JP5641602B2

JP5641602B2 - ペリクルの製造方法

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Publication number: JP5641602B2
Application number: JP2010200056A
Authority: JP
Inventors: 洋文内村; 雅弘塚本
Original assignee: Asahi Kasei E Materials Corp
Current assignee: Asahi Kasei Corp
Priority date: 2010-09-07
Filing date: 2010-09-07
Publication date: 2014-12-17
Anticipated expiration: 2030-09-07
Also published as: JP2012058400A

Description

本発明は、ＬＳＩ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）を構成する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）やカラーフィルター（ＣＦ）等を製造する際のリソグラフィー工程で使用されるフォトマスクやレティクルなどの露光用基盤に異物が付着することを防止するために用いられるペリクルの製造方法に関する。

例えば半導体装置や液晶ディスプレイ等の回路パターン製造時のリソグラフィー工程において、フォトマスク或いはレティクルなどの露光用基盤に異物が付着することを防止する目的で、一般にペリクルと呼ばれる防塵カバーが露光用基盤に装着される。

このペリクルは、通常露光用基盤の形状に合わせた形状を有する厚さ数ミリ程度のペリクルフレームの上縁面に、厚さ１０μｍ以下のニトロセルロース或いはセルロース誘導体或いはフッ素ポリマーなどの透明な高分子材料からなる膜（以下、「ペリクル膜」という）を展張して接着し、かつ該ペリクルフレームの下縁面に粘着材を塗着すると共に、この粘着材表面に所定の接着力で保護フィルムを粘着させたものである。

前記粘着材は、ペリクルを露光用基盤に固着するためのものであり、また、保護フィルムは、粘着材が使用されるまで粘着材の接着力を維持するために、粘着材の接着面を保護するものである。

ところで、ペリクルが装着された露光用基盤を有する露光装置において、高い寸法精度の露光処理を行うためには、光が通るペリクル膜が自重により撓むことを抑制する必要がある。特に、近年、液晶パネルの大型化や生産性向上のために露光用基盤のサイズが大型化し、それに併せてペリクル膜も５，０００ｃｍ²、１０，０００ｃｍ²、１５，０００ｃｍ²と年々大面積化しているため、その分撓み量が大きくなり、ペリクル膜の撓みが大きな問題となりつつある。

また、ペリクルを露光用基盤に装着する際に、周囲の陽圧雰囲気を巻き込んでペリクルの内側の閉空間の内圧が上がり、ペリクル膜の中央が膨らむことがある。この場合、ペリクル膜の膨らみが元に戻るまで待機することが望ましく、それによって製造時間が長くなる。特に大型のペリクルの場合には、ペリクルの閉空間の容積が大きく、内圧が下がるまでに時間を要するため、さらに製造時間が長くなる。

かかるペリクル膜の自重による撓みや、露光用基盤への装着時のペリクル膜の膨らみを低減する必要があり、ペリクルフレームに対するペリクル膜の膜張力を向上させることが望まれている。

ペリクル膜の膜張力に関する技術として、ペリクルフレームの熱膨張率の差を利用してペリクル膜に張力を付与する方法（特許文献１、２参照。）やペリクルフレームに形状記憶合金を用いる方法が提案されている（特許文献３参照。）。

特開２００２−４０６２８号公報特開２００２−４０６２９号公報特開２００５−３０９１２９号公報

しかしながら、上述の特許文献１、２のようにペリクル膜とペリクルフレームとの熱膨張率の差を利用する場合、高温や低温でペリクル膜を貼り付ける必要があるため、ペリクル膜が高分子材料の場合、膜の軟化点や融点を越えてしまったり、ガラス転移温度を跨いでしまうことにより、ペリクル膜の光透過性などの物性が大きく変動することが考えられる。また、ペリクル膜とペリクルフレームに、熱膨張係数が十分に異なる材料を使用しなければならないため、材料の選択の自由度が小さくなる。また、高温若しくは低温でクリーン度の高い環境を作り、かつ、精度良くペリクルフレームにペリクル膜を貼り付けなければならず製造プロセスの制御が困難となる。

上述の特許文献３のようにペリクルフレームに形状記憶合金を用いる場合も、温度を変動させる必要がある。ペリクル膜が高分子材料であると、物性が変動しないような温度範囲が狭くなるため、温度変動を十分に行うことができず、それによってペリクルフレームを十分に変形させることが困難で、十分な膜張力が得られない。更には、形状記憶合金は非常に高価であり、特に膜面積が５，０００ｃｍ²を越えるような大型ペリクルでは実用性が低くなる。

加えて、上述の熱膨張係数の差を利用する場合も、形状記憶合金を用いる場合も、高温処理若しくは低温処理が必要となるため、ペリクル膜とペリクルフレームの貼り付けや、ペリクルと露光用基盤の接着などペリクルに使用される粘着剤などの劣化が考えられ、接着が適正に行われないことが懸念される。このような場合、ペリクルの平坦性や寸法精度が低下し、露光処理に影響を与える恐れがある。

本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、温度変化を与えることなく、ペリクル膜の膜張力を向上することをその目的とする。

本願発明者らが鋭意検討した結果、以下の製造方法でペリクルを製造することで、上記課題を解決し得ることを見出した。すなわち本発明は以下の通りである。

本発明は、基板上に成膜した高分子材料からなるペリクル膜を、開口部を有する枠体にその開口面を覆うように貼り付ける第一の工程と、前記基板から前記枠体に貼り付けられたペリクル膜を剥離する第二の工程と、前記枠体のペリクル膜を、開口部を有するペリクルフレームにその開口面を覆うように貼り付ける第三の工程と、をこの順に含み、前記第一の工程において前記枠体の少なくとも１辺に枠体の内側に向かう外力を加えて当該枠体の辺を内側に変形させた状態で前記ペリクル膜を前記枠体に貼り付ける、ペリクルの製造方法である。

別の観点による本発明は、基板上に成膜した高分子材料からなる、１０μｍ以下の厚みのペリクル膜を、開口部を有する枠体にその開口面を覆うように貼り付ける第一の工程と、前記基板から前記枠体に貼り付けられたペリクル膜を剥離する第二の工程と、前記枠体のペリクル膜を、開口部を有するペリクルフレームにその開口面を覆うように貼り付ける第三の工程と、前記枠体を含むペリクル膜の余剰部分を除去する第四の工程と、をこの順に含み、前記第三の工程において前記ペリクルフレームの少なくとも１辺が外側に凸に突出した初期形状を有し、前記ペリクルフレームの少なくとも１辺にペリクルフレームの内側に向かう外力を加えて当該ペリクルフレームの辺を内側に変形させた状態で前記ペリクル膜を前記ペリクルフレームに貼り付ける、ペリクルの製造方法である。

また、前記枠体及び／又は前記ペリクルフレームの少なくとも１辺が外側に凸に突出した初期形状を有していてもよい。

また、前記ペリクルフレームの開口面の面積が１０００ｃｍ²以上であってもよい。

本発明は、枠体又はペリクルフレームの弾性力を利用してペリクル膜に引っ張り力を与えることができ、温度変化を用いずに膜張力を向上させることができる。その結果、高分子材料からなるペリクル膜であっても、ペリクル膜の光透過性などの物性が変動することを防止できる。また、ペリクル膜やペリクルフレーム、粘着剤等の材料の選択の自由度が広がる。製造プロセスの制御が容易になる。また、十分な膜張力を確保できる。さらに、熱による粘着剤の劣化を防止できる。

ペリクルの斜視図である。ペリクルの縦断面図である。枠体の形の説明図である。ペリクルの製造プロセスを示す説明図である。ペリクルフレームの形の説明図である。ペリクルの他の製造プロセスを示す説明図である。実施例における膜張力の測定装置を示す説明図である。

本発明の実施形態を説明する。なお、以下に説明する実施形態は本発明の構成の例であり、本発明は以下の実施形態に制限されるものではない。また、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。

図１及び図２にペリクル１を示す。ペリクル１は、例えば矩形の枠状で開口部を有するペリクルフレーム１０と、ペリクルフレーム１０の上面にその開口面Ｆを覆うように貼り付けられたペリクル膜１１と、ペリクルフレーム１０の下面に塗布された粘着剤１２及びその粘着剤１２の表面を覆う保護フィルム１３を有している。

ペリクル膜１１は、ニトロセルロースやセルロース誘導体、フッ素系高分子など透明な高分子膜で構成されている。また、ペリクルフレーム１０の開口面Ｆは、例えば１０００ｃｍ²以上であり、本実施の形態におけるペリクル１は、いわゆる大型ペリクルである。

ペリクル１の製造は、図３に示す枠体２０を用いて行われる。枠体２０は、矩形で、一対の長辺２０ａと一対の短辺２０ｂとからなる４辺を有しており、例えば図３の（Ａ）のように４辺が直線状のもの、（Ｂ）のように対となる長辺２０ａが外側に凸に突出したもの、（Ｃ）のように対となる短辺２０ｂが外側に凸に突出したもの、（Ｄ）のように４辺が外側に凸に突出した形状のものを用いることができる。枠体２０の材質はアルミニウムやその合金、マグネシウムやその合金、鉄や鉄軽合金など弾性変形を起こせるものであれば良い。

図４は、ペリクル１の製造方法の一例の概略を示す説明図である。図４の（Ａ）に示すように先ず枠体２０が用意される。次に図４の（Ｂ）に示すように枠体２０の各辺２０ａ、２０ｂの中央付近が、治具などを用いて押さえ込まれ、外側から内側に外力が付与されて、枠体２０の各辺２０ａ、２０ｂが内側に凸に変形する。また、ＣＶＤ、スパッタリングなどの成膜技術によりペリクル膜１１が成膜された基板３０が用意される。そして、各辺２０ａ、２０ｂが内側に変形した状態の枠体２０に、その開口面Ｇを覆うように基板３０のペリクル膜１１が貼り付けられる。このときのペリクル膜１１と枠体２０との接着は、枠体２０上に塗布された接着材により行われる。その後、枠体２０の各辺２０ａ、２０ｂを変形させていた外力が取り除かれる。なお、図４の（Ｂ）では、説明のために枠体２０の内側への変形量を大きく描いているが、実際の枠体２０の押し込み量は、枠体材の弾性変形領域であれば任意の力で押さえ込むことができ、図３の（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）に示したように辺が外側に凸に突出した枠体２０の場合には、外側から押さえ込んだ辺が略直線的になるようにしてもよい。

次に図４の（Ｃ）に示すように基板３０から枠体２０に貼り付けられたペリクル膜１１が剥離される。このとき、枠体２０の変形を維持していた力を取り除くことにより、枠体２０の各辺２０ａ、２０ｂが弾性により元の形に戻り外側に変位する。これにより、ペリクル膜１１には４辺の外側方向に引っ張り力が作用し、膜張力が上がる。

次に図４の（Ｄ）に示すようにペリクルフレーム１０が用意される。ペリクルフレーム１０の上面には、接着剤が塗布されている。次に、図４の（Ｅ）に示すようにペリクルフレーム１０の上面に、その開口面Ｆを覆うように枠体２０のペリクル膜１１が貼り付けられる。これにより、ペリクル膜１１は、膜張力が維持された状態で、ペリクルフレーム１０に貼り付けられる。その後、枠体２０を含むペリクル膜１１の余剰部分が除去される。

本実施の形態によれば、温度変化を与えることなく、高分子材料からなるペリクル膜１１の膜張力を向上できるので、ペリクル膜の物性が変動することを防止でき、当該ペリクル１を利用した露光処理を適正に行うことができる。また、ペリクルフレーム１０や粘着剤１２、ペリクル膜１１などの材質に温度変化に耐え得るものを用いる必要がなく、材質の選択の自由度が広がる。また、温度変化を与えたり、温度変化に伴う空調を行う高価な設備が必要なく、その制御プロセスが容易になる。さらに、高温若しくは低温に曝されないため、熱による粘着剤１２等の劣化がなく、ペリクル１の平坦性や寸法精度が確保され、精度の高い露光処理を行うことができる。

また、本実施の形態で記載したペリクル１は、ペリクルフレーム１０の開口面Ｆが１０００ｃｍ²以上の大型ペリクルであるが、膜張力を向上できるので、大型化によって顕著になるペリクル膜の自重による撓みを抑制できる。よって、大型ペリクルであっても、精度の高い露光処理を実現できる。また、露光用基盤への装着時に周囲雰囲気を巻き込んで生じるペリクル膜１１の膨らみも抑制できる。これにより、そのペリクル膜１１の膨らみが戻るまでの待ち時間が減り、製造時間を短縮できる。

さらに、図３（Ｂ）〜（Ｄ）に示したように枠体２０の少なくとも１辺が外側に凸に突出した初期形状を有している場合には、枠体２０の辺の内側への変形量を大きく確保でき、その分弾性により元に戻る際の変形量も大きく確保できる。よって、ペリクル膜１１をより強く引っ張ることができ、膜張力をさらに上げることができる。

なお、本実施の形態において、ペリクル膜１１を貼り付ける際に枠体２０の総ての辺２０ａ、２０ｂを内側に変形させていたが、４辺のうちの任意の辺を内側に変形させてもよい。これにより、ペリクル膜１１の長辺方向、若しくは短辺方向の張力を発現させたい方向のみに膜張力を増加させることができ、ペリクル膜１１が長方形の場合などは長辺方向に強い張力を与えるなど、４方向の張力バランスの均等化を図ることができる。

また、本実施の形態では、枠体２０の辺を変形させる外力を、枠体２０にペリクル膜１１を貼り付けた後であって基板３０から枠体２０を離脱させる前に除去していたが、基板３０から枠体２０を離脱させた後でペリクル膜１１をペリクルフレーム１０に貼り付ける前に除去してもよい。また、当該外力の除去を、ペリクル膜１１をペリクルフレーム１０に貼り付けた後に行ってもよい。

上記実施の形態では、ペリクル膜１１を貼り付ける際に枠体２０を変形させていたが、ペリクルフレーム１０を変形させてもよい。図５は、この例で用いられるペリクルフレーム１０の形状を示し、図６は、この例のペリクル１の製造方法の概略を示す説明図である。

図５に示すようにペリクルフレーム１０は、一対の長辺１０ａと一対の短辺１０ｂとからなる４辺を有しており、図５の（Ａ）のように４辺１０ａ、１０ｂが直線状のもの、（Ｂ）のように対となる長辺１０ａが外側に凸に突出したもの、（Ｃ）のように対となる短辺１０ｂが外側に凸に突出したもの、（Ｄ）のように４辺１０ａ、１０ｂが外側に凸に突出した形状のものを用いることができる。ペリクルフレーム１０の材質はアルミニウムやその合金、あるいは鉄や鉄系合金といったペリクルフレームに一般的に用いられるものであればよい。ペリクルフレーム１０の材質は、大型化による自重の増加を考慮すれば、軽量で、かつ、剛性を有するものが好ましく、アルミニウムやその合金が好ましい。

図６の（Ａ）に示すようにペリクルフレーム１０が用意される。ペリクルフレーム１０の上面には、接着剤が塗布されている。次に図６の（Ｂ）に示すようにペリクルフレーム１０の各辺１０ａ、１０ｂの中央付近が、治具などを用いて押さえ込まれ、外側から内側に外力が付与されて、ペリクルフレーム１０の各辺１０ａ、１０ｂが内側に凸に変形される。この状態で、ペリクルフレーム１０の上面に、その開口面Ｆを覆うように枠体２０のペリクル膜１１が貼り付けられる。このペリクル膜１１は、上述の実施の形態のように初めに基板３０上に成膜され、次に枠体２０に貼り付けられ、その後基板３０が取り外されたものである。なお、本実施の形態では、上述の実施の形態のように外力が付与されて枠体２０が変形している必要はない。また、図６では、説明のためにペリクルフレーム１０の内側への変形量を大きく描いているが、実際のペリクルフレーム１０の押し込み量は、フレーム材の弾性変形領域であれば任意の力で押さえ込むことができ、図５の（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）に示したように辺が外側に凸に突出したペリクルフレーム１０の場合には、外側から押さえ込んだ辺が略直線的になるようにしてもよい。

次に図６の（Ｃ）に示すようにペリクルフレーム１０に付与されていた外力が取り除かれると、ペリクルクレーム１０の各辺１０ａ、１０ｂが弾性力により元の形に戻り外側に変位する。これにより、ペリクル膜１１には、外側方向に引っ張り力が働き、膜張力が上がる。その後、ペリクル膜１１の余剰部分が除去される。

また、本実施の形態によれば、膜張力を向上できるので、ペリクルの大型化によって顕著になるペリクル膜の自重による撓みを抑制できる。よって、大型ペリクルであっても、精度の高い露光処理を実現できる。また、露光用基盤への装着時に周囲雰囲気を巻き込んで生じるペリクル膜１１の膨らみも抑制できる。これにより、そのペリクル膜１１の膨らみが戻るまでの待ち時間が減り、製造時間を短縮できる。

また、本実施の形態によれば、ペリクルフレーム１の内側に変形させる辺を選択することにより、ペリクル膜１１の長辺方向、若しくは短辺方向の張力を発現させたい方向のみに膜張力を増加させることもでき、ペリクル膜１１が長方形の場合などは長辺方向に強い張力を与えるなど、４方向の張力バランスの均等化を図ることができる。なお、本実施の形態において、ペリクルフレーム１０の総ての辺１０ａ、１０ｂを内側に変形させていたが、４辺のうちの少なくも１辺を内側に変形させればよい。

さらに、図５の（Ｂ）〜（Ｄ）に示したようにペリクルフレーム１０の少なくとも１辺が外側に凸に突出した初期形状を有している場合には、ペリクルフレーム１０の辺の内側への変形量を大きく確保でき、その分弾性により元に戻る際の変形量も大きく確保できる。よって、ペリクル膜１１をより強く引っ張ることができ、膜張力をさらに上げることができる。

また、図５の（Ｂ）〜（Ｄ）に示したペリクルフレーム１０において、辺の外側に凸に突出した部分を押さえ込むことで、その外側に凸の突出量と押さえ込み量を制御することにより任意の膜張力を発現させることが可能である。そして、押さえ込みはフレームの弾性変形領域であれば任意の力で押さえることが可能であり、ペリクルフレーム１０の外側に凸の突出量と押さえ込み量のバランスが取れ、ペリクルへ成形後に各辺が略直線的になるように調整することが好ましい。

以上の実施の形態において、初期形状の枠体２０とペリクルフレーム１０の辺の外側に凸の突出量は、０ｍｍ〜１０ｍｍが好ましく、より好ましくは０ｍｍ〜７ｍｍ、更に好ましくは０ｍｍ〜６ｍｍである。なお、凸の突出量は、ペリクルフレーム１０又は枠体２０の各辺の角部における外縁の頂点同士をつないだ直線を仮想の基準線とした際の、該辺の外縁上の点で前記基準線から最も離れた点と前記基準線との距離とする。

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明
はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内
において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについて
も当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。

〔実施例１〕
大型ペリクル用の枠体として、材質がアルミニウム合金、厚み８ｍｍであり、長辺と短辺の幅が２０ｍｍ、内寸が１６００ｍｍ×１６００ｍｍのものを用意した。当該枠体は、各辺中央付近を外側に凸にした形状にし、初期形状の外側に凸の突出量を３．３ｍｍとした。別途、大型ペリクル用のペリクルフレームとして、材質がアルミニウム合金、厚さ５．０ｍｍ、長辺幅、短辺幅とも１２ｍｍ、内寸が１３５０ｍｍ×１１４０ｍｍの大型ペリクル用のペリクルフレームを用意した。

大型ペリクルは、次のように製造した。大型ペリクル用の枠体の各辺の突出部を治具を用いて略直線状になるように押さえ込みながら、当該枠体に、基板上に成膜したセルロースエステルのペリクル膜に接着させ、その後基板から剥離させた。基板から剥離後、治具による外力を開放した。大型ペリクル用のペリクルフレームの下縁面にスチレンエチレンブチレンスチレン系のマスク粘着材を塗布した。ペリクルフレームの上縁面には、アクリル系の膜接着剤を塗布し、ペリクルフレームに前記枠体のペリクル膜を接着させ、余剰膜を切除した。

膜張力と膜の撓み量の測定は、次のように行われた。図７に示すようにガラス基板１００にマスク粘着材を介して大型ペリクル１を貼付けた。また、大型ペリクル１の内外の差圧が、表１となるように実験室の気圧や、大型ペリクル１の内側の圧力を調整し、そのペリクル内外の差圧下でのペリクル膜１１の中央の撓み量を測定した。測定は、ペリクル膜１１の中央にレーザー変位計１０１を照射しながら測定した。大型ペリクル１の内圧の調整は、コンプレッサ１０２により行った。
尚、膜張力は、ペリクル膜を接着した製造後のペリクルフレームの寸法と元々のペリクルフレームの寸法の差（Δσ）とペリクルフレームの弾性率（E）、辺の長さ（L）、厚み（ｔ）、幅（ｗ）から計算した値であり、ペリクルフレーム長さL方向１mm当たりに掛かる張力のことである。
膜張力(gf/mm)＝１６×E×Δσ×ｗ³×ｔ／L⁴
測定結果は、表１の通りである。

〔実施例２〕
大型ペリクル用の枠体として、材質がアルミニウム合金、厚み８ｍｍであり、長辺と短辺の幅が２０ｍｍ、内寸が１６００ｍｍ×１６００ｍｍのものを用意した。枠体の各辺は、直線状の初期形状を有する。別途、大型ペリクル用のペリクルフレームとして、材質がアルミニウム合金、厚さ５．０ｍｍ、長辺幅、短辺幅とも１２ｍｍ、内寸が１３５０ｍｍ×１１４０ｍｍ、長辺の２辺の初期形状の外側に凸の突出量が７ｍｍのものを用意した。

大型ペリクルは、次のように製造した。大型ペリクル用の枠体に、基板上に成膜したセルロースエステルのペリクル膜に接着させ、その後基板から剥離させた。大型ペリクル用のペリクルフレームの下縁面には、スチレンエチレンブチレンスチレン系のマスク粘着材を塗布した。ペリクルフレームの上縁面には、アクリル系の膜接着剤を塗布し、ペリクルフレームの長辺の中央を、外側に凸の突出量が６ｍｍになるように治具で押さえ込みながらペリクルフレームにペリクル膜を接着し、その後余剰膜を切除した。

膜張力と膜の歪み量の測定は、実施例１と同様である。この測定結果、表１に示す通りである。

〔実施例３〕
大型ペリクル用のペリクルフレームとして、内寸が９０４ｍｍ×７３４ｍｍ、厚さ５ｍｍ、長辺幅８ｍｍ、短辺幅７ｍｍ、長辺の初期形状の外側に凸の突出量が５．５ｍｍのものを用い、長辺の中央の外側に凸の突出量が４ｍｍになるように治具で押え込んで、膜張力と膜の歪み量の測定を行った。それ以外は、実施例２と同様である。

〔比較例１〕
実施例１で使用した大型ペリクル用の枠体を使用し、大型ペリクル用の枠体の長辺中央を押さえ込まないでペリクル膜を接着した以外は、実施例１と同様に行った。ペリクルフレームのコーナー部付近に湾曲部が残る形状になったため、外観に不具合が生じた。

〔比較例２〕
実施例２で使用した大型ペリクル用の枠体を使用し、大型ペリクル用のペリクルフレームの長辺中央を押さえ込まないでペリクル膜を接着した以外は、実施例２と同様に行った。
ペリクルフレームのコーナー部付近に湾曲部が残る形状になったため、外観に不具合が生じた。

〔比較例３〕
実施例３で使用した大型ペリクル用の枠体を使用し、大型ペリクル用のペリクルフレームの長辺中央を押さえ込まないでペリクル膜を接着した以外は、実施例３と同様に行った。
ペリクルフレームのコーナー部付近に湾曲部が残る形状になったため、外観に不具合が生じた。

１ペリクル
１０ペリクルフレーム
１０ａ長辺
１０ｂ短辺
１１ペリクル膜
２０枠体
２０ａ長辺
２０ｂ短辺
３０基板

Claims

基板上に成膜した高分子材料からなるペリクル膜を、開口部を有する枠体にその開口面を覆うように貼り付ける第一の工程と、
前記基板から前記枠体に貼り付けられたペリクル膜を剥離する第二の工程と、
前記枠体のペリクル膜を、開口部を有するペリクルフレームにその開口面を覆うように貼り付ける第三の工程と、をこの順に含み、
前記第一の工程において前記枠体の少なくとも１辺に枠体の内側に向かう外力を加えて当該枠体の辺を内側に変形させた状態で前記ペリクル膜を前記枠体に貼り付ける、ペリクルの製造方法。
基板上に成膜した高分子材料からなる、１０μｍ以下の厚みのペリクル膜を、開口部を有する枠体にその開口面を覆うように貼り付ける第一の工程と、
前記基板から前記枠体に貼り付けられたペリクル膜を剥離する第二の工程と、
前記枠体のペリクル膜を、開口部を有するペリクルフレームにその開口面を覆うように貼り付ける第三の工程と、
前記枠体を含むペリクル膜の余剰部分を除去する第四の工程と、をこの順に含み、
前記第三の工程において前記ペリクルフレームの少なくとも１辺が外側に凸に突出した初期形状を有し、前記ペリクルフレームの少なくとも１辺にペリクルフレームの内側に向かう外力を加えて当該ペリクルフレームの辺を内側に変形させた状態で前記ペリクル膜を前記ペリクルフレームに貼り付ける、ペリクルの製造方法。
前記枠体及び／又は前記ペリクルフレームの少なくとも１辺が外側に凸に突出した初期形状を有している、請求項１に記載のペリクルの製造方法。
前記ペリクルフレームの開口面の面積が１０００ｃｍ²以上である、請求項１〜３のいずれか一項に記載のペリクルの製造方法。