JP4007750B2 - ペリクル - Google Patents
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- G—PHYSICS
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する利用分野】
本発明は半導体集積回路の構造や液晶基板の製造に於けるフォトリソグラフィ工程で用いられるフォトマスクまたはレチクル（以下単にマスクと言う）に、塵埃などの異物が付着することを防止する目的で、マスクに固着して使用されるペリクルに係り、特に、ペリクル枠の外周部にアライメントマーク露出用凹所が設けられたペリクルと、及びペリクル自体及びペリクルの周辺から塵埃が発生したり、或は塵埃が付着することがないようにしたペリクルに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
ペリクルは、一定幅を有するペリクル枠に透明薄膜からなるペリクル膜を接着剤等を用いて張着されたものであり、ペリクル膜はマスクとは所定の距離（ペリクル枠の高さ）をおいてマスク上に位置させ、マスク上に塵埃などの異物等が付着するのを防止するものである。
【０００３】
すなわち、フォトリソグラフィ工程において、異物等がペリクル上に付着したとしても、それらの像はフォトレジストが塗布された半導体ウェハー上には結像しない。従って、マスクをペリクルで保護することにより、異物等の像による半導体集積回路の短絡や断線等また液晶ディスプレイ（以下、「ＬＣＤ」と称す。）の欠陥を防ぐことができ、フォトリソグラフィ工程での製造歩留まりが向上する。さらに、マスクのクリーニング回数が減少して、その寿命を延ばすなどの効果がペリクルにより奏せられるものである。
【０００４】
半導体用及びＬＣＤ用のペリクルに於ては、共に露光工程におけるスループット向上のために、露光する光の透過率が高いことが要求される。そのために、ペリクル膜の透明薄膜の片面あるいは両面に反射防止層が設けられるようになってきている。反射防止層は単層あるいは２層以上の層で構成されることもある。
【０００５】
最外層に用いる反射防止層の材料としては、テトラフルオロエチレン−ビニリデンフルオライド−ヘキサフルオロプロピレンポリマー（特開昭６１−２０９４４９号公報に記載）、ポリフルオロアクリレート（特開平１−１００５４９号公報に記載）、主鎖に環状構造を有するフッ素ポリマーであるデュ・ポン社製のテフロンＡＦ（商品名）（特開平３−３９９６３号公報に記載）、旭硝子社製のサイトップ（商品名）などが提案されている。
【０００６】
最外層の反射防止層の材料の多くは、フッ素含有ポリマーや、フッ化カルシウムやフッ化マグネシウムなどの無機フッ素系材料が用いられている。透明薄膜層（中心層）材料の多くは、ニトロセルロースやセルロースアセテートプロピオネート、カーボネート化アセチルセルロース等のセルロース誘導体、及びこれらの混合物が用いられている。
【０００７】
ＬＣＤでは、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）の実用化により大画面化、高精細化、大容量化等が達成されつつあるが、ＴＦＴ−ＬＣＤ製造で使用されるペリクルもこれに対応し大型化及び面内の光透過性の均一性が求められ、また半導体製造用のペリクルにおいても均一な高光線透過率をもつペリクル膜が求められているが、更にペリクル自身及びその周辺からミクロンオーダーの塵埃などの異物の発生も許されないペリクルが求められている。
【０００８】
既に説明したように、ペリクルの使用に当っては、例えば図４に示す如く、ペリクル５１のペリクル枠５２をマスク５３の上に戴置し、かつ、露光機の所定位置をマスク上に設けたアライメントマークに合わせて位置決めをし、露光機の露光エリアを確定していた。図中５５はペリクル５１を戴置した場合のマスク５３の露光有効エリアである。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
前述のペリクル５１のペリクル枠５２の内径寸法は、露光有効エリア５５を大きく取るためには大きい方が良いが、このペリクル枠５２の内径寸法を大きくしようとすると、ペリクル枠５２が前記マスク５３に設けられたアライメントマーク５４の上に重なるので、アライメントマーク５４が見えなくなり、ペリクル５１とマスク５３との正確な位置合せが出来なくなる問題があった。
【００１０】
液晶パネルメーカーでは大画面化を考慮すると露光エリア５５が広い方が好ましい。つまりペリクル５１はペリクル枠５２の内径が大きい方が好ましい。また、マスクメーカーではペリクル５１の貼り付け易さを考慮するとアライメントマーク５４とペリクル５１のクリアランスが大きい方が好ましい。つまりペリクル５１の外径が小さい方が好ましい。上記２点を満たすためにはペリクル５１のペリクル枠５２の幅が細くなり、ペリクル膜をペリクル枠５２に展張時、膜の張力によってペリクル枠５２が撓んでしまう問題がある。
【００１１】
本発明に係るペリクルは、前述の従来の多くの問題点に鑑み開発された全く新しい技術であって、特にペリクル枠の外周部所定位置にアライメントマークが見えるような凹所を設けることによって、ペリクル枠の寸法を大きくすることを可能とした技術である。
【００１２】
さらに、本発明に係るペリクルは、前述のようにペリクル枠の外周部所定位置に凹所を設けた場合に、この凹所部分から発塵したり、或は塵埃が凹所のコーナー部等に堆積することを防止可能とした技術も提供するものである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るペリクルは、前述の従来の問題点を根本的に改善した技術であって、その第１発明の要旨は、ペリクル枠の上縁に接着剤を介してペリクル膜を張着してなるペリクルに於て、前記ペリクル枠の外周部所定位置にアライメントマーク露出用凹所を設けて構成することを特徴とするペリクルである。
【００１４】
前述の第１発明のペリクルに於ては、ペリクル枠の外周部所定位置にアライメントマーク露出用凹所を設けて構成したので、ペリクル枠の寸法を大きくした場合にも、ペリクルをマスクに戴置した際に、アライメントマーク露出用凹所内にマスク上に設けられたアライメントマークを露出させることが出来る。
【００１５】
本発明に係るペリクルの第２発明の要旨は、前記アライメントマーク露出用凹所の両側の外周隅部を彎曲面に形成したことを特徴とする第１発明のペリクルである。
【００１６】
前述の第２発明のペリクルに於ては、アライメントマーク露出用凹所の外周隅部を彎曲面に形成したので、ペリクルの輸送、或はペリクルをマスクに貼り付ける際のマスクのハンドリング等による接触や振動や衝撃等によって、アライメントマーク露出用凹所の外周部が他の部材との摩擦で発塵する心配がない。
【００１７】
本発明に係るペリクルの第３発明の要旨は、前記アライメントマーク露出用凹所の両側の外周隅部に設けた彎曲面Ｒの曲率半径の大きさが１ｍｍ以上であることを特徴とする第２発明のペリクルである。
【００１８】
前述の第３発明のペリクルに於ては、アライメントマーク露出用凹所の両側の外周隅部に設けた彎曲面Ｒの曲率半径の大きさを１ｍｍ以上にしたので、曲面の勾配が小さくなめらかであり、この外周隅部が接触した場合にも、この部分から発塵が生ずる恐れがない。
【００１９】
本発明に係るペリクルの第４発明の要旨は、前記アライメントマーク露出用凹所の両側の内周隅部を彎曲面に形成したことを特徴とする第１発明のペリクルである。
【００２０】
前述の第４発明に於ては、前記アライメントマーク露出用凹所の内周隅部を彎曲面に形成したので、この内周隅部に深い凹所を構成することがなく、従ってペリクルの輸送、或はペリクルをマスクに貼り付ける際のマスクのハンドリング等による接触や振動や衝撃等によって、ペリクルから或はその周りから発塵した場合にも、塵埃がこのアライメントマーク露出用凹所の内周隅部に付着することを防止出来る。
【００２１】
本発明に係るペリクルの第５発明の要旨は、前記アライメントマーク露出用凹所の両側の内周隅部に設けた彎曲面Ｒの曲率半径の大きさが１ｍｍ以上であることを特徴とする第４発明のペリクルである。
【００２２】
前述の第５発明のペリクルは、アライメントマーク露出用凹所の両側の内周隅部に設けた彎曲面Ｒの曲率半径の大きさを１ｍｍ以上にしたので、この内周隅部の勾配を小さくすると共になめらかにし、この内周隅部に塵埃が付着することをより確実に防止することが出来る。
【００２３】
【発明の実施の形態】
図により本発明に係るペリクルの一実施例を具体的に説明すると、図１は本発明に係るペリクルの要部を示す横断面説明図、図２は本発明に係る他例のペリクルのペリクル枠の平面図、図３は図２のペリクル枠の要部の拡大説明図である。
【００２４】
図１に於て、第１実施例のペリクルについて説明すると、１は本発明に係るペリクルであって、ペリクル枠２の上縁にペリクル膜（図示せず）を張着することによって構成されている。３はマスクであって、そのほぼ中央の両側には位置合せ用のアライメントマーク４が設けられている。
【００２５】
前記ペリクル１のペリクル枠２は内径を大きくして露光有効エリア５を拡大することが出来るように構成されている。従って、ペリクル１をマスク３の上に戴置した際には、ペリクル枠２の底面がアライメントマーク４の上に重なるように構成されている。
【００２６】
６は横断面がコ字形のアライメントマーク露出用凹所であって、前記ペリクル枠２の左右両外側部のほぼ中央に設けられている。従って、ペリクル枠２をマスク３に戴置した際には、マスク３上に予め記入されたアライメントマーク４がこの凹所６内に位置して露出し、上方から容易に見ることが出来る如く構成されている。
【００２７】
本発明に係るペリクル１は、前述のようにペリクル枠２の外周部所定位置に凹所６を設けたので、ペリクル枠２の寸法を大きくして露光有効エリア５を拡大した場合にも、ペリクル１をマスク３上に戴置した際に、マスク３上に記入されたアライメントマーク４を前記ペリクル枠２の凹所６より露出させて見えるようにし、ペリクル１とマスク３との位置合せを正確にすることが出来る。
【００２８】
次に、図２及び図３に於て、７は本発明の第２実施例のペリクルであって、特にペリクル自体から塵埃が発生したり、或は塵埃がペリクルに付着することがないようにした全く新しい構造を持ったペリクルである。
【００２９】
即ち、ペリクル７は特に図３によって明らかな如く、ペリクル枠２の左右両外側部のほぼ中央部には曲面状のアライメントマーク露出用凹所８が設けられている。この凹所８の深さは約０．５ｍｍ〜１０ｍｍ程度であり、かつこの凹所８の両側の外周隅部８ａとそれに続く内周隅部８ｂとは夫々彎曲面として形成されている。これ等の彎曲面Ｒの曲率半径の大きさは１ｍｍ以上、即ちＲ≧１ｍｍに形成されている。
【００３０】
前述のように、第２実施例のペリクル７に於ては、凹所８の両側の外周隅部８ａを彎曲面として形成したので、ペリクル７を輸送する際等に、ペリクル７が振動、衝撃等によって収納ケースの内面等に接触した場合にも、この凹所８の外周隅部８ａが擦れて発塵することを防止出来る。
【００３１】
特に凹所８の外周隅部８ａの彎曲面Ｒの曲率半径の大きさを１ｍｍ以上にした場合には、勾配が小さく、彎曲面がなだらかであるので、この部分の発塵の防止をより効果的に行うことが出来る。
【００３２】
また、第２実施例のペリクル７のように、凹所８の両側の内周隅部８ｂを彎曲面として形成した場合には、ペリクル７或はペリクル７の周りから発塵した塵埃が、この凹所８の両側の内周隅部８ｂに付着することを防止出来る。特に凹所８の内周隅部８ｂの彎曲面Ｒの曲率半径の大きさを１ｍｍ以上にした場合には、勾配が小さく彎曲面がなだらかであるので、この部分に塵埃が付着することを確実に防止出来る。
【００３３】
【発明の効果】
本発明に係るペリクルは、既にその構成及び作用に於て詳述しましたように、ペリクル枠の外周部所定位置にアライメントマーク露出用凹所を設けて構成したので、ペリクル枠の寸法を大きくしても、マスク上のアライメントマークを該アライメントマーク露出用凹所内に露出してペリクルの位置合せを正確にすることが出来る。そのために露光有効エリアの大きな優れたペリクルを構成することが出来る。
【００３４】
また、前述のようにペリクル枠の外周部に形成されたアライメントマーク露出用凹所の両側の外周隅部を彎曲面とした場合には、ペリクルが収納ケース等と接触した場合にも、この外周隅部が摩擦されて発塵することを防止出来る。特に外周隅部の彎曲面Ｒの曲率半径の大きさを１ｍｍ以上にした場合には、より効果的に発塵を防止出来る。
【００３５】
さらに、前述のようにペリクル枠のアライメントマーク露出用凹所の両側の内周隅部を彎曲面とした場合には、この内周隅部内に塵埃が付着することを防止出来る。特にこの内周隅部の彎曲面Ｒの曲率半径の大きさを１ｍｍ以上とした場合には、より確実に塵埃がこの内周隅部内に付着することを防止出来る。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明に係るペリクルの要部を示す横断面説明図である。
【図２】 本発明に係る他例のペリクルのペリクル枠の平面図である。
【図３】 図２のペリクル枠の要部の拡大説明図である。
【図４】 従来のペリクルのペリクル枠とマスクとの関係を示す平面説明図である。
【符号の説明】
１…第１実施例のペリクル
２…ペリクル枠
３…マスク
４…アライメントマーク
５…露光有効エリア
６…アライメントマーク露出用凹所
７…第２実施例のペリクル
８…アライメントマーク露出用凹所
８ａ…外周隅部
８ｂ…内周隅部
【発明の属する利用分野】
本発明は半導体集積回路の構造や液晶基板の製造に於けるフォトリソグラフィ工程で用いられるフォトマスクまたはレチクル（以下単にマスクと言う）に、塵埃などの異物が付着することを防止する目的で、マスクに固着して使用されるペリクルに係り、特に、ペリクル枠の外周部にアライメントマーク露出用凹所が設けられたペリクルと、及びペリクル自体及びペリクルの周辺から塵埃が発生したり、或は塵埃が付着することがないようにしたペリクルに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
ペリクルは、一定幅を有するペリクル枠に透明薄膜からなるペリクル膜を接着剤等を用いて張着されたものであり、ペリクル膜はマスクとは所定の距離（ペリクル枠の高さ）をおいてマスク上に位置させ、マスク上に塵埃などの異物等が付着するのを防止するものである。
【０００３】
すなわち、フォトリソグラフィ工程において、異物等がペリクル上に付着したとしても、それらの像はフォトレジストが塗布された半導体ウェハー上には結像しない。従って、マスクをペリクルで保護することにより、異物等の像による半導体集積回路の短絡や断線等また液晶ディスプレイ（以下、「ＬＣＤ」と称す。）の欠陥を防ぐことができ、フォトリソグラフィ工程での製造歩留まりが向上する。さらに、マスクのクリーニング回数が減少して、その寿命を延ばすなどの効果がペリクルにより奏せられるものである。
【０００４】
半導体用及びＬＣＤ用のペリクルに於ては、共に露光工程におけるスループット向上のために、露光する光の透過率が高いことが要求される。そのために、ペリクル膜の透明薄膜の片面あるいは両面に反射防止層が設けられるようになってきている。反射防止層は単層あるいは２層以上の層で構成されることもある。
【０００５】
最外層に用いる反射防止層の材料としては、テトラフルオロエチレン−ビニリデンフルオライド−ヘキサフルオロプロピレンポリマー（特開昭６１−２０９４４９号公報に記載）、ポリフルオロアクリレート（特開平１−１００５４９号公報に記載）、主鎖に環状構造を有するフッ素ポリマーであるデュ・ポン社製のテフロンＡＦ（商品名）（特開平３−３９９６３号公報に記載）、旭硝子社製のサイトップ（商品名）などが提案されている。
【０００６】
最外層の反射防止層の材料の多くは、フッ素含有ポリマーや、フッ化カルシウムやフッ化マグネシウムなどの無機フッ素系材料が用いられている。透明薄膜層（中心層）材料の多くは、ニトロセルロースやセルロースアセテートプロピオネート、カーボネート化アセチルセルロース等のセルロース誘導体、及びこれらの混合物が用いられている。
【０００７】
ＬＣＤでは、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）の実用化により大画面化、高精細化、大容量化等が達成されつつあるが、ＴＦＴ−ＬＣＤ製造で使用されるペリクルもこれに対応し大型化及び面内の光透過性の均一性が求められ、また半導体製造用のペリクルにおいても均一な高光線透過率をもつペリクル膜が求められているが、更にペリクル自身及びその周辺からミクロンオーダーの塵埃などの異物の発生も許されないペリクルが求められている。
【０００８】
既に説明したように、ペリクルの使用に当っては、例えば図４に示す如く、ペリクル５１のペリクル枠５２をマスク５３の上に戴置し、かつ、露光機の所定位置をマスク上に設けたアライメントマークに合わせて位置決めをし、露光機の露光エリアを確定していた。図中５５はペリクル５１を戴置した場合のマスク５３の露光有効エリアである。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
前述のペリクル５１のペリクル枠５２の内径寸法は、露光有効エリア５５を大きく取るためには大きい方が良いが、このペリクル枠５２の内径寸法を大きくしようとすると、ペリクル枠５２が前記マスク５３に設けられたアライメントマーク５４の上に重なるので、アライメントマーク５４が見えなくなり、ペリクル５１とマスク５３との正確な位置合せが出来なくなる問題があった。
【００１０】
液晶パネルメーカーでは大画面化を考慮すると露光エリア５５が広い方が好ましい。つまりペリクル５１はペリクル枠５２の内径が大きい方が好ましい。また、マスクメーカーではペリクル５１の貼り付け易さを考慮するとアライメントマーク５４とペリクル５１のクリアランスが大きい方が好ましい。つまりペリクル５１の外径が小さい方が好ましい。上記２点を満たすためにはペリクル５１のペリクル枠５２の幅が細くなり、ペリクル膜をペリクル枠５２に展張時、膜の張力によってペリクル枠５２が撓んでしまう問題がある。
【００１１】
本発明に係るペリクルは、前述の従来の多くの問題点に鑑み開発された全く新しい技術であって、特にペリクル枠の外周部所定位置にアライメントマークが見えるような凹所を設けることによって、ペリクル枠の寸法を大きくすることを可能とした技術である。
【００１２】
さらに、本発明に係るペリクルは、前述のようにペリクル枠の外周部所定位置に凹所を設けた場合に、この凹所部分から発塵したり、或は塵埃が凹所のコーナー部等に堆積することを防止可能とした技術も提供するものである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るペリクルは、前述の従来の問題点を根本的に改善した技術であって、その第１発明の要旨は、ペリクル枠の上縁に接着剤を介してペリクル膜を張着してなるペリクルに於て、前記ペリクル枠の外周部所定位置にアライメントマーク露出用凹所を設けて構成することを特徴とするペリクルである。
【００１４】
前述の第１発明のペリクルに於ては、ペリクル枠の外周部所定位置にアライメントマーク露出用凹所を設けて構成したので、ペリクル枠の寸法を大きくした場合にも、ペリクルをマスクに戴置した際に、アライメントマーク露出用凹所内にマスク上に設けられたアライメントマークを露出させることが出来る。
【００１５】
本発明に係るペリクルの第２発明の要旨は、前記アライメントマーク露出用凹所の両側の外周隅部を彎曲面に形成したことを特徴とする第１発明のペリクルである。
【００１６】
前述の第２発明のペリクルに於ては、アライメントマーク露出用凹所の外周隅部を彎曲面に形成したので、ペリクルの輸送、或はペリクルをマスクに貼り付ける際のマスクのハンドリング等による接触や振動や衝撃等によって、アライメントマーク露出用凹所の外周部が他の部材との摩擦で発塵する心配がない。
【００１７】
本発明に係るペリクルの第３発明の要旨は、前記アライメントマーク露出用凹所の両側の外周隅部に設けた彎曲面Ｒの曲率半径の大きさが１ｍｍ以上であることを特徴とする第２発明のペリクルである。
【００１８】
前述の第３発明のペリクルに於ては、アライメントマーク露出用凹所の両側の外周隅部に設けた彎曲面Ｒの曲率半径の大きさを１ｍｍ以上にしたので、曲面の勾配が小さくなめらかであり、この外周隅部が接触した場合にも、この部分から発塵が生ずる恐れがない。
【００１９】
本発明に係るペリクルの第４発明の要旨は、前記アライメントマーク露出用凹所の両側の内周隅部を彎曲面に形成したことを特徴とする第１発明のペリクルである。
【００２０】
前述の第４発明に於ては、前記アライメントマーク露出用凹所の内周隅部を彎曲面に形成したので、この内周隅部に深い凹所を構成することがなく、従ってペリクルの輸送、或はペリクルをマスクに貼り付ける際のマスクのハンドリング等による接触や振動や衝撃等によって、ペリクルから或はその周りから発塵した場合にも、塵埃がこのアライメントマーク露出用凹所の内周隅部に付着することを防止出来る。
【００２１】
本発明に係るペリクルの第５発明の要旨は、前記アライメントマーク露出用凹所の両側の内周隅部に設けた彎曲面Ｒの曲率半径の大きさが１ｍｍ以上であることを特徴とする第４発明のペリクルである。
【００２２】
前述の第５発明のペリクルは、アライメントマーク露出用凹所の両側の内周隅部に設けた彎曲面Ｒの曲率半径の大きさを１ｍｍ以上にしたので、この内周隅部の勾配を小さくすると共になめらかにし、この内周隅部に塵埃が付着することをより確実に防止することが出来る。
【００２３】
【発明の実施の形態】
図により本発明に係るペリクルの一実施例を具体的に説明すると、図１は本発明に係るペリクルの要部を示す横断面説明図、図２は本発明に係る他例のペリクルのペリクル枠の平面図、図３は図２のペリクル枠の要部の拡大説明図である。
【００２４】
図１に於て、第１実施例のペリクルについて説明すると、１は本発明に係るペリクルであって、ペリクル枠２の上縁にペリクル膜（図示せず）を張着することによって構成されている。３はマスクであって、そのほぼ中央の両側には位置合せ用のアライメントマーク４が設けられている。
【００２５】
前記ペリクル１のペリクル枠２は内径を大きくして露光有効エリア５を拡大することが出来るように構成されている。従って、ペリクル１をマスク３の上に戴置した際には、ペリクル枠２の底面がアライメントマーク４の上に重なるように構成されている。
【００２６】
６は横断面がコ字形のアライメントマーク露出用凹所であって、前記ペリクル枠２の左右両外側部のほぼ中央に設けられている。従って、ペリクル枠２をマスク３に戴置した際には、マスク３上に予め記入されたアライメントマーク４がこの凹所６内に位置して露出し、上方から容易に見ることが出来る如く構成されている。
【００２７】
本発明に係るペリクル１は、前述のようにペリクル枠２の外周部所定位置に凹所６を設けたので、ペリクル枠２の寸法を大きくして露光有効エリア５を拡大した場合にも、ペリクル１をマスク３上に戴置した際に、マスク３上に記入されたアライメントマーク４を前記ペリクル枠２の凹所６より露出させて見えるようにし、ペリクル１とマスク３との位置合せを正確にすることが出来る。
【００２８】
次に、図２及び図３に於て、７は本発明の第２実施例のペリクルであって、特にペリクル自体から塵埃が発生したり、或は塵埃がペリクルに付着することがないようにした全く新しい構造を持ったペリクルである。
【００２９】
即ち、ペリクル７は特に図３によって明らかな如く、ペリクル枠２の左右両外側部のほぼ中央部には曲面状のアライメントマーク露出用凹所８が設けられている。この凹所８の深さは約０．５ｍｍ〜１０ｍｍ程度であり、かつこの凹所８の両側の外周隅部８ａとそれに続く内周隅部８ｂとは夫々彎曲面として形成されている。これ等の彎曲面Ｒの曲率半径の大きさは１ｍｍ以上、即ちＲ≧１ｍｍに形成されている。
【００３０】
前述のように、第２実施例のペリクル７に於ては、凹所８の両側の外周隅部８ａを彎曲面として形成したので、ペリクル７を輸送する際等に、ペリクル７が振動、衝撃等によって収納ケースの内面等に接触した場合にも、この凹所８の外周隅部８ａが擦れて発塵することを防止出来る。
【００３１】
特に凹所８の外周隅部８ａの彎曲面Ｒの曲率半径の大きさを１ｍｍ以上にした場合には、勾配が小さく、彎曲面がなだらかであるので、この部分の発塵の防止をより効果的に行うことが出来る。
【００３２】
また、第２実施例のペリクル７のように、凹所８の両側の内周隅部８ｂを彎曲面として形成した場合には、ペリクル７或はペリクル７の周りから発塵した塵埃が、この凹所８の両側の内周隅部８ｂに付着することを防止出来る。特に凹所８の内周隅部８ｂの彎曲面Ｒの曲率半径の大きさを１ｍｍ以上にした場合には、勾配が小さく彎曲面がなだらかであるので、この部分に塵埃が付着することを確実に防止出来る。
【００３３】
【発明の効果】
本発明に係るペリクルは、既にその構成及び作用に於て詳述しましたように、ペリクル枠の外周部所定位置にアライメントマーク露出用凹所を設けて構成したので、ペリクル枠の寸法を大きくしても、マスク上のアライメントマークを該アライメントマーク露出用凹所内に露出してペリクルの位置合せを正確にすることが出来る。そのために露光有効エリアの大きな優れたペリクルを構成することが出来る。
【００３４】
また、前述のようにペリクル枠の外周部に形成されたアライメントマーク露出用凹所の両側の外周隅部を彎曲面とした場合には、ペリクルが収納ケース等と接触した場合にも、この外周隅部が摩擦されて発塵することを防止出来る。特に外周隅部の彎曲面Ｒの曲率半径の大きさを１ｍｍ以上にした場合には、より効果的に発塵を防止出来る。
【００３５】
さらに、前述のようにペリクル枠のアライメントマーク露出用凹所の両側の内周隅部を彎曲面とした場合には、この内周隅部内に塵埃が付着することを防止出来る。特にこの内周隅部の彎曲面Ｒの曲率半径の大きさを１ｍｍ以上とした場合には、より確実に塵埃がこの内周隅部内に付着することを防止出来る。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明に係るペリクルの要部を示す横断面説明図である。
【図２】 本発明に係る他例のペリクルのペリクル枠の平面図である。
【図３】 図２のペリクル枠の要部の拡大説明図である。
【図４】 従来のペリクルのペリクル枠とマスクとの関係を示す平面説明図である。
【符号の説明】
１…第１実施例のペリクル
２…ペリクル枠
３…マスク
４…アライメントマーク
５…露光有効エリア
６…アライメントマーク露出用凹所
７…第２実施例のペリクル
８…アライメントマーク露出用凹所
８ａ…外周隅部
８ｂ…内周隅部
Claims (5)
- ペリクル枠の上縁に接着剤を介してペリクル膜を張着してなるペリクルに於て、前記ペリクル枠の外周部所定位置にアライメントマーク露出用凹所を設けて構成することを特徴とするペリクル。
- 前記アライメントマーク露出用凹所の両側の外周隅部を彎曲面に形成したことを特徴とする請求項１のペリクル。
- 前記アライメントマーク露出用凹所の両側の外周隅部に設けた彎曲面Ｒの曲率半径の大きさが１ｍｍ以上であることを特徴とする請求項２のペリクル。
- 前記アライメントマーク露出用凹所の両側の内周隅部を彎曲面に形成したことを特徴とする請求項１のペリクル。
- 前記アライメントマーク露出用凹所の両側の内周隅部に設けた彎曲面Ｒの曲率半径の大きさが１ｍｍ以上であることを特徴とする請求項４のペリクル。
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