。
向かって突出するように形成したことで、大型ペリクル
膜の張力による該長辺の枠体の内側に向かう撓みを抑制
してフォトマスクの有効露光領域を確保することが出来
る。
着された大型ペリクル膜の張力により略直線状に遷移す
るように設定された場合には、大型ペリクル膜の張力が
かかった状態で枠体の一対の長辺の内側への突出がなく
なるためフォトマスクのサイズを大きくせずに有効露光
面積を大きく出来る。
変形しても、その枠体の変形によりマスク粘着材に皺等
の変形が生じることが無いためフォトマスクへの良好な
貼り付け性能を維持することが出来る。
斜視図である。
成を示す平面図及び側面図である。
成を示す平面図及び側面図である。
線状に遷移した様子を示す図である。
Claims (4)
- 【請求項1】 大型ペリクル膜を展張して貼着支持する
4辺の枠体を有し、該大型ペリクル膜を展張する面積が
1000cm2以上で構成され、且つ前記大型ペリクル膜
が貼着される前記枠体のうち少なくとも一対の辺を該枠
体の外側に向かって突出するように形成した大型ペリク
ルであって、 前記枠体の前記大型ペリクル膜が貼着される面と反対側
の面には所定の圧縮硬さを有するマスク粘着材によって
保護フィルムが貼着されたことを特徴とする大型ペリク
ル。 - 【請求項2】 前記マスク粘着材の厚みが0.2mm以
上、且つ3mm以下で、且つ該マスク粘着材の圧縮硬さが
0.13N/cm2以上、且つ130.00N/cm2以下である
ことを特徴とする請求項1に記載の大型ペリクル。 - 【請求項3】 前記保護フィルムの厚みが25μm以
上、且つ1mm以下で、且つ該保護フィルムの弾性率が
0.5GPa以上、且つ50GPa以下であることを特徴とす
る請求項1に記載の大型ペリクル。 - 【請求項4】 大型ペリクル膜を展張して貼着支持する
一対の長辺と一対の短辺とからなる4辺の枠体を有する
大型ペリクルであって、前記大型ペリクル膜が展張され
る前記枠体のうち少なくとも一対の長辺を該枠体の外側
に向かって突出するように形成し、該枠体の一対の長辺
が、これに貼着された前記大型ペリクル膜の張力により
略直線状に遷移し、該大型ペリクル膜の膜厚が1μm以
上、且つ10μm以下で且つ該大型ペリクル膜を展張す
る面積が1000cm2以上で構成されたことを特徴とす
る大型ペリクル。
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