JP6018391B2 - ペリクル - Google Patents

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Description

本発明は、LSI、液晶ディスプレイ(LCD)を構成する薄膜トランジスタ(TFT)やカラーフィルター(CF)等を製造する際のリソグラフィー工程で使用されるフォトマスクやレティクルなどの露光用基盤に異物が付着することを防止するために用いられるペリクルの製造方法及びペリクルに関する。
例えば半導体装置や液晶ディスプレイ等の回路パターン製造時のリソグラフィー工程において、フォトマスク或いはレティクルなどの露光用基盤に異物が付着することを防止する目的で、一般にペリクルと呼ばれる防塵カバーが露光用基盤に装着される。
このペリクルは、通常露光用基盤の形状に合わせた形状を有する厚さ数ミリ程度のペリクルフレームの上縁面に、厚さ10μm以下のニトロセルロース或いはセルロース誘導体或いはフッ素ポリマーなどの透明な高分子材料からなる膜(以下、「ペリクル膜」という)を展張して接着し、かつ該ペリクルフレームの下縁面に粘着材を塗着すると共に、この粘着材表面に所定の接着力で保護フィルムを粘着させたものである。
前記粘着材は、ペリクルを露光用基盤に固着するためのものであり、また、保護フィルムは、粘着材が使用されるまで粘着材の接着力を維持するために、粘着材の接着面を保護するものである。
ところで、ペリクルが装着された露光用基盤を有する露光装置において、高い寸法精度の露光処理を行うためには、光が通るペリクル膜が自重により撓むことを抑制する必要がある。特に、近年、液晶パネルの大型化や生産性向上のために露光用基盤のサイズが大型化し、それに併せてペリクル膜も5,000cm2、10,000cm2、15,000cm2と年々大面積化しているため、その分撓み量が大きくなり、ペリクル膜の撓みが大きな問題となりつつある。
また、ペリクルを露光用基盤に装着する際に、周囲の陽圧雰囲気を巻き込んでペリクルの内側の閉空間の内圧が上がり、ペリクル膜の中央が膨らむことがある。この場合、ペリクル膜の膨らみが元に戻るまで待機することが望ましく、それによって製造時間が長くなる。特に大型のペリクルの場合には、ペリクルの閉空間の容積が大きく、内圧が下がるまでに時間を要するため、さらに製造時間が長くなる。
かかるペリクル膜の自重による撓みや、露光用基盤への装着時のペリクル膜の膨らみを低減する必要があり、ペリクルフレームに対するペリクル膜の膜張力を向上させることが望まれている。
ペリクル膜の膜張力に関する技術として、ペリクルフレームの熱膨張率の差を利用してペリクル膜に張力を付与する方法(特許文献1、2参照。)やペリクルフレームに形状記憶合金を用いる方法が提案されている(特許文献3参照。)。
特開2002−40628号公報 特開2002−40629号公報 特開2005−309129号公報
しかしながら、上述の特許文献1、2のようにペリクル膜とペリクルフレームとの熱膨張率の差を利用する場合、高温や低温でペリクル膜を貼り付ける必要があるため、ペリクル膜が高分子材料の場合、膜の軟化点や融点を越えてしまったり、ガラス転移温度を跨いでしまうことにより、ペリクル膜の光透過性などの物性が大きく変動することが考えられる。また、ペリクル膜とペリクルフレームに、熱膨張係数が十分に異なる材料を使用しなければならないため、材料の選択の自由度が小さくなる。また、高温若しくは低温でクリーン度の高い環境を作り、かつ、精度良くペリクルフレームにペリクル膜を貼り付けなければならず製造プロセスの制御が困難となる。
上述の特許文献3のようにペリクルフレームに形状記憶合金を用いる場合も、温度を変動させる必要がある。ペリクル膜が高分子材料であると、物性が変動しないような温度範囲が狭くなるため、温度変動を十分に行うことができず、それによってペリクルフレームを十分に変形させることが困難で、十分な膜張力が得られない。更には、形状記憶合金は非常に高価であり、特に膜面積が5,000cm2を越えるような大型ペリクルでは実用性が低くなる。
加えて、上述の熱膨張係数の差を利用する場合も、形状記憶合金を用いる場合も、高温処理若しくは低温処理が必要となるため、ペリクル膜とペリクルフレームの貼り付けや、ペリクルと露光用基盤の接着などペリクルに使用される粘着剤などの劣化が考えられ、接着が適正に行われないことが懸念される。このような場合、ペリクルの平坦性や寸法精度が低下し、露光処理に影響を与える恐れがある。
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、温度変化を与えることなく、ペリクル膜の膜張力を向上することをその目的とする。
本願発明者らが鋭意検討した結果、以下の製造方法でペリクルを製造することで、上記課題を解決し得ることを見出した。すなわち本発明は以下の通りである。
参考例は、基板上に成膜した高分子材料からなるペリクル膜を、開口部を有する枠体にその開口面を覆うように貼り付ける第一の工程と、前記基板から前記枠体に貼り付けられたペリクル膜を剥離する第二の工程と、前記枠体のペリクル膜を、開口部を有するペリクルフレームにその開口面を覆うように貼り付ける第三の工程と、をこの順に含み、前記第一の工程において前記枠体の少なくとも1辺に枠体の内側に向かう外力を加えて当該枠体の辺を内側に変形させた状態で前記ペリクル膜を前記枠体に貼り付ける、ペリクルの製造方法である。
別の観点による参考例は、基板上に成膜した高分子材料からなるペリクル膜を、開口部を有する枠体にその開口面を覆うように貼り付ける第一の工程と、前記基板から前記枠体に貼り付けられたペリクル膜を剥離する第二の工程と、前記枠体のペリクル膜を、開口部を有するペリクルフレームにその開口面を覆うように貼り付ける第三の工程と、をこの順に含み、前記第三の工程において前記ペリクルフレームの少なくとも1辺にペリクルフレームの内側に向かう外力を加えて当該ペリクルフレームの辺を内側に変形させた状態で前記ペリクル膜を前記ペリクルフレームに貼り付ける、ペリクルの製造方法である。
また、前記枠体及び/又は前記ペリクルフレームの少なくとも1辺が外側に凸に突出した初期形状を有していてもよい。
また、前記ペリクルフレームの開口面の面積が1000cm2以上であってもよい。
別の観点による本発明は、高分子材料からなるペリクル膜を、開口部を有するペリクルフレームにその開口面を覆うように貼り付けたペリクルであって、前記ペリクルフレームが、一対の長辺と一対の短辺とからなる4辺を有している略矩形のペリクルフレームであって、前記ペリクルフレームの開口面積が6000cm 2 以上、かつ、長辺の内寸が1350mm以上または短辺の内寸が1140mm以上であり、前記ペリクルフレームの形状が、長辺が外側に凸に突出した形状、短辺が外側に凸に突出した形状、または4辺が外側に凸に突出した形状のいずれかの形状であり、前記長辺の突出量が、3.5mm以上20.0mm以下であり、張り付けたペリクル膜の張力が、1.8〜6gf/mmであり、且つ張り付けたペリクル膜の撓み量が、1.0〜2mmである、ペリクルである。また、前記張り付けたペリクル膜の張力が、4.5〜6gf/mmである。
本発明は、枠体又はペリクルフレームの弾性力を利用してペリクル膜に引っ張り力を与えることができ、温度変化を用いずに膜張力を向上させることができる。その結果、高分子材料からなるペリクル膜であっても、ペリクル膜の光透過性などの物性が変動することを防止できる。また、ペリクル膜やペリクルフレーム、粘着剤等の材料の選択の自由度が広がる。製造プロセスの制御が容易になる。また、十分な膜張力を確保できる。さらに、熱による粘着剤の劣化を防止できる。
ペリクルの斜視図である。 ペリクルの縦断面図である。 枠体の形の説明図である。 ペリクルの製造プロセスを示す説明図である。 ペリクルフレームの形の説明図である。 ペリクルの他の製造プロセスを示す説明図である。 ペリクルフレームの突出量Sを示す説明図である。 実施例におけるシワ発生状態とハンドリング性の評価結果を示す表である。 実施例における膜張力の測定装置を示す説明図である。
本発明の実施形態を説明する。なお、以下に説明する実施形態は本発明の構成の例であり、本発明は以下の実施形態に制限されるものではない。また、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
図1及び図2にペリクル1を示す。ペリクル1は、例えば矩形の枠状で開口部を有するペリクルフレーム10と、ペリクルフレーム10の上面にその開口面Fを覆うように貼り付けられたペリクル膜11と、ペリクルフレーム10の下面に塗布された粘着剤12及びその粘着剤12の表面を覆う保護フィルム13を有している。
ペリクル膜11は、ニトロセルロースやセルロース誘導体、フッ素系高分子など透明な高分子膜で構成されている。また、ペリクルフレーム10の開口面Fは、例えば1000cm2以上であり、本実施の形態におけるペリクル1は、いわゆる大型ペリクルである。
ペリクル1の製造は、図3に示す枠体20を用いて行われる。枠体20は、矩形で、一対の長辺20aと一対の短辺20bとからなる4辺を有しており、例えば図3の(A)のように4辺が直線状のもの、(B)のように対となる長辺20aが外側に凸に突出したもの、(C)のように対となる短辺20bが外側に凸に突出したもの、または(D)のように4辺が外側に凸に突出した形状のもののいずれかを用いることができる。枠体20の材質はアルミニウムやその合金、マグネシウムやその合金、鉄や鉄軽合金など弾性変形を起こせるものであれば良い。
図4は、ペリクル1の製造方法の一例の概略を示す説明図である。図4の(A)に示すように先ず枠体20が用意される。次に図4の(B)に示すように枠体20の各辺20a、20bの中央付近が、治具などを用いて押さえ込まれ、外側から内側に外力が付与されて、枠体20の各辺20a、20bが内側に凸に変形する。また、CVD、スパッタリングなどの成膜技術によりペリクル膜11が成膜された基板30が用意される。そして、各辺20a、20bが内側に変形した状態の枠体20に、その開口面Gを覆うように基板30のペリクル膜11が貼り付けられる。このときのペリクル膜11と枠体20との接着は、枠体20上に塗布された接着材により行われる。その後、枠体20の各辺20a、20bを変形させていた外力が取り除かれる。なお、図4の(B)では、説明のために枠体20の内側への変形量を大きく描いているが、実際の枠体20の押し込み量は、枠体材の弾性変形領域であれば任意の力で押さえ込むことができ、図3の(B)、(C)、(D)に示したように辺が外側に凸に突出した枠体20の場合には、外側から押さえ込んだ辺が略直線的になるようにしてもよい。
次に図4の(C)に示すように基板30から枠体20に貼り付けられたペリクル膜11が剥離される。このとき、枠体20の変形を維持していた力を取り除くことにより、枠体20の各辺20a、20bが弾性により元の形に戻り外側に変位する。これにより、ペリクル膜11には4辺の外側方向に引っ張り力が作用し、膜張力が上がる。
次に図4の(D)に示すようにペリクルフレーム10が用意される。ペリクルフレーム10の上面には、接着剤が塗布されている。次に、図4の(E)に示すようにペリクルフレーム10の上面に、その開口面Fを覆うように枠体20のペリクル膜11が貼り付けられる。これにより、ペリクル膜11は、膜張力が維持された状態で、ペリクルフレーム10に貼り付けられる。その後、枠体20を含むペリクル膜11の余剰部分が除去される。
本実施の形態によれば、温度変化を与えることなく、高分子材料からなるペリクル膜11の膜張力を向上できるので、ペリクル膜の物性が変動することを防止でき、当該ペリクル1を利用した露光処理を適正に行うことができる。また、ペリクルフレーム10や粘着剤12、ペリクル膜11などの材質に温度変化に耐え得るものを用いる必要がなく、材質の選択の自由度が広がる。また、温度変化を与えたり、温度変化に伴う空調を行う高価な設備が必要なく、その制御プロセスが容易になる。さらに、高温若しくは低温に曝されないため、熱による粘着剤12等の劣化がなく、ペリクル1の平坦性や寸法精度が確保され、精度の高い露光処理を行うことができる。
また、本実施の形態で記載したペリクル1は、ペリクルフレーム10の開口面Fが1000cm2以上の大型ペリクルであるが、膜張力を向上できるので、大型化によって顕著になるペリクル膜の自重による撓みを抑制できる。よって、大型ペリクルであっても、精度の高い露光処理を実現できる。また、露光用基盤への装着時に周囲雰囲気を巻き込んで生じるペリクル膜11の膨らみも抑制できる。これにより、そのペリクル膜11の膨らみが戻るまでの待ち時間が減り、製造時間を短縮できる。
さらに、図3(B)〜(D)に示したように枠体20の少なくとも1辺が外側に凸に突出した初期形状を有している場合には、枠体20の辺の内側への変形量を大きく確保でき、その分弾性により元に戻る際の変形量も大きく確保できる。よって、ペリクル膜11をより強く引っ張ることができ、膜張力をさらに上げることができる。
なお、本実施の形態において、ペリクル膜11を貼り付ける際に枠体20の総ての辺20a、20bを内側に変形させていたが、4辺のうちの任意の辺を内側に変形させてもよい。これにより、ペリクル膜11の長辺方向、若しくは短辺方向の張力を発現させたい方向のみに膜張力を増加させることができ、ペリクル膜11が長方形の場合などは長辺方向に強い張力を与えるなど、4方向の張力バランスの均等化を図ることができる。
また、本実施の形態では、枠体20の辺を変形させる外力を、枠体20にペリクル膜11を貼り付けた後であって基板30から枠体20を離脱させる前に除去していたが、基板30から枠体20を離脱させた後でペリクル膜11をペリクルフレーム10に貼り付ける前に除去してもよい。また、当該外力の除去を、ペリクル膜11をペリクルフレーム10に貼り付けた後に行ってもよい。
上記実施の形態では、ペリクル膜11を貼り付ける際に枠体20を変形させていたが、ペリクルフレーム10を変形させてもよい。図5は、この例で用いられるペリクルフレーム10の形状を示し、図6は、この例のペリクル1の製造方法の概略を示す説明図である。
図5に示すようにペリクルフレーム10は、一対の長辺10aと一対の短辺10bとからなる4辺を有しており、図5(A)のように4辺10a、10bが直線状のもの、(B)のように対となる長辺10aが外側に凸に突出したもの、(C)のように対となる短辺10bが外側に凸に突出したもの、または(D)のように4辺10a、10bが外側に凸に突出した形状のもののいずれかを用いることができる。ペリクルフレーム10の材質はアルミニウムやその合金、あるいは鉄や鉄系合金といったペリクルフレームに一般的に用いられるものであればよい。ペリクルフレーム10の材質は、大型化による自重の増加を考慮すれば、軽量で、かつ、剛性を有するものが好ましく、アルミニウムやその合金が好ましい。
図6の(A)に示すようにペリクルフレーム10が用意される。ペリクルフレーム10の上面には、接着剤が塗布されている。次に図6の(B)に示すようにペリクルフレーム10の各辺10a、10bの中央付近が、治具などを用いて押さえ込まれ、外側から内側に外力が付与されて、ペリクルフレーム10の各辺10a、10bが内側に凸に変形される。この状態で、ペリクルフレーム10の上面に、その開口面Fを覆うように枠体20のペリクル膜11が貼り付けられる。このペリクル膜11は、上述の実施の形態のように初めに基板30上に成膜され、次に枠体20に貼り付けられ、その後基板30が取り外されたものである。なお、本実施の形態では、上述の実施の形態のように外力が付与されて枠体20が変形している必要はない。また、図6では、説明のためにペリクルフレーム10の内側への変形量を大きく描いているが、実際のペリクルフレーム10の押し込み量は、フレーム材の弾性変形領域であれば任意の力で押さえ込むことができ、図5の(B)、(C)、(D)に示したように辺が外側に凸に突出したペリクルフレーム10の場合には、外側から押さえ込んだ辺が略直線的になるようにしてもよい。
次に図6の(C)に示すようにペリクルフレーム10に付与されていた外力が取り除かれると、ペリクルクレーム10の各辺10a、10bが弾性力により元の形に戻り外側に変位する。これにより、ペリクル膜11には、外側方向に引っ張り力が働き、膜張力が上がる。その後、ペリクル膜11の余剰部分が除去される。
本実施の形態によれば、温度変化を与えることなく、高分子材料からなるペリクル膜11の膜張力を向上できるので、ペリクル膜の物性が変動することを防止でき、当該ペリクル1を利用した露光処理を適正に行うことができる。また、ペリクルフレーム10や粘着剤12、ペリクル膜11などの材質に温度変化に耐え得るものを用いる必要がなく、材質の選択の自由度が広がる。また、温度変化を与えたり、温度変化に伴う空調を行う高価な設備が必要なく、その制御プロセスが容易になる。さらに、高温若しくは低温に曝されないため、熱による粘着剤12等の劣化がなく、ペリクル1の平坦性や寸法精度が確保され、精度の高い露光処理を行うことができる。
また、本実施の形態によれば、膜張力を向上できるので、ペリクルの大型化によって顕著になるペリクル膜の自重による撓みを抑制できる。よって、大型ペリクルであっても、精度の高い露光処理を実現できる。また、露光用基盤への装着時に周囲雰囲気を巻き込んで生じるペリクル膜11の膨らみも抑制できる。これにより、そのペリクル膜11の膨らみが戻るまでの待ち時間が減り、製造時間を短縮できる。
また、本実施の形態によれば、ペリクルフレーム1の内側に変形させる辺を選択することにより、ペリクル膜11の長辺方向、若しくは短辺方向の張力を発現させたい方向のみに膜張力を増加させることもでき、ペリクル膜11が長方形の場合などは長辺方向に強い張力を与えるなど、4方向の張力バランスの均等化を図ることができる。なお、本実施の形態において、ペリクルフレーム10の総ての辺10a、10bを内側に変形させていたが、4辺のうちの少なくも1辺を内側に変形させればよい。
さらに、図5の(B)〜(D)に示したようにペリクルフレーム10の少なくとも1辺が外側に凸に突出した初期形状を有している場合には、ペリクルフレーム10の辺の内側への変形量を大きく確保でき、その分弾性により元に戻る際の変形量も大きく確保できる。よって、ペリクル膜11をより強く引っ張ることができ、膜張力をさらに上げることができる。
また、図5の(B)〜(D)に示したペリクルフレーム10において、辺の外側に凸に突出した部分を押さえ込むことで、その外側に凸の突出量と押さえ込み量を制御することにより任意の膜張力を発現させることが可能である。そして、押さえ込みはフレームの弾性変形領域であれば任意の力で押さえることが可能であり、ペリクルフレーム10の外側に凸の突出量と押さえ込み量のバランスが取れ、ペリクルへ成形後に各辺が略直線的になるように調整することが好ましい。
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
(ペリクル)
本実施の形態に係るペリクル1は、高分子材料からなるペリクル膜11を、開口部を有するペリクルフレーム10にその開口面Fを覆うように貼り付けたペリクルであって、張り付けたペリクル膜11の張力が、1.8〜6gf/mmであるペリクルである。より好ましくは、1.9〜5gf/mmであり、更に好ましくは、2.0〜4.5gf/mmである。
この張力に調整することで、ペリクルフレーム10に張り付けたペリクルのハンドリング時の膜シワの発生等が抑制され、ハンドリング性が向上する。なお、ペリクル膜11の張力上限値が上記範囲であれば、膜の亀裂や破損を引き起こさない。
ここで、ペリクルフレーム10が、一対の長辺と一対の短辺とからなる4辺を有している略矩形のペリクルフレームであって、ペリクルフレーム10の形状が、図5(B)、(C)、(D)に示したように長辺が外側に凸に突出した形状、短辺が外側に凸に突出した形状、または4辺が外側に凸に突出した形状から選択される少なくともいずれか1つの形状を有していてもよい。この場合、ペリクル膜11の張力を前記範囲に調整し易くなるため、好ましい。
具体的には、図5(B)に示すように長辺のみを突出させた場合、長辺の初期形状の突出量S(図7に示す)としては、3.5mm以上20.0mm以下であることが好ましく、3.8mm以上18mm以下がより好ましく、更に好ましくは4.0mm以上15mm以下である。また図5(C)に示すように短辺のみを突出させた場合、短辺の初期形状の突出量Sは、2.8mm以上15mm以下、より好ましくは2.9mm以上12mm以下、更に好ましくは3.0mm以上9mm以下である。また、図5(D)に示すように長辺と短辺の4辺全てを突出させた場合、長辺の突出量Sが2.5mm以上20mm以下であって短辺の突出量Sが0.5mm以上15mm以下であることが好ましく、長辺の突出量Sが3.0mm以上18mm以下であって短辺の突出量Sが1.0mm以上12mm以下であることがよりに好ましく、長辺の突出量Sが3.5mm以上15mm以下であって短辺の突出量Sが1.5mm以上9mm以下であることが更に好ましい。なお、この突出量Sは、ペリクルフレーム10の各辺部の角部における外縁の頂点C同士をつないだ直線を仮想の基準線Lとした際の、該辺の外縁上における前記基準線Lから最も離れた点Pと前記基準線Lとの距離とする。上記例のように、突出させる辺部は、長辺、短辺のどちらでもよいが、特に長辺側を外側に凸に突出させた方が、突出量を調整しやすく好ましい。
なお、図3(B)、(C)、(D)に示した枠体20の長辺或いは短辺の突出量Sについても、ペリクルフレーム10と同様の上記寸法の範囲が好ましい。
初期形状としては、外側に凸となる突出量をもてばどのような形状でもよいが、図7のように中央付近に膨出量をもつことが好ましい。頂点Cから徐々に外側に凸に湾曲してもよいし、頂点Cからある程度の直線を持ってから、外側に凸に湾曲してもよい。
さらに、ペリクルフレーム10の開口面Fの面積が1000cm2以上である場合、ペリクル1を納入した業者により搬送、使用される際の膜シワの発生が抑止される。この場合、ハンドリングに極めて注意を要する必要があるが、ペリクル膜11の張力を、1.8〜6gf/mmに調整することで、劇的にハンドリング時のシワの発生が抑止される。特にペリクル面積が3,000cm2、更には6,000cm2を越えるような大型ペリクルの場合にシワ発生の抑止効果が期待できる。
ペリクルフレーム10の厚み(長辺10a及び短辺10bの厚み。図2でいうペリクル膜11と粘着剤12間の距離)は、2.5mm以上10mm以下が好ましく、さらに好ましくは、3.0mm以上8mm以下であり、より好ましくは、3.5mm以上7mm以下である。
ペリクルフレーム10の幅については、長辺幅/長辺長の割合が、0.5%以上3.0%以下が好ましく、より好ましくは、0.55%以上2.8%以下、更に好ましくは0.6以上2.6%以下であることが好ましい。長辺幅としては、3mm〜22mmの範囲が好ましく、4mm〜20mmの範囲がより好ましく、6mm〜19mmの範囲が最も好ましい。また、短辺幅/短辺長の割合は、0.5%以上4.5%以下が好ましく、より好ましくは0.55%以上4.0%以下であり、更に好ましくは、0.6%以上3.5%以下である。短辺幅としては、3mm〜22mmの範囲が好ましく、4mm〜20mmの範囲がより好ましく、6mm〜19mmの範囲が最も好ましい。
図8には、下記の実施例1〜3、比較例1〜3におけるペリクル膜のシワ発生状態と、ペリクル搬送時のハンドリング性の評価を示す。
〔実施例1〕
大型ペリクル用の枠体として、材質がアルミニウム合金、厚み8mmであり、長辺と短辺の幅が20mm、内寸が1600mm×1600mmのものを用意した。当該枠体は、各辺中央付近を外側に凸にした形状にし、初期形状の外側に凸の突出量を3.3mmとした。別途、大型ペリクル用のペリクルフレームとして、材質がアルミニウム合金、厚さ5.0mm、長辺幅、短辺幅とも12mm、内寸が1350mm×1140mmの大型ペリクル用のペリクルフレームを用意した。
大型ペリクルは、次のように製造した。大型ペリクル用の枠体の各辺の突出部を治具を用いて略直線状になるように押さえ込みながら、当該枠体に、基板上に成膜したセルロースエステルのペリクル膜に接着させ、その後基板から剥離させた。基板から剥離後、治具による外力を開放した。大型ペリクル用のペリクルフレームの下縁面にスチレンエチレンブチレンスチレン系のマスク粘着材を塗布した。ペリクルフレームの上縁面には、アクリル系の膜接着剤を塗布し、ペリクルフレームに前記枠体のペリクル膜を接着させ、余剰膜を切除した。
膜張力と膜の撓み量の測定は、次のように行われた。図9に示すようにガラス基板100にマスク粘着材を介して大型ペリクル1を貼付けた。また、大型ペリクル1の内外の差圧が、表1となるように実験室の気圧や、大型ペリクル1の内側の圧力を調整し、そのペリクル内外の差圧下でのペリクル膜11の中央の撓み量を測定した。測定は、ペリクル膜11の中央にレーザー変位計101を照射しながら測定した。大型ペリクル1の内圧の調整は、コンプレッサ102により行った。
尚、膜張力は、ペリクル膜を接着した製造後のペリクルフレームの寸法と元々のペリクルフレームの寸法の差(Δσ)とペリクルフレームの弾性率(E)、辺の長さ(L)、厚み(t)、幅(w)から計算した値であり、ペリクルフレーム長さL方向1mm当たりに掛かる張力のことである。
膜張力(gf/mm)=16×E×Δσ×w3×t/L4
測定結果は、表1の通りである。
〔実施例2〕
大型ペリクル用の枠体として、材質がアルミニウム合金、厚み8mmであり、長辺と短辺の幅が20mm、内寸が1600mm×1600mmのものを用意した。枠体の各辺は、直線状の初期形状を有する。別途、大型ペリクル用のペリクルフレームとして、材質がアルミニウム合金、厚さ5.0mm、長辺幅、短辺幅とも12mm、内寸が1350mm×1140mm、長辺の2辺の初期形状の外側に凸の突出量が7mmのものを用意した。
大型ペリクルは、次のように製造した。大型ペリクル用の枠体に、基板上に成膜したセルロースエステルのペリクル膜に接着させ、その後基板から剥離させた。大型ペリクル用のペリクルフレームの下縁面には、スチレンエチレンブチレンスチレン系のマスク粘着材を塗布した。ペリクルフレームの上縁面には、アクリル系の膜接着剤を塗布し、ペリクルフレームの長辺の中央を、外側に凸の突出量が6mmになるように治具で押さえ込みながらペリクルフレームにペリクル膜を接着し、その後余剰膜を切除した。
膜張力と膜の歪み量の測定は、実施例1と同様である。この測定結果、表1に示す通りである。
〔実施例3〕
大型ペリクル用のペリクルフレームとして、内寸が904mm×734mm、厚さ5mm、長辺幅8mm、短辺幅7mm、長辺の初期形状の外側に凸の突出量が5.5mmのものを用い、長辺の中央の外側に凸の突出量が4mmになるように治具で押え込んで、膜張力と膜の歪み量の測定を行った。それ以外は、実施例2と同様である。
〔比較例1〕
実施例1で使用した大型ペリクル用の枠体を使用し、大型ペリクル用の枠体の長辺中央を押さえ込まないでペリクル膜を接着した以外は、実施例1と同様に行った。ペリクルフレームのコーナー部付近に湾曲部が残る形状になったため、外観に不具合が生じた。
〔比較例2〕
実施例2で使用した大型ペリクル用の枠体を使用し、大型ペリクル用のペリクルフレームの長辺中央を押さえ込まないでペリクル膜を接着した以外は、実施例2と同様に行った。
ペリクルフレームのコーナー部付近に湾曲部が残る形状になったため、外観に不具合が生じた。
〔比較例3〕
実施例3で使用した大型ペリクル用の枠体を使用し、大型ペリクル用のペリクルフレームの長辺中央を押さえ込まないでペリクル膜を接着した以外は、実施例3と同様に行った。
ペリクルフレームのコーナー部付近に湾曲部が残る形状になったため、外観に不具合が生じた。
Figure 0006018391
1 ペリクル
10 ペリクルフレーム
10a 長辺
10b 短辺
11 ペリクル膜
20 枠体
20a 長辺
20b 短辺
30 基板

Claims (2)

  1. 高分子材料からなるペリクル膜を、開口部を有するペリクルフレームにその開口面を覆うように貼り付けたペリクルであって、
    前記ペリクルフレームが、一対の長辺と一対の短辺とからなる4辺を有している略矩形のペリクルフレームであって、
    前記ペリクルフレームの開口面積が6000cm 2 以上であり、
    前記ペリクルフレームの形状が、長辺が外側に凸に突出した形状、短辺が外側に凸に突出した形状、または4辺が外側に凸に突出した形状のいずれかの形状であり、
    前記長辺の突出量が、3.5mm以上20.0mm以下であり、
    張り付けたペリクル膜の張力が、1.8〜6gf/mmであり、且つ張り付けたペリクル膜の撓み量が、1.0〜2mmである、ペリクル。
  2. 前記張り付けたペリクル膜の張力が、4.5〜6gf/mmである、請求項1に記載のペリクル。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI658321B (zh) * 2013-12-05 2019-05-01 荷蘭商Asml荷蘭公司 用於製造一表膜的裝置與方法,以及一表膜
US10571800B2 (en) * 2015-02-03 2020-02-25 Asml Netherlands B.V. Mask assembly and associated methods
KR101659587B1 (ko) * 2015-11-18 2016-09-23 (주)오로스테크놀로지 표면 결함 검사 장치
WO2019225503A1 (ja) * 2018-05-25 2019-11-28 日本特殊陶業株式会社 ペリクル枠及びフォトマスク並びにペリクル枠の製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0312245U (ja) * 1989-06-22 1991-02-07
JP3386693B2 (ja) * 1997-06-09 2003-03-17 信越化学工業株式会社 ペリクルの製造方法
US6639650B2 (en) * 1999-12-21 2003-10-28 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Light exposure method, light exposure apparatus, pellicle and method for relieving warpage of pellicle membrane
JP4082845B2 (ja) * 2000-04-10 2008-04-30 信越化学工業株式会社 リソグラフィー用ペリクルおよびペリクル膜の反りの緩和方法
TWI291076B (en) * 2003-09-29 2007-12-11 Asahi Kasei Emd Corp Pellicle and frame for pellicle
JP2005202011A (ja) * 2004-01-14 2005-07-28 Mitsui Chemicals Inc ペリクル
JP2006323178A (ja) * 2005-05-19 2006-11-30 Shin Etsu Chem Co Ltd リソグラフィ用ペリクル及びその製造方法
JP2011158585A (ja) * 2010-01-29 2011-08-18 Shin-Etsu Chemical Co Ltd ペリクルおよびペリクルの製造方法
JP5641602B2 (ja) * 2010-09-07 2014-12-17 旭化成イーマテリアルズ株式会社 ペリクルの製造方法

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