KR100808428B1 - 대형 펠리클 - Google Patents

대형 펠리클 Download PDF

Info

Publication number
KR100808428B1
KR100808428B1 KR1020040077783A KR20040077783A KR100808428B1 KR 100808428 B1 KR100808428 B1 KR 100808428B1 KR 1020040077783 A KR1020040077783 A KR 1020040077783A KR 20040077783 A KR20040077783 A KR 20040077783A KR 100808428 B1 KR100808428 B1 KR 100808428B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
frame
point
pellicle film
pellicle
pair
Prior art date
Application number
KR1020040077783A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20050031441A (ko
Inventor
구리야마호즈마
와끼모또이찌로
Original Assignee
아사히 가세이 일렉트로닉스 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 아사히 가세이 일렉트로닉스 가부시끼가이샤 filed Critical 아사히 가세이 일렉트로닉스 가부시끼가이샤
Publication of KR20050031441A publication Critical patent/KR20050031441A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100808428B1 publication Critical patent/KR100808428B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1313Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells specially adapted for a particular application
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Tents Or Canopies (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)

Abstract

프레임에 형성되는 대형 펠리클막을 포토마스크에 접착할 때, 상기 대형 펠리클막의 주름 발생을 억제하기 위해, 면적이 1,000㎠ 이상인 펠리클막 및 펠리클막을 전장시켜 점착 지지하기 위한 1쌍의 장변과 1쌍의 단변을 갖는 프레임으로 이루어지는 대형 펠리클에서는, 프레임이 그 적어도 1쌍의 장변을 프레임의 외측을 향하여 돌출하도록 형성된 것이고, 또한 펠리클막을 프레임에 전장함으로써, 프레임의 장변 중앙부가 장변 단부보다도 내측으로 오목하게 파여 있다.
펠리클막, 프레임

Description

대형 펠리클{LARGE SIZE PELLICLE}
도 1 은 대형 펠리클용 프레임의 구성을 나타내는 사시도이다.
도 2 의 (a) 부는, 펠리클막을 형성하기 전의 대형 펠리클용 프레임의 상태를 나타내는 평면도이다. 도 2 의 (b) 부는, 대형 펠리클용 프레임에 펠리클막이 접착되어 대형 펠리클용 프레임의 장변이 내측으로 오목한 상태를 나타내는 평면도이다.
도 3 은 대형 펠리클을 지그에 의해 지지했을 때의 상태를 나타내는 도면이다.
도 4 는 종래의 대형 펠리클의 구성을 나타내는 평면도이다.
도 5 는 펠리클막을 형성하기 전과, 펠리클막이 접착된 후의, 도 2 에 표시되는 대형 펠리클용 프레임의 치수 변화값을 나타내는 표로, u 는 단변측 빔의 폭, W 는 장변측 빔의 폭, V 는 단변측 빔의 길이방향 중앙부에서의 단변측 빔의 외연 길이, X 는 장변측 빔의 길이방향 중앙부에서의 장변측 빔의 외연 길이, Y 는 단변측 빔의 길이방향 길이, Z 는 장변측 빔의 길이방향 길이를 나타낸다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
1 : 프레임 2 : 펠리클막
1a : 장변 1b : 단변
본 발명은 TFT LCD (박막 트랜지스터 액정 디스플레이) 등을 제조할 때의 리소그래피 공정에서 사용되는 포토마스크에 이물이 부착되는 것을 방지하기 위해 사용되는 대형 펠리클에 관한 것이다.
종래, 반도체 회로 패턴 등의 제조에 있어서는, 포토마스크의 양면측에 펠리클이라 칭하는 방진수단을 배치하여 이 포토마스크에 이물이 부착되는 것을 방지하는 것이 실행되고 있다.
펠리클은, 포토마스크의 형상에 맞춘 형상을 갖는 수 밀리 정도 두께의 프레임의 일방의 가장자리면에 두께 10㎛ 이하의 니트로셀룰로오스 혹은 셀룰로오스 유도체 등의 투명한 고분자막으로 이루어지는 펠리클막을 접착하고, 또한 이 프레임의 타방의 가장자리면에 점착재를 통해 포토마스크의 표면에 접착된다.
포토마스크의 표면에 이물이 부착된 경우, 그 이물이 TFT LTD용 머더 유리 상에 형성된 포토레지스트 상에 결상되어 회로 패턴 결함의 원인이 된다. 여기에서, 포토마스크의 양 표면에 펠리클을 배치한 경우, 펠리클의 표면에 부착된 이물은 포커스 위치의 어긋남에 의해 TFT LCD용 머더 유리에 형성된 포토레지스트 상에 결상되지 않고 회로 패턴에 결함을 발생시키지 않도록 할 수 있다.
최근에는 각종 멀티미디어의 보급에 의해 고화질, 고정세 표시가 가능한 대형 컬러 TFT LCD (박막 트랜지스터 액정 디스플레이) 의 포토리소그래피 공정에서 사용되는 대형 포토마스크에 적용할 수 있는 대형 펠리클이 요망되고 있다.
대형 TFT LCD 등의 포토리소그래피 공정에서 사용되는 대형 포토마스크에 적용할 수 있는 대형 펠리클의 프레임으로는, 장변과 단변을 갖는 사각형상의 것이 일반적이다. 또 펠리클의 프레임 폭은 이하의 이유로 인하여 최대한 가늘게 설계되고 있다. 마스크 재질의 석영 유리는 고가이고, 최대한 면적이 작은 것이 요구되기 때문에, 펠리클의 외형도 작은 것이 요구되고 있다. 또, 큰 마스크의 유효 노광 면적을 확보하기 위해, 펠리클의 내경은 큰 것이 요망되고 있다.
이러한 가는 프레임에 펠리클막을 접착하면, 이 펠리클막의 장력에 의해, 특히 프레임의 장변이 쉽게 휘고, 이 휨에 의해 포토마스크의 유효 노광 면적이 작아지는 문제가 있어, 대형 펠리클막의 전장 (展張) 면적이 커짐에 따라 그 현상이 현저해진다.
이 때문에, 상기 프레임의 1쌍의 장변을 이 프레임의 외측을 향하여 돌출하도록 형성하고, 대형 펠리클막의 장력에 의한 이 장변의 프레임의 내측을 향하는 휨을 억제하여 포토마스크 등의 유효 노광 영역을 확보하는 대형 펠리클 (예컨대 일본 공개특허공보 2001-42507호 참조) 이 알려져 있다.
그러나 상기 일본 공개특허공보 2001-42507호에 있어서는, 도 4 에 나타내는 바와 같이 볼록 프레임에 막을 접착하여 대략 직선으로 되는데, 약간의 볼록형상을 남기고 있다.
이 상태에서 지그에 프레임을 세트하여 펠리클막에 주름이 발생하면, 펠리클 막 상에 이물이 부착되어 있는지 여부의 검사시에, 주름이 발생한 곳의 검사를 충분히 실행할 수 없다. 또 주름이 발생한 상태에서 펠리클막을 포토마스크 등에 접착하면, TFT 패턴 등을 노광하는 경우에 노광광로가 구부러지는 경우가 있다.
이 주름 발생의 문제는 펠리클의 크기가 커지고, 그 중량이 무거워지거나 변의 길이가 길어지면 더욱 현저해진다.
따라서 본 발명에서는, 프레임에 접착되는 면적이 1,000㎠ 이상의 대형 펠리클막을 포토마스크에 접착할 때에, 상기 대형 펠리클막의 주름 발생을 방지하고 및/또는 펠리클막의 유효 노광 영역의 감소를 억제하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 관련되는 대표적인 구성으로서, 그 두께방향에서 보아 면적이 1,000㎠ 이상의 펠리클막과, 그 위에 펠리클막이 인장응력을 수반하여 형성된 프레임을 갖는, 펠리클에 있어서, 프레임은, 펠리클막의 두께방향에서 보아, 하나의 방향에서 서로 대향하는 상대적으로 짧은 2 개의 외주연 변의 쌍과, 펠리클막의 두께방향에서 보아, 상기 하나의 방향과 직각인 다른 하나의 방향에서, 서로 대향하는 상대적으로 긴 2 개의 외주연 변의 쌍을 갖고,
펠리클막을 프레임 상에 형성하기 전에는, 만곡하여, 펠리클막의 두께방향에서 보아 그 위의 제 1 지점과 제 2 지점을 연결하는 가상 직선은 제 1 지점과 제 2 지점 사이의 그 위의 제 3 지점에 대해 프레임의 반경방향에서의 내측을 통과한 상대적으로 긴 2 개의 외주연 변의 적어도 일방은, 펠리클막을 프레임 상에 인장응력을 수반하여 형성함으로써, 펠리클막의 두께방향에서 보아, 제 1 지점과 제 2 지점을 연결하는 가상 직선이, 제 1 지점과 제 2 지점 사이의 제 3 지점에 대해, 프레임의 반경방향에서의 외측을 통과하도록 변형되기 때문에, 상대적으로 긴 2 개의 외주연 변의 적어도 일방을 지그 상에 세트해도 펠리클막에 주름이 발생하는 것이 방지된다.
펠리클막을 프레임 상에 형성하기 전에는, 만곡하여, 펠리클막의 두께방향에서 보아 그 위의 제 1 지점과 제 2 지점을 연결하는 가상 직선은 제 1 지점과 제 2 지점 사이의 그 위의 제 3 지점에 대해 프레임의 반경방향에서의 내측을 통과한 상대적으로 긴 2 개의 외주연 변의 각각은, 펠리클막을 프레임 상에 인장응력을 수반하여 형성함으로써, 펠리클막의 두께방향에서 보아, 제 1 지점과 제 2 지점을 연결하는 가상 직선이, 제 1 지점과 제 2 지점 사이의 제 3 지점에 대해, 프레임의 반경방향에서의 외측을 통과하도록 변형된다면, 상대적으로 긴 2 개의 외주연 변의 어느 것을 지그 상에 세트해도 펠리클막에 주름이 발생하는 것이 방지된다.
펠리클막을 프레임 상에 형성하기 전에는, 만곡하여, 펠리클막의 두께방향에서 보아 그 위의 제 1 지점과 제 2 지점을 연결하는 가상 직선은 제 1 지점과 제 2 지점 사이의 그 위의 제 3 지점에 대해 프레임의 반경방향에서의 내측을 통과한 상대적으로 짧은 2 개의 외주연 변의 적어도 일방은, 펠리클막을 프레임 상에 인장응력을 수반하여 형성함으로써, 펠리클막의 두께방향에서 보아, 제 1 지점과 제 2 지점을 연결하는 가상 직선이, 제 1 지점과 제 2 지점 사이의 제 3 지점에 대해, 프레임의 반경방향에서의 외측을 통과하도록 변형되기 때문에, 상대적으로 짧은 2 개의 외주연 변의 적어도 일방을 지그 상에 세트해도 펠리클막에 주름이 발생하는 것이 방지된다.
펠리클막을 프레임 상에 형성하기 전에는, 만곡하여, 펠리클막의 두께방향에서 보아 그 위의 제 1 지점과 제 2 지점을 연결하는 가상 직선은 제 1 지점과 제 2 지점 사이의 그 위의 제 3 지점에 대해 프레임의 반경방향에서의 내측을 통과한 상대적으로 짧은 2 개의 외주연 변의 각각은, 펠리클막을 프레임 상에 인장응력을 수반하여 형성함으로써, 펠리클막의 두께방향에서 보아, 제 1 지점과 제 2 지점을 연결하는 가상 직선이, 제 1 지점과 제 2 지점 사이의 제 3 지점에 대해, 프레임의 반경방향에서의 외측을 통과하도록 변형된다면, 상대적으로 짧은 2 개의 외주연 변의 어느 것을 지그 상에 세트해도 펠리클막에 주름이 발생하는 것이 방지된다.
펠리클막을 프레임 상에 인장응력을 수반하여 형성함으로써, 펠리클막의 두께방향에서 보아, 상대적으로 긴 2 개의 외주연 변의 적어도 일방의 양단 지점을 연결하는 가상 직선은, 양단 지점 사이의 중앙 지점에 대해, 양단 지점을 연결하는 가상 직선에 직각인 방향에 있어서, 0.2㎜ 이상 6㎜ (혹은 3㎜) 이하 떨어질 때까지, 변형되어 있으면, 제 3 지점 (제 1 지점과 제 2 지점보다도 상대적으로 짧은 2 개의 외주연 변으로부터 떨어져 프레임의 중심에 가까운) 부근의 영역에 있어서, 펠리클막에 적정한 인장응력을 가하면서, 펠리클의 유효 노광 영역의 감소를 최소로 억제하는 것이 달성된다.
본 발명의 대형 펠리클은, 전술한 바와 같이 상기 프레임의 장변 중앙부가 장변 단부보다 내측으로 오목하기 때문에, 외측으로 돌출되는 일이 없다. 따라서 예컨대 상기 장변 단부를 고정하여 프레임을 눌러도, 상기 장변 중앙부가 휘지 않는다. 이와 같이 프레임이 휘는 것을 방지함으로써, 펠리클막 상에 주름이 발생되는 것을 방지할 수 있다.
또, 패임량을 6㎜ 이하로 억제함으로써, 상기 효과에 추가하여, 포토마스크의 유효 노광 영역이 작아지는 문제를 최소한으로 할 수 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 관련되는 대표적인 구성으로서, 면적이 1,000㎠ 이상인 대형 펠리클막과, 그 위에 펠리클막이 인장응력을 수반하여 형성된 프레임을 갖는 대형 펠리클에 있어서, 프레임은, 펠리클막의 두께방향에서 보아, 하나의 방향에서 서로 대향하는 상대적으로 짧은 2 개의 빔의 쌍이고, 그 위에 펠리클막의 주변부가 고정되는, 상대적으로 짧은 2 개의 빔의 쌍과, 펠리클막의 두께방향에서 보아, 상기 하나의 방향과 직각인 다른 하나의 방향에 있어서, 서로 대향하는 상대적으로 긴 2 개의 빔의 쌍이고, 그 위에 펠리클막의 주변부가 고정되는, 상대적으로 긴 2 개의 빔의 쌍을 갖고, 펠리클막을 프레임 상에 형성하기 전에는, 그 중립축 (재료역학에서 사용되는 용어인 중립축 (도심을 지나는 선)) 은 만곡되고, 펠리클막의 두께방향에서 보아, 중립축 상의 제 1 지점과 제 2 지점을 연결하는 가상 직선은, 제 1 지점과 제 2 지점 사이의 중립축 상의 제 3 지점에 대해, 프레임의 반경방향에서의 내측을 통과한, 상대적으로 긴 2 개의 빔의 적어도 일방은,
펠리클막을 프레임 상에 인장응력을 수반하여 형성함으로써, 펠리클막의 두께방향에서 보아, 상대적으로 긴 2 개의 빔의 적어도 일방의 중립축 상의 제 1 지점과 제 2 지점을 연결하는 가상 직선이, 제 1 지점과 제 2 지점 사이의 중립축 상의 제 3 지점에 대해, 프레임의 반경방향에서의 외측을 통과할 때까지 변형됨으로써, 펠리클막이 프레임 상에 인장응력을 수반하여 형성될 때에, 제 3 지점 (제 1 지점과 제 2 지점보다도 상대적으로 짧은 2 개의 빔으로부터 떨어져 프레임의 중심에 가까운) 부근의 영역에 있어서도, 펠리클막에 충분한 인장응력을 부여할 수 있게 되어, 펠리클막의 안정적인 지지가 달성된다.
펠리클막을 프레임 상에 형성하기 전에는, 그 중립축 (재료역학에서 사용되는 용어인 중립축 (도심을 지나는 선)) 은 만곡되고, 펠리클막의 두께방향에서 보아, 중립축 상의 제 1 지점과 제 2 지점을 연결하는 가상 직선은, 제 1 지점과 제 2 지점 사이의 중립축 상의 제 3 지점에 대해, 프레임의 반경방향에서의 내측을 통과한, 상대적으로 긴 2 개의 빔의 각각은, 펠리클막을 프레임 상에 인장응력을 수반하여 형성함으로써, 펠리클막의 두께방향에서 보아, 상대적으로 긴 2 개의 빔의 각각의 중립축 상의 제 1 지점과 제 2 지점을 연결하는 가상 직선이, 제 1 지점과 제 2 지점 사이의 중립축 상의 제 3 지점에 대해, 프레임의 반경방향에서의 외측을 통과할 때까지 변형되어 있다면, 제 3 지점 (제 1 지점과 제 2 지점보다도 상대적으로 짧은 2 개의 빔으로부터 떨어져 프레임의 중심에 가까운) 부근의 영역에 있어서도, 펠리클막에 충분한 인장응력을 부여할 수 있게 되어, 펠리클막의 더욱 안정적인 지지가 달성된다.
펠리클막을 프레임 상에 형성하기 전에는, 그 중립축 (재료역학에서 사용되는 용어인 중립축 (도심을 지나는 선)) 은 만곡되고, 펠리클막의 두께방향에서 보아, 중립축 상의 제 1 지점과 제 2 지점을 연결하는 가상 직선은, 제 1 지점과 제 2 지점 사이의 중립축 상의 제 3 지점에 대해, 프레임의 반경방향에서의 내측을 통과한, 상대적으로 짧은 2 개의 빔의 적어도 일방은, 펠리클막을 프레임 상에 인장응력을 수반하여 형성함으로써, 펠리클막의 두께방향에서 보아, 상대적으로 짧은 2 개의 빔의 적어도 일방의 중립축 상의 제1지점과 제2지점을 연결하는 가상 직선이, 제 1 지점과 제 2 지점 사이의 중립축 상의 제 3 지점에 대해, 프레임의 반경방향에서의 외측을 통과할 때까지 변형되어 있다면, 제 3 지점 (제 1 지점과 제 2 지점보다도 상대적으로 긴 2 개의 빔으로부터 떨어져 프레임의 중심에 가까운) 부근의 영역에 있어서도, 펠리클막에 충분한 인장응력을 부여할 수 있게 되어, 펠리클막의 안정적인 지지가 달성된다.
펠리클막을 프레임 상에 형성하기 전에는, 그 중립축 (재료역학에서 사용되는 용어인 중립축 (도심을 지나는 선)) 은 만곡되고, 펠리클막의 두께방향에서 보아, 중립축 상의 제 1 지점과 제 2 지점을 연결하는 가상 직선은, 제 1 지점과 제 2 지점 사이의 중립축 상의 제 3 지점에 대해, 프레임의 반경방향에서의 내측을 통과한, 상대적으로 짧은 2 개의 빔의 각각은, 펠리클막을 프레임 상에 인장응력을 수반하여 형성함으로써, 펠리클막의 두께방향에서 보아, 상대적으로 짧은 2 개의 빔의 각각의 중립축 상의 제 1 지점과 제 2 지점을 연결하는 가상 직선이, 제 1 지점과 제 2 지점 사이의 중립축 상의 제 3 지점에 대해, 프레임의 반경방향에서의 외측을 통과할 때까지 변형되어 있다면, 제 3 지점 (제 1 지점과 제 2 지점보다도 상대적으로 긴 2 개의 빔으로부터 떨어져 프레임의 중심에 가까운) 부근의 영역에 있어서도, 펠리클막에 충분한 인장응력을 부여할 수 있게 되어, 펠리클막의 더욱 안정적인 지지가 달성된다.
(발명의 실시예의 상세한 설명)
도면을 사용하여 본 발명을 실시하기 위한 최선의 형태에 대해 설명한다. 도 1 은 대형 펠리클용 프레임의 구성을 나타내는 사시도이고, 도 2(a) 는 대형 펠리클용 프레임의 구성을 나타내는 평면도이고, 도 2(b) 는 대형 펠리클용 프레임에 펠리클막이 접착되어 대형 펠리클용 프레임의 장변이 내측으로 오목한 상태를 나타내는 평면도이고, 도 3 은 대형 펠리클을 지그에 의해 지지했을 때의 상태를 나타내는 도면이다.
도 1∼도 2 에 있어서, 1 은 두께 10㎛ 이하의 니트로셀룰로오스나 셀룰로오스 유도체나 비정질 불소 폴리머 (예컨대 아사히가라스(주) 제조의 사이톱 (상품명) 이나 듀퐁(주) 제조의 테프론AF (상품명) 등) 등의 투명한 고분자막으로 구성되는 대형 펠리클막 (이하 간단히 「펠리클막」이라 함 ; 2) 을 형성하여 지지하는 알루미늄이나 그 합금, 혹은 철이나 철계의 합금 등에 의해 구성되는 대형 펠리클용 프레임 (이하 간단히 「프레임」라고 함) 이다.
프레임 (1) 은, 1쌍의 장변 (1a) 과 1쌍의 단변 (1b) 을 갖고 있고, 장변 (1a) 및 단변 (1b) 은 소정의 폭치수와, 서로 같은 소정의 높이 치수로 각각 구성되어 있다. 프레임 (1) 의 장변 (1a) 및 단변 (1b) 의 일방의 면에는, 프레임 (1) 의 전체에 걸쳐 평탄면으로 구성되고, 펠리클막 (2) 을 접착하기 위한 접착면 (1a1, 1b1) 이 형성되어 있다.
프레임 (1) 의 펠리클막 (2) 을 접착한 후의 면적은 1,000㎠ 이상으로 구성되고, 이 프레임 (1) 의 1쌍의 장변 (1a) 은 프레임 (1) 의 외측을 향하여 돌출되도록 형성되어 있다. 또한 본 실시형태에서는, 프레임 (1) 의 1쌍의 장변 (1a) 은 소정의 곡률을 갖고 외측을 향하여 만곡 돌출된 것이지만, 타원형상이나 포물선형상, 혹은 다른 각종 형상으로 돌출시켜도 된다.
이와 같이 펠리클막 (2) 을 접착하는 면적이 1,000㎠ 이상인 점에서, 대형 TFT LCD (박막 트랜지스터 액정 디스플레이) 의 포토리소그래피 공정에서 사용되는 대형 포토마스크나 레티클에 적용할 수 있는 대형 펠리클로서 이용할 수 있다.
도 2(b) 에 나타낸 바와 같이 프레임 (1) 의 장변 (1a) 및 단변 (1b) 의 접착면 (1a1, 1b1) 에는 접착제가 도포되고, 펠리클막 (2) 이 형성된다. 프레임 (1) 의 접착면 (1a1, 1b1) 에 접착된 펠리클막 (2) 의 장력은, 프레임 (1) 의 전둘레에 균일하게 작용하는데, 반드시 단면형상이 전체둘레에 걸쳐 같을 필요는 없지만, 단면형상이 같은 경우에는 변이 긴 것이 휨이 커진다. 이 때문에, 특히 장변 (1a) 이 프레임 (1) 의 내측을 향하여 큰 휨이 발생하도록 작용한다. 펠리클막 (2) 이 형성되어 프레임 (1) 에 접착된 후에는, 프레임 (1) 의 대향하는 변은 모두 내측으로 오목하다. 펠리클막을 프레임 (프레임) 에 접착하는 데에는, 펠리클막의 장력을 유지한 상태로 프레임에 접착할 수도 있고, 지그 등을 사용하여 펠리클막의 장력을 소정의 장력으로 컨트롤한 후, 프레임에 접착할 수도 있다.
그러나 본 발명에 있어서는, 프레임 (1) 의 1쌍의 장변 (1a) 을 프레임 (1) 의 외측을 향하여 돌출되도록 형성함으로써, 장변 (1a) 의 프레임 (1) 의 내측을 향하는 휨이 억제된다. 따라서 대형 펠리클이 접착되는 도시하지 않은 포토마스크나 레티클 등의 유효 노광 영역을 확보할 수 있다.
여기에서 본 실시형태에 있어서는, 펠리클막 (2) 을 전장하면 장변 (1a) 의 중앙부가 장변 (1a) 의 단부보다 내측으로 패임량 (d) 만큼 오목하도록 형성한다. 이와 같이 펠리클막 (2) 을 접착한 상태에서, 장변 (1a) 의 일부가 돌출되는 일이 없다.
이 때문에, 도 3 에 나타내는 바와 같이 프레임 (1) 의 단부를 지그 (3) 에 세트하여 마운터로 누를 때, 지그 (3) 가 돌출된 부분을 누르는 일은 없다. 그 결과, 프레임 (1) 에 형성된 펠리클막 (2) 에 필요없는 힘이 가해지는 일이 없어, 주름이 생길 우려가 없다.
또 패임량 (d) 을 3㎜ 이하로 함으로써, 상기 작용에 추가하여, 프레임의 장변이 휨으로써 포토마스크의 유효 노광 영역이 작아지는 문제를 최소한으로 할 수 있다.
이하에, 상기 실시형태에 의거하여 형성한 프레임 (1) 의 일 실시예를 설명한다. 패임량 (d) 은 이하의 수학식으로 개략 구해진다. 여기에서 d : 패임량, ω: 장력, L : 장변의 길이, E : 탄성률, h : 프레임의 높이, b : 프레임의 폭으로 한다.
Figure 112004044285821-pat00001
본 발명에 있어서는, L=777.7㎜, E=7200kgf/㎟, h=4.3㎜, b=9㎜, ω=3×10-3kgf/㎜ (=3gf/㎜ 즉 2×10-2㎫/㎜) 로 구성한 결과, d=1.5㎜ 를 얻었다.
또한, 본 실시예에서는 패임량 (d) 을 1.5㎜ 로 하였으나, 패임량 (d) 이 3㎜ (혹은 6㎜) 이하로 되는 범위 내에서, 다른 수치를 변경할 수도 있다.
본 발명의 대형 펠리클은 보다 큰 포토마스크에 장착하기 위한 펠리클로서 사용된다.
본 발명에 따르면, 전술한 바와 같이 상기 프레임의 장변 중앙부가 장변 단부보다 내측으로 오목하기 때문에, 외측으로 돌출되는 일이 없다. 따라서 예컨대 상기 장변 단부를 고정하여 프레임을 눌러도, 상기 장변 중앙부가 휘지 않는다. 이와 같이 프레임이 휘는 것을 방지함으로써, 펠리클막 상에 주름이 발생되는 것을 방지할 수 있다.
또, 패임량을 6㎜ 이하로 억제함으로써, 상기 효과에 추가하여, 포토마스크의 유효 노광 영역이 작아지는 문제를 최소한으로 할 수 있다.

Claims (30)

  1. 삭제
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 삭제
  15. 두께 방향에서 볼 때 표면적이 1000cm2 이상인 펠리클막 (2), 및
    인장응력을 수반하는 상기 펠리클막 (2) 을 위에 유지하는 프레임 (1) 을 구비하는 펠리클로서,
    상기 프레임 (1) 은,
    상기 펠리클막 (2) 의 두께 방향에서 볼 때, 일 방향으로 서로 대향하는 한 쌍의 상대적으로 짧은 외주연 변, 및
    상기 펠리클막 (2) 의 두께 방향에서 볼 때, 상기 일 방향에 직각인 다른 방향으로 서로 대향하는 한 쌍의 상대적으로 긴 외주연 변을 구비하고,
    상기 펠리클막 (2) 이 인장응력을 수반하여 프레임 (1) 에 의해 유지되기 이전의 프레임 (1) 은, 상기 한 쌍의 상대적으로 긴 외주연 변 중 하나 이상의 변의 위의 제 1 및 제 2 지점을 연결하는 직선이, 상기 제 1 지점과 상기 제 2 지점 사이의 상기 외주연 변 상의 제 3 지점보다 프레임 (1) 의 반경 방향에서의 내측을 통과하는 볼록 형상이고,
    상기 펠리클막 (2) 이 프레임 (1) 상에 인장응력을 수반하여 고정된 후의 프레임 (1) 은, 상기 한 쌍의 상대적으로 긴 외주연 변 중 하나 이상의 변의 위의 제 1 및 제 2 지점을 연결하는 직선이, 상기 제 1 지점과 상기 제 2 지점 사이의 상기 외주연 변 상의 제 3 지점보다 프레임 (1) 의 반경 방향에서의 외측을 통과하는 오목 형상인, 펠리클.
  16. 삭제
  17. 제 15 항에 있어서,
    상기 펠리클막 (2) 이 인장응력을 수반하여 프레임 (1) 에 의해 유지되기 이전의 프레임 (1) 은, 상기 한 쌍의 상대적으로 짧은 외주연 변 중 하나 이상의 변의 위의 제 1 및 제 2 지점을 연결하는 직선이, 상기 제 1 지점과 상기 제 2 지점 사이의 상기 외주연 변 상의 제 3 지점보다 프레임 (1) 의 반경 방향에서의 내측을 통과하는 볼록 형상이고,
    상기 펠리클막 (2) 이 프레임 (1) 상에 인장응력을 수반하여 고정된 후의 프레임 (1) 은, 상기 한 쌍의 상대적으로 짧은 외주연 변 중 하나 이상의 변의 위의 제 1 및 제 2 지점을 연결하는 직선이, 상기 제 1 지점과 상기 제 2 지점 사이의 상기 외주연 변 상의 제 3 지점보다 프레임 (1) 의 반경 방향에서의 외측을 통과하는 오목 형상인, 펠리클.
  18. 삭제
  19. 삭제
  20. 삭제
  21. 두께 방향에서 볼 때 표면적이 1000cm2 이상인 펠리클막 (2), 및
    인장응력을 수반하는 상기 펠리클막 (2) 을 위에 유지하는 프레임 (1) 을 구비하는 펠리클로서,
    상기 프레임 (1) 은,
    상기 펠리클막 (2) 의 두께 방향에서 볼 때, 일 방향으로 서로 대향하는 한 쌍의 상대적으로 짧은 외주연 변, 및
    상기 펠리클막 (2) 의 두께 방향에서 볼 때, 상기 일 방향에 직각인 다른 방향으로 서로 대향하는 한 쌍의 상대적으로 긴 외주연 변을 구비하고,
    상기 펠리클막 (2) 이 인장응력을 수반하여 프레임 (1) 에 의해 유지되기 이전의 프레임 (1) 은, 상기 한 쌍의 상대적으로 짧은 외주연 변 중 하나 이상의 변의 위의 제 1 및 제 2 지점을 연결하는 직선이, 상기 제 1 지점과 상기 제 2 지점 사이의 상기 외주연 변 상의 제 3 지점보다 프레임 (1) 의 반경 방향에서의 내측을 통과하는 볼록 형상이고,
    상기 펠리클막 (2) 이 프레임 (1) 상에 인장응력을 수반하여 고정된 후의 프레임 (1) 은, 상기 한 쌍의 상대적으로 짧은 외주연 변 중 하나 이상의 변의 위의 제 1 및 제 2 지점을 연결하는 직선이, 상기 제 1 지점과 상기 제 2 지점 사이의 상기 외주연 변 상의 제 3 지점보다 프레임 (1) 의 반경 방향에서의 외측을 통과하는 오목 형상인, 펠리클.
  22. 삭제
  23. 제 15 항, 제 17 항 또는 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 펠리클막 (2) 이 상기 프레임 (1) 상에 인장응력을 수반하여 고정된 후의 프레임 (1) 은, 상기 한 쌍의 상대적으로 긴 외주연 변 중 하나 이상의 변의 양종단을 연결하는 직선이, 상기 양종단의 중심 지점으로부터 상기 직선에 직각인 방향으로 0.2 mm 이상 그리고 6 mm 이하 만큼 떨어진 지점을 통과하는, 펠리클.
  24. 제 15 항, 제 17 항 또는 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 펠리클막 (2) 이 상기 프레임 (1) 상에 인장응력을 수반하여 고정된 후의 프레임 (1) 은, 상기 한 쌍의 상대적으로 긴 외주연 변 중 하나 이상의 변의 양종단을 연결하는 직선이, 상기 양종단의 중심 지점으로부터 상기 직선에 직각인 방향으로 0.2 mm 이상 그리고 3 mm 이하 만큼 떨어진 지점을 통과하는, 펠리클.
  25. 두께 방향에서 볼 때 표면적이 1000cm2 이상인 펠리클막 (2), 및
    인장응력을 수반하는 상기 펠리클막 (2) 을 위에 유지하는 프레임 (1) 을 구비하는 펠리클로서,
    상기 프레임 (1) 은,
    상기 펠리클막 (2) 의 두께 방향에서 볼 때, 일 방향으로 서로 대면하고 그 위에 상기 펠리클막 (2) 의 주변부를 고정하여 유지하는 한 쌍의 상대적으로 짧은 빔 (1b), 및
    상기 펠리클막 (2) 의 두께 방향에서 볼 때, 상기 일 방향에 직각인 다른 방향으로 서로 대면하고 그 위에 상기 펠리클막 (2) 의 다른 주변부를 고정하여 유지하는 한 쌍의 상대적으로 긴 빔 (1a) 을 구비하고,
    상기 펠리클막 (2) 이 인장응력을 수반하여 프레임 (1) 에 의해 유지되기 이전의 프레임 (1) 은, 상기 한 쌍의 상대적으로 긴 빔 (1a) 중 하나 이상의 빔의 중립축 위의 제 1 및 제 2 지점을 연결하는 직선이, 상기 제 1 지점과 상기 제 2 지점 사이의 상기 외주연 변 상의 제 3 지점보다 프레임 (1) 의 반경 방향에서의 내측을 통과하는 볼록 형상이고,
    상기 펠리클막 (2) 이 프레임 (1) 상에 인장응력을 수반하여 고정된 후의 프레임 (1) 은, 상기 한 쌍의 상대적으로 긴 빔 (1a) 중 하나 이상의 빔의 중립축 위의 제 1 및 제 2 지점을 연결하는 직선이, 상기 제 1 지점과 상기 제 2 지점 사이의 상기 외주연 변 상의 제 3 지점보다 프레임 (1) 의 반경 방향에서의 외측을 통과하는 오목 형상인, 펠리클.
  26. 삭제
  27. 제 25 항에 있어서,
    상기 펠리클막 (2) 이 인장응력을 수반하여 프레임 (1) 에 의해 유지되기 이전의 프레임 (1) 은, 상기 한 쌍의 상대적으로 짧은 빔 (1b) 중 하나 이상의 빔의 중립축 위의 제 1 및 제 2 지점을 연결하는 직선이, 상기 제 1 지점과 상기 제 2 지점 사이의 상기 외주연 변 상의 제 3 지점보다 프레임 (1) 의 반경 방향에서의 내측을 통과하는 볼록 형상이고,
    상기 펠리클막 (2) 이 프레임 (1) 상에 인장응력을 수반하여 고정된 후의 프레임 (1) 은, 상기 한 쌍의 상대적으로 짧은 빔 (1b) 중 하나 이상의 빔의 중립축 위의 제 1 및 제 2 지점을 연결하는 직선이, 상기 제 1 지점과 상기 제 2 지점 사이의 상기 외주연 변 상의 제 3 지점보다 프레임 (1) 의 반경 방향에서의 외측을 통과하는 오목 형상인, 펠리클.
  28. 삭제
  29. 두께 방향에서 볼 때 표면적이 1000cm2 이상인 펠리클막 (2), 및
    인장응력을 수반하는 상기 펠리클막 (2) 을 위에 유지하는 프레임 (1) 을 구비하는 펠리클로서,
    상기 프레임 (1) 은,
    상기 펠리클막 (2) 의 두께 방향에서 볼 때, 일 방향으로 서로 대면하고 그 위에 상기 펠리클막 (2) 의 주변부를 고정하여 유지하는 한 쌍의 상대적으로 짧은 빔 (1b), 및
    상기 펠리클막 (2) 의 두께 방향에서 볼 때, 상기 일 방향에 직각인 다른 방향으로 서로 대면하고 그 위에 상기 펠리클막 (2) 의 다른 주변부를 고정하여 유지하는 한 쌍의 상대적으로 긴 빔 (1a) 을 구비하고,
    상기 펠리클막 (2) 이 인장응력을 수반하여 프레임 (1) 에 의해 유지되기 이전의 프레임 (1) 은, 상기 한 쌍의 상대적으로 짧은 빔 (1b) 중 하나 이상의 빔의 중립축 위의 제 1 및 제 2 지점을 연결하는 직선이, 상기 제 1 지점과 상기 제 2 지점 사이의 상기 외주연 변 상의 제 3 지점보다 프레임 (1) 의 반경 방향에서의 내측을 통과하는 볼록 형상이고,
    상기 펠리클막 (2) 이 프레임 (1) 상에 인장응력을 수반하여 고정된 후의 프레임 (1) 은, 상기 한 쌍의 상대적으로 짧은 빔 (1b) 중 하나 이상의 빔의 중립축 위의 제 1 및 제 2 지점을 연결하는 직선이, 상기 제 1 지점과 상기 제 2 지점 사이의 상기 외주연 변 상의 제 3 지점보다 프레임 (1) 의 반경 방향에서의 외측을 통과하는 오목 형상인, 펠리클.
  30. 삭제
KR1020040077783A 2003-09-29 2004-09-30 대형 펠리클 KR100808428B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003337706 2003-09-29
JPJP-P-2003-00337706 2003-09-29

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20050031441A KR20050031441A (ko) 2005-04-06
KR100808428B1 true KR100808428B1 (ko) 2008-02-29

Family

ID=34674768

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040077783A KR100808428B1 (ko) 2003-09-29 2004-09-30 대형 펠리클

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP4024239B2 (ko)
KR (1) KR100808428B1 (ko)
CN (1) CN100378577C (ko)
TW (1) TWI291076B (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150134919A (ko) 2014-05-23 2015-12-02 주식회사 에프에스티 대형 포토마스크용 펠리클

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011158585A (ja) * 2010-01-29 2011-08-18 Shin-Etsu Chemical Co Ltd ペリクルおよびペリクルの製造方法
JP5512340B2 (ja) * 2010-03-17 2014-06-04 旭化成イーマテリアルズ株式会社 大型ペリクル
JP6018391B2 (ja) * 2012-03-21 2016-11-02 旭化成株式会社 ペリクル
JP6156998B2 (ja) * 2013-10-22 2017-07-05 信越化学工業株式会社 ペリクル
TWI658321B (zh) * 2013-12-05 2019-05-01 荷蘭商Asml荷蘭公司 用於製造一表膜的裝置與方法,以及一表膜
CN106048520B (zh) * 2016-05-27 2017-11-17 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版框架及主体、掩膜版及制作方法、基板和显示面板
CN106048521B (zh) 2016-06-12 2018-09-18 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 一种金属掩膜板的制备方法及金属掩膜板
CN108123671A (zh) * 2017-11-29 2018-06-05 北京创昱科技有限公司 一种框架压缩装置及薄膜拉伸方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002296763A (ja) * 2001-01-26 2002-10-09 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 大型ペリクル

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0968793A (ja) * 1995-08-30 1997-03-11 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクル
JP4004188B2 (ja) * 1999-07-30 2007-11-07 旭化成エレクトロニクス株式会社 大型ペリクル用枠体
JP4007752B2 (ja) * 1999-07-30 2007-11-14 旭化成エレクトロニクス株式会社 大型ペリクル用枠体及び大型ペリクル
JP4007750B2 (ja) * 2000-06-02 2007-11-14 旭化成エレクトロニクス株式会社 ペリクル
JP4601204B2 (ja) * 2001-05-11 2010-12-22 旭化成イーマテリアルズ株式会社 ペリクル用枠体
JP4027085B2 (ja) * 2001-12-04 2007-12-26 キヤノン株式会社 デバイス製造関連装置およびデバイス製造方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002296763A (ja) * 2001-01-26 2002-10-09 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 大型ペリクル

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
일본 공개 특허공보 특개2002-296763

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150134919A (ko) 2014-05-23 2015-12-02 주식회사 에프에스티 대형 포토마스크용 펠리클

Also Published As

Publication number Publication date
CN100378577C (zh) 2008-04-02
JP2005128512A (ja) 2005-05-19
JP4024239B2 (ja) 2007-12-19
CN1603951A (zh) 2005-04-06
TW200525286A (en) 2005-08-01
TWI291076B (en) 2007-12-11
KR20050031441A (ko) 2005-04-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101780063B1 (ko) 펠리클 프레임 및 리소그래피용 펠리클
KR101166460B1 (ko) 펠리클 프레임, 및 이 프레임을 사용한 포토리소그래피용 펠리클
TWI758378B (zh) 防塵薄膜組件框架及使用該框架之防塵薄膜組件
JP5411595B2 (ja) ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル
US20080248407A1 (en) Pellicle
KR20110089071A (ko) 리소그래피용 펠리클 및 그 제조 방법
WO2011125407A1 (ja) フォトマスクユニット及びその製造方法
KR100808428B1 (ko) 대형 펠리클
TWI452421B (zh) 防塵薄膜組件框架及防塵薄膜組件
KR100733872B1 (ko) 페리클 프레임 조립체
JP4004188B2 (ja) 大型ペリクル用枠体
JP2002296763A (ja) 大型ペリクル
JP6461659B2 (ja) ペリクル枠体及びペリクル
JP4343775B2 (ja) ペリクルフレーム及びフォトリソグラフィー用ペリクル
JP5619436B2 (ja) 大型ペリクル用枠体、及び大型ペリクル
JP4601204B2 (ja) ペリクル用枠体
JP6975702B2 (ja) ペリクルフレームおよびペリクル
JP2007003747A (ja) ペリクル付きフォトマスク及びペリクル
JP2005062640A (ja) ペリクル付きフォトマスク
JP4007750B2 (ja) ペリクル
JP5579545B2 (ja) 大型ペリクル用枠体、大型ペリクル及び大型ペリクル用枠体の製造方法
EP4095600A1 (en) Pellicle frame, pellicle, exposure original plate with pellicle, exposure method, and semiconductor or liquid-crystal-display manufacturing method
KR100385759B1 (ko) 대형 페리클
JP2014006360A (ja) 光学部材、光学装置、露光装置、およびデバイスの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
N231 Notification of change of applicant
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
G170 Publication of correction
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130201

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140204

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150119

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160119

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170119

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180202

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190201

Year of fee payment: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200205

Year of fee payment: 13