JP2001201845A - 大型ペリクル - Google Patents

大型ペリクル

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JP2001201845A
JP2001201845A JP2000340431A JP2000340431A JP2001201845A JP 2001201845 A JP2001201845 A JP 2001201845A JP 2000340431 A JP2000340431 A JP 2000340431A JP 2000340431 A JP2000340431 A JP 2000340431A JP 2001201845 A JP2001201845 A JP 2001201845A
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Japan
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pellicle
pellicle film
large pellicle
film
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JP2000340431A
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Yoshimasa Kuriyama
芳真 栗山
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Asahi Kasei Electronics Co Ltd
Original Assignee
Asahi Kasei Electronics Co Ltd
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
    • G03F1/84—Inspecting

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、大型ペリクル膜を展張して貼着支
持する枠体が該枠体の内側に向かう撓みを抑制してフォ
トマスクやレティクル等の有効露光領域を確保すること
が出来、大型ペリクル内外の気圧差の発生を抑制して大
型ペリクル膜が該大型ペリクル膜面の鉛直方向に膨らん
だり凹んだりして露光不良を引き起こすことがない大型
ペリクルを提供することを可能にすることを目的として
いる。 【解決手段】 枠体１の少なくとも１辺の長さが２００
mm以上で、且つ該枠体１の弾性率に断面２次モーメント
を乗じた値が４×１０6Ｎmm2以上で、且つ該枠体１に展
張して貼着支持されたペリクル膜２の張力が２×１０-2
Ｎ/mm以上、且つ１×１０-1Ｎ/mm以下で構成したことを
特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＩＣ（集積回
路）、ＬＳＩ（大規模集積回路）、ＴＦＴＬＣＤ（薄膜
トランジスタ液晶ディスプレイ）等の半導体装置を製造
する際のリソグラフィー工程で使用されるフォトマスク
に異物が付着することを防止するために用いられるペリ
クルに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体回路パターン等の製造にお
いては、フォトマスクの両面側にペリクルと称する防塵
手段を配置して該フォトマスクへの異物の付着を防止す
ることが行われている。
【０００３】ペリクルはフォトマスクの形状に合わせた
形状を有する厚さ数ミリ程度の枠体の一方の縁面に厚さ
１０μｍ以下のニトロセルロース或いはセルロース誘導
体等の透明な高分子膜からなるペリクル膜を展張して接
着し、且つ該枠体の他方の縁面に粘着材を介してフォト
マスクの表面に貼着される。
【０００４】フォトマスクの表面に異物が付着した場
合、その異物が半導体ウェハ上に形成されたフォトレジ
スト上に結像して回路パターン欠陥の原因となるが、フ
ォトマスクの両面側にペリクルを配置した場合、ペリク
ルの表面に付着した異物はフォーカス位置のずれによっ
て半導体ウェハ上に形成されたフォトレジスト上に結像
することなく回路パターンに欠陥を生じさせないもので
ある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】近年では各種のマルチ
メディアの普及により高画質、高精細表示が可能な大型
のカラーＴＦＴＬＣＤ（薄膜トランジスタ液晶ディスプ
レイ）のフォトリソグラフィ工程で使用される大型のフ
ォトマスクに適用出来る大型ペリクルが要望されてい
る。
【０００６】大型のＴＦＴＬＣＤ（薄膜トランジスタ液
晶ディスプレイ）等のフォトリソグラフィ工程で使用さ
れる大型のフォトマスクに適用出来る大型ペリクルとし
ては、大型ペリクル膜を展張して貼着支持する枠体の少
なくとも１辺の長さが２００mm以上あれば好ましいが、
この枠体にペリクル膜を貼り付けると、該ペリクル膜の
張力により枠体の各辺が該枠体の内側に向かって撓みが
発生し、フォトマスクの有効露光領域が小さくなってし
まうという問題があり、大型ペリクル膜の展張面積が大
きくなるにつれてその現象が顕著になる。
【０００７】また、ペリクルをフォトマスクの表面に貼
着した時、枠体に撓みが発生しているとフォトマスクへ
の貼り付け精度が悪くなる問題があった。かつ、ペリク
ル膜をペリクル枠に膜貼りした場合に該ペリクル枠が変
形し、ペリクル枠に予め施したメッキ、アルマイト等の
加工によるフレーム黒色化処理層にクラックが発生する
心配もあった。さらに、ペリクル枠が変形した場合に
は、マスク用粘着材にシワが入り、マスクに貼り付ける
時にエアーパス（粘着材層に隙間が出来てペリクル内が
密閉空間にならない状態）が発生し易くなる問題もあっ
た。
【０００８】更に、ペリクルをフォトマスクの表面に粘
着した時に、ペリクル膜、枠体或いはフォトマスクとの
間に密閉空間が形成され、ペリクル内外の気圧差によっ
てペリクル膜が該ペリクル膜面の鉛直方向に膨らんだり
凹んだりして露光不良を引き起こす虞があった。また、
ペリクル膜が膨らんだ場合には、ペリクル枠とペリクル
膜との間に介在された接着部に力が加わり、接着剤の一
部が剥離したり、或はこの剥離の際に発塵が生ずる問題
があった。特に大型ペリクル膜の展張面積が大きくなる
に従って、これ等の問題が顕著に発生していた。
【０００９】本発明は前記課題を解決するものであり、
その目的とするところは、大型ペリクル膜を展張して貼
着支持する枠体が該枠体の内側に向かう撓みを抑制して
フォトマスクの有効露光領域を確保することが出来、大
型ペリクル内外の気圧差の発生を抑制して大型ペリクル
膜が該大型ペリクル膜面の鉛直方向に膨らんだり凹んだ
りして露光不良を引き起こすことがない大型ペリクルを
提供せんとするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
の本発明に係る大型ペリクルは、枠体に大型ペリクル膜
を展張して貼着支持した大型ペリクルにおいて、前記枠
体の少なくとも１辺の長さが２００mm以上で、且つ該枠
体の弾性率に断面２次モーメントを乗じた値が４×１０
6Ｎmm2以上で、且つ前記枠体に展張して貼着支持された
大型ペリクル膜の張力が２×１０-2Ｎ/mm以上、且つ１
×１０-1Ｎ/mm以下であることを特徴とする。
【００１１】本発明は、上述の如く構成したので、枠体
の少なくとも１辺の長さが２００mm以上、好ましくは４
００mm以上であることから大型のＴＦＴＬＣＤ（薄膜ト
ランジスタ液晶ディスプレイ）のフォトリソグラフィ工
程で使用される大型のフォトマスクに適用出来る大型ペ
リクルとして利用することが出来る。
【００１２】ここで、大型ペリクル膜の張力をＷ、枠体
の辺の長さをＬ、枠体の弾性率をＥ、枠体の断面２次モ
ーメントをＩとすると、枠体のひずみ量δは以下の式
により求められる。
【００１３】
【数１】
【００１４】尚、枠体の断面２次モーメントＩは、枠体
の高さｈと、枠体の幅ｂとを用いて以下の式により求
められる。
【００１５】
【数２】
【００１６】即ち、前記式において、枠体の弾性率Ｅ
に断面２次モーメントＩを乗じた値ＥＩが大きい程、枠
体に発生するひずみ量δが小さくなり、枠体に展張して
貼着支持された大型ペリクル膜の張力Ｗが小さい程、枠
体に発生するひずみ量δが小さくなる。
【００１７】そこで、枠体の少なくとも１辺の長さＬが
２００mm以上の場合で、枠体の弾性率Ｅに断面２次モー
メントＩを乗じた値が４×１０6Ｎmm2以上で、且つ枠体
に展張して貼着支持された大型ペリクル膜の張力Ｗを１
×１０-1Ｎ/mm以下に設定することで、枠体に発生する
ひずみ量δを小さくし、枠体の内側に向かう撓みを抑制
してフォトマスクの有効露光領域を確保することが出来
る。
【００１８】また、枠体に展張して貼着支持された大型
ペリクル膜の張力が２×１０-2Ｎ/mm以上であることか
ら大型ペリクル膜がその自重や大型ペリクル内外の気圧
差により該大型ペリクル膜面の鉛直方向に膨らんだり凹
んだりするのを抑制して露光不良を防止することが出
来、大型ペリクル内外の気圧変動に対する追従性能を確
保することが出来る。
【００１９】また、本発明に係る大型ペリクルの他の構
成は、枠体に大型ペリクル膜を展張して貼着支持した大
型ペリクルにおいて、前記大型ペリクル膜を展張する面
積が１０００cm2以上で構成され、且つ前記枠体の一部
に通気用フィルターを設けたことを特徴とする。
【００２０】上記構成によれば、大型ペリクル膜を展張
する面積が１０００cm2以上であることから大型のＴＦ
ＴＬＣＤ（薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ）のフォ
トリソグラフィ工程で使用される大型のフォトマスクに
適用出来る大型ペリクルとして利用することが出来る。
【００２１】また、枠体の一部に通気用フィルターを設
けたことで、大型ペリクルが取り付けられるフォトマス
クへの防塵性能を維持した状態で該大型ペリクル内外の
気圧差の発生を抑制することが出来、大型ペリクル膜が
該大型ペリクル膜面の鉛直方向に膨らんだり凹んだりす
ることを抑制して、露光不良を防止することが出来る。
【００２２】また、前記枠体に設けられた通気用フィル
ター口の開口総面積が６mm2以上で、且つ該通気用フィ
ルターの異物捕捉サイズが１μｍ以下であれば大型ペリ
クルが取り付けられるフォトマスクへの防塵性能を維持
した状態で大型ペリクル内外の気圧変動に対する追従性
能を確保することが出来る。
【００２３】
【発明の実施の形態】図により本発明に係る大型ペリク
ルの一実施形態を具体的に説明する。図１は本発明に係
る大型ペリクルの構成を示す斜視図である。
【００２４】図１において、１は厚さ１０μｍ以下のニ
トロセルロースやセルロース誘導体等の透明な高分子膜
で構成される大型ペリクル膜（以下、単に「ペリクル
膜」という）２を展張して貼着支持する枠体である。
【００２５】枠体１は少なくとも１辺の長さＬが２００
mm以上で構成されており、本実施形態では長さ５８２mm
の長辺１ａと、長さ３４８mmの短辺１ｂとを有する方形
状の枠体１を採用している。
【００２６】枠体１の長辺１ａ及び短辺１ｂは所定の幅
ｂ寸法と、互いに等しい所定の高さｈ寸法とを有して構
成されている。枠体１の長辺１ａ及び短辺１ｂの一方の
面には該枠体１の全体に亘って平坦面で構成され、ペリ
クル膜２を貼着するための貼着面1a1，1b1が形成されて
いる。
【００２７】枠体１は、その弾性率Ｅが５０００kg/mm2
以上の材質を用いて形成されており、例えば、鉄や鉄系
合金やアルミニウム合金等により構成されている。
【００２８】枠体１として採用出来る具体的な材質とし
ては、例えば、アルミニウム合金（弾性率７２００kg/m
m2）ステンレス鋼（弾性率２１０００kg/mm2）、クロム
鋼（弾性率２１０００kg/mm2）、タングステン鋼（弾性
率２２０００kg/mm2）、マンガン鋼（弾性率１９０００
kg/mm2）、ニッケル鋼（弾性率２１０００kg/mm2）等が
適用可能である。
【００２９】そして、枠体１の弾性率Ｅに断面２次モー
メントＩを乗じた値ＥＩが４×１０ 6Ｎmm2以上で構成さ
れ、特に好ましくは、１×１０7Ｎmm2以上である。尚、
断面２次モーメントＩは前記式により夫々の枠体１の
形状から求められる。
【００３０】また、枠体１の弾性率Ｅに断面２次モーメ
ントＩを乗じた値ＥＩは枠体１の材料コストの低減化や
枠体１の軽量化を図る上で（８×１０8Ｎmm2）以下であ
れば好ましい。
【００３１】枠体１の長辺１ａ及び短辺１ｂの貼着面1a
1，1b1には接着剤が塗布されてペリクル膜２が展張して
貼着され、該枠体１のペリクル膜２を展張する面積は１
０００cm2以上で構成されている。
【００３２】枠体１の長辺１ａ及び短辺１ｂの貼着面1a
1，1b1に接着剤により貼着されたペリクル膜２の張力
は、２×１０-2Ｎ/mm以上、且つ１×１０-1Ｎ/mm以下に
設定されている。好ましくは、４×１０-2Ｎ/mm以上、
且つ８×１０-2Ｎ/mm以下である。
【００３３】ペリクル膜２の張力の求め方としては、膜
張力をＷ、枠体１の縦弾性率をＥ、枠体１の長辺１ａの
長さをＬ、枠体１の長辺１ａの幅をｂ、枠体１の高さを
ｈ、膜張力による枠体１の長辺方向のひずみ量をδとす
ると、以下の式で求められる。
【００３４】
【数３】
【００３５】ペリクル膜２が所定の張力を得るための成
膜方法としては、ポリマー溶液を５０〜５００rpmの回
転数で回転するガラス基板上にスピンコートによって成
膜し、これを乾燥して溶剤を飛ばし、ガラス基板から成
膜されたペリクル膜２を剥離する。そして、枠体１の貼
着面1a1，1b1に接着剤を塗布した後、７．８Ｎ程度の加
重でペリクル膜２を枠体１に押し付けて貼着する。
【００３６】枠体１の長辺１ａ及び短辺１ｂの貼着面1a
1，1b1に接着剤により貼着されたペリクル膜２の張力を
２×１０-2Ｎ/mm以上、且つ１×１０-1Ｎ/mm以下に設定
するためには、例えば、枠体１のペリクル膜２を展張す
る面積が２０５４cm2の場合には、ペリクル膜２の材質
がセルロース系ポリマーで該ペリクル膜２の膜厚４μｍ
で構成すれば良い。
【００３７】枠体１の長辺１ａの一部には合計８箇所の
通気用フィルター口1a2が形成されている。長辺１ａに
形成された通気用フィルター口1a2には異物捕捉サイズ
が１μｍ以下の通気用フィルター３が設置されている。
【００３８】枠体１に設けられた合計８箇所の通気用フ
ィルター口1a2の開口総面積は６mm2以上で構成されてお
り、通気用フィルター３は樹脂製のメッシュ等で構成さ
れている。
【００３９】枠体１の長辺１ａには欠損部となる通気用
フィルター３を設けるための通気用フィルター口1a2が
設けられているが、枠体１の弾性率に断面２次モーメン
トを乗じた値が４×１０6Ｎmm2以上で、且つ枠体１の長
辺１ａ及び短辺１ｂの貼着面1a1，1b1に接着剤により貼
着されたペリクル膜２の張力を１×１０-1Ｎ/mm以下に
設定し、枠体１が該枠体１の内側に向かう撓みを抑制し
得る十分な構造的強度を有して設計されており、フォト
マスク等の有効露光領域を確保することが出来るように
なっている。
【００４０】例えば、本実施形態の場合、方形状の枠体
１の長辺１ａの長さが５８２mm、長辺１ａの通気用フィ
ルター口1a2の無い部分の断面積が３０．１mm2、短辺１
ｂの長さが３４８mm、通気用フィルター口1a2の長径が
１．５mm、通気用フィルター口1a2の断面積が１．８mm2
で構成されている。
【００４１】上記構成によれば、枠体１の少なくとも１
辺の長さが２００mm以上であり、更にはペリクル膜２を
展張する面積が１０００cm2以上であることから大型の
ＴＦＴＬＣＤ（薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ）の
フォトリソグラフィ工程で使用される大型のフォトマス
クに適用出来る大型ペリクルとして利用することが出来
る。
【００４２】また、枠体１の弾性率に断面２次モーメン
トを乗じた値が４×１０6Ｎmm2以上で、且つ枠体１に展
張して貼着支持された大型ペリクル膜２の張力が１×１
０-1Ｎ/mm以下であることから枠体１が該枠体１の内側
に向かう撓みを抑制してフォトマスク等の有効露光領域
を確保することが出来る。
【００４３】また、枠体１に展張して貼着支持されたペ
リクル膜２の張力が２×１０-2Ｎ/mm以上であることか
ら該ペリクル膜２がその自重やペリクル内外の気圧差に
より該ペリクル膜２面の鉛直方向に膨らんだり凹んだり
するのを抑制して露光不良を防止することが出来、ペリ
クル内外の気圧変動に対する追従性能を確保することが
出来る。
【００４４】ペリクル膜２の張力が２×１０-2Ｎ/mmよ
りも小さい場合にはペリクル内外の気圧変動に対する追
従性能が低下して、ペリクル膜２が該ペリクル膜２面の
鉛直方向に膨らんだり凹んだりするため露光不良が発生
する虞がある。
【００４５】また、ペリクル膜２の張力が１×１０-1Ｎ
/mmよりも大きい場合、特に枠体１の長辺１ａが該枠体
１の内側に撓み易くなり、フォトマスクの有効露光領域
を確保出来なくなる虞がある。
【００４６】また、枠体１の一部に通気用フィルター３
を設けたことで、ペリクルが取り付けられるフォトマス
クへの防塵性能を維持した状態で該ペリクル内外の気圧
差の発生を抑制することが出来、ペリクル膜２が該ペリ
クル膜２面の鉛直方向に膨らんだり凹んだりすることを
抑制して、露光不良を防止することが出来る。
【００４７】また、枠体１に設けた通気用フィルター口
1a2の開口総面積が６mm2以上で、且つ通気用フィルター
３の異物捕捉サイズが１μｍ以下であればペリクルが取
り付けられるフォトマスクへの防塵性能を維持した状態
でペリクル内外の気圧変動に対する追従性能を確保する
ことが出来る。
【００４８】通気用フィルター３の異物捕捉サイズが
０．０１μｍより小さい場合、ペリクル内外の気圧変動
に対する追従性能が低下して、ペリクル膜２が該ペリク
ル膜２面の鉛直方向に膨らんだり凹んだりして露光不良
が発生する虞があるため通気用フィルター３の異物捕捉
サイズは０．０１μｍ以上であれば好ましい。
【００４９】また、通気用フィルター３の異物捕捉サイ
ズが１μｍより大きい場合にはペリクル膜２、枠体１及
び図示しないフォトマスクとの間に形成された密閉空間
に異物が混入して露光不良が発生する虞がある。
【００５０】以下に従来の半導体用ペリクルと、本発明
に係る液晶一括露光用大型ペリクルとの対比の一例を示
す。尚、本実施形態では液晶用の大型ペリクルの一例に
ついて説明するが、他の用途の大型ペリクルであっても
良く、この用途に限定されるものではない。
【００５１】
【表１】
【００５２】
【発明の効果】本発明は、上述の如き構成と作用とを有
するので、枠体の少なくとも１辺の長さが２００mm以上
であることから大型のＴＦＴＬＣＤ（薄膜トランジスタ
液晶ディスプレイ）のフォトリソグラフィ工程で使用さ
れる大型のフォトマスクに適用出来る大型ペリクルとし
て利用することが出来る。
【００５３】また、枠体の弾性率に断面２次モーメント
を乗じた値が４×１０6Ｎmm2以上で、且つ枠体に展張し
て貼着支持された大型ペリクル膜の張力が１×１０-1Ｎ
/mm以下であることから枠体の内側に向かう撓みを抑制
してフォトマスク等の有効露光領域を確保することが出
来る。
【００５４】また、枠体に展張して貼着支持された大型
ペリクル膜の張力が２×１０-2Ｎ/mm以上であることか
ら大型ペリクル膜がその自重や大型ペリクル内外の気圧
差により該大型ペリクル膜面の鉛直方向に膨らんだり凹
んだりするのを抑制して露光不良を防止することが出
来、大型ペリクル内外の気圧変動に対する追従性能を確
保することが出来る。
【００５５】また、本発明に係る大型ペリクルの他の構
成によれば、大型ペリクル膜を展張する面積が１０００
cm2以上であることから大型のＴＦＴＬＣＤ（薄膜トラ
ンジスタ液晶ディスプレイ）のフォトリソグラフィ工程
で使用される大型のフォトマスクに適用出来る大型ペリ
クルとして利用することが出来る。
【００５６】また、枠体の一部に通気用フィルターを設
けたことで、大型ペリクルが取り付けられるフォトマス
クへの防塵性能を維持した状態で該大型ペリクル内外の
気圧差の発生を抑制することが出来、大型ペリクル膜が
該大型ペリクル膜面の鉛直方向に膨らんだり凹んだりす
ることを抑制して、露光不良を防止することが出来る。
【００５７】また、枠体の通気用フィルター口の開口総
面積が６mm2以上で、且つ該通気用フィルターの異物捕
捉サイズが１μｍ以下であれば大型ペリクルが取り付け
られるフォトマスクへの防塵性能を維持した状態で大型
ペリクル内外の気圧変動に対する追従性能を確保するこ
とが出来る。
【００５８】前述の本発明に係る大型ペリクルを実施す
ることによって、前述のようにペリクル枠の各辺が内側
に向って撓むことを防止出来るので、前述の従来の大き
な問題点とされた露光領域が小さくなる、フォトマ
スクへの貼り付け精度が悪くなる、ペリクル枠が変形
してその表面に施したフレーム黒色化処理層にクラック
が発生する、ペリクル枠が変形してマスク用粘着材に
シワが入り、ペリクルをマスクに貼り付けるときにエア
ーパスが発生してペリクル内を密閉空間にすることが出
来ない等の点を全て解決することが出来る。
【００５９】さらに、本発明の大型ペリクルを実施する
ことによって、前述のようにペリクル膜面が鉛直方向に
膨んだり凹んだりすることを防止出来るので、前述の大
きな問題点とされた(a)露光不良が発生する、(b)ペリク
ル膜が膨らんでペリクル枠とペリクル膜の接着部に力が
加わって接着剤の一部が剥離したり、この剥離の際に発
塵が生ずる等の点を全て解決することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る大型ペリクルの構成を示す斜視図
である。
【符号の説明】
１…枠体 １ａ…長辺 １ｂ…短辺 1a1，1b1…貼着面 1a2…通気用フィルター口 ２…ペリクル膜 ３…通気用フィルター

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 枠体に大型ペリクル膜を展張して貼着支
    持した大型ペリクルにおいて、 前記枠体の少なくとも１辺の長さが２００mm以上で、且
    つ該枠体の弾性率に断面２次モーメントを乗じた値が４
    ×１０6Ｎmm2以上で、且つ前記枠体に展張して貼着支持
    された大型ペリクル膜の張力が２×１０-2Ｎ/mm以上、
    且つ１×１０-1Ｎ/mm以下であることを特徴とする大型
    ペリクル。
  2. 【請求項２】 枠体に大型ペリクル膜を展張して貼着支
    持した大型ペリクルにおいて、 前記大型ペリクル膜を展張する面積が１０００cm2以上
    で構成され、且つ前記枠体の一部に通気用フィルターを
    設けたことを特徴とする大型ペリクル。
  3. 【請求項３】 前記枠体に設けられた通気用フィルター
    口の開口総面積が６mm2以上で、且つ該通気用フィルタ
    ーの異物捕捉サイズが１μｍ以下であることを特徴とす
    る請求項２に記載の大型ペリクル。
JP2000340431A 1999-11-09 2000-11-08 大型ペリクル Pending JP2001201845A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006039257A (ja) * 2004-07-28 2006-02-09 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 大型ペリクル
JP2019066848A (ja) * 2017-09-29 2019-04-25 旭化成株式会社 ペリクル

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6141255A (ja) * 1984-07-31 1986-02-27 Zeniraito V:Kk 信号検出方法
JPH0263A (ja) * 1989-04-07 1990-01-05 Daicel Chem Ind Ltd フォトマスクカバー
JPH0341760U (ja) * 1989-09-01 1991-04-22
JPH0627644A (ja) * 1992-07-08 1994-02-04 Seiko Epson Corp ペリクルおよびペリクルの製造方法
JPH08106156A (ja) * 1994-08-11 1996-04-23 Mitsui Petrochem Ind Ltd マスク保護装置
JPH09319069A (ja) * 1996-05-29 1997-12-12 Nikon Corp ペリクル光学素子
JPH09319070A (ja) * 1996-05-29 1997-12-12 Nikon Corp ペリクル光学素子、及びその製造方法
JPH1048813A (ja) * 1996-08-07 1998-02-20 Mitsui Petrochem Ind Ltd マスク保護装置
JPH10198021A (ja) * 1997-01-07 1998-07-31 Shin Etsu Chem Co Ltd 気圧調整用孔保護フィルター付きペリクル
JPH1165092A (ja) * 1997-08-19 1999-03-05 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクルおよびペリクルの製造方法

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6141255A (ja) * 1984-07-31 1986-02-27 Zeniraito V:Kk 信号検出方法
JPH0263A (ja) * 1989-04-07 1990-01-05 Daicel Chem Ind Ltd フォトマスクカバー
JPH0341760U (ja) * 1989-09-01 1991-04-22
JPH0627644A (ja) * 1992-07-08 1994-02-04 Seiko Epson Corp ペリクルおよびペリクルの製造方法
JPH08106156A (ja) * 1994-08-11 1996-04-23 Mitsui Petrochem Ind Ltd マスク保護装置
JPH09319069A (ja) * 1996-05-29 1997-12-12 Nikon Corp ペリクル光学素子
JPH09319070A (ja) * 1996-05-29 1997-12-12 Nikon Corp ペリクル光学素子、及びその製造方法
JPH1048813A (ja) * 1996-08-07 1998-02-20 Mitsui Petrochem Ind Ltd マスク保護装置
JPH10198021A (ja) * 1997-01-07 1998-07-31 Shin Etsu Chem Co Ltd 気圧調整用孔保護フィルター付きペリクル
JPH1165092A (ja) * 1997-08-19 1999-03-05 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクルおよびペリクルの製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006039257A (ja) * 2004-07-28 2006-02-09 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 大型ペリクル
JP2019066848A (ja) * 2017-09-29 2019-04-25 旭化成株式会社 ペリクル

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