JP4601204B2 - ペリクル用枠体 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はペリクル膜を展張して貼着支持し得るペリクル用枠体に係り、特に、ＩＣ（集積回路）、ＬＳＩ（大規模集積回路）、ＴＦＴＬＣＤ（薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ）等の半導体装置を製造する際のリソグラフィー工程で使用されるフォトマスクやレティクルに異物が付着することを防止するために用いられるペリクル用枠体であって、ペリクル膜の張力によって該ペリクル用枠体の長辺と短辺が枠体の内側に向かう撓みを抑制してフォトマスクやレティクル等の有効露光領域を確保することが出来るペリクル用枠体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、半導体回路パターンの製造においては、フォトマスクやレティクルの両面側にペリクルと称する防塵手段を配置して該フォトマスクやレティクルへの異物の付着を防止することが行われている。
【０００３】
ペリクルはフォトマスクやレティクルの形状に合わせた形状を有する厚さ数ミリ程度の枠体の一方の縁面に厚さ１０μｍ以下のニトロセルロース或はセルロース誘導体等の透明な高分子膜からなるペリクル膜を展張して接着し、且つ該枠体の他方の縁面に粘着材を介してフォトマスクやレティクルの表面に貼着される。
【０００４】
フォトマスクやレティクルの表面に異物が付着した場合、その異物が半導体ウェハ上に形成されたフォトレジスト上に結像して回路パターン欠陥の原因となるが、フォトマスクやレティクルの両面側にペリクルを配置した場合、ペリクルの表面に付着した異物はフォーカス位置のずれによって半導体ウェハ上に形成されたフォトレジスト上に結像することなく回路パターンに欠陥を生じさせないものである。
【０００５】
従来のペリクル膜を展張して貼着支持する枠体は、直径５インチ（１２７ｍｍ）の半導体ウェハに応じた大きさで方形状に形成されたものが一般である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
近年では各種のマルチメディアの普及により高画質、高精細表示が可能な大型のカラーＴＦＴＬＣＤ(薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ)のフォトリソグラフィ工程で使用される大型のフォトマスクやレティクルに適用出来る大型のペリクルが要望されている。
【０００７】
大型のＴＦＴＬＣＤ(薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ)等のフォトリソグラフィ工程で使用される大型のフォトマスクやレティクルに適用出来るペリクルの枠体としては、長辺と短辺を有する方形状のものが一般であるが、この枠体にペリクル膜を貼り付けると、該ペリクル膜の張力により枠体の辺が内側に向かって撓み易く、この撓みによってフォトマスクやレティクルの有効露光領域が小さくなってしまうという問題があり、ペリクル膜の展張面積が大きくなるにつれてその現象が顕著になる問題があった。
【０００８】
本発明に係るペリクル用枠体は、前述の従来の問題点に鑑み開発された全く新しい技術であって、一対の長辺と一対の短辺とを有するペリクル用枠体の隅部から中心部にかけての断面積を変化させることによって、各辺が枠体の内側に向かって撓むことを防止し、これによってフォトマスクやレティクル等の有効露光領域を確保することが出来るようにした全く新しい構造のペリクル用枠体の技術を提供するものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るペリクル用枠体は、前述の問題点を根本的に改善した技術であって、一対の長辺と一対の短辺とよりなるペリクル用枠体の全周にわたり異形断面に形成することによって、ペリクル膜の張力による該長辺と該短辺の枠体の内側に向かう撓みを抑制してフォトマスクやレティクル等の有効露光領域を確保することが出来るようにした技術である。
【００１０】
本発明に係るペリクル用枠体の第１発明の要旨は、ペリクル膜を展張して貼着支持するペリクル用枠体であって、前記枠体は少なくとも４辺からなり、該辺の内の２辺が交差する隅部から辺の中心部にかけての断面積に於いて、該隅部の断面積が該辺の中心部の断面積より大きく構成されていることを特徴とするペリクル用枠体である。
【００１１】
前述の第１発明に於いては、ペリクル膜を展張して貼着支持し得るペリクル用枠体の２辺が交差する隅部から辺の中心部にかけての断面積に於いて、隅部の断面積が辺の中心部の断面積より大きくなるように構成したので、特に枠体の隅部の強度を著しく大きくすることが出来、これによってペリクル膜を展張して貼着支持した際に、枠体が内側に向かって撓むことを抑制することが出来る。
【００１２】
また、本発明に係るペリクル用枠体に於いては、隅部の断面積を大きくしたので、即ち、隅部の上面の幅を大きくしたので、該枠体にペリクル膜を貼着する作業を容易にすると共に、ペリクル膜と枠体との接着をより確実にし、かつその接着強度を強力にさせ、ペリクル膜をより安定させることが出来る。
【００１３】
本発明に係るペリクル用枠体の第２発明の要旨は、前記隅部から辺中心部にかけての断面積の大きさが連続的に変化して構成されていることを特徴とする第１発明のペリクル用枠体である。
【００１４】
前述の第２発明に於いては、ペリクル用枠体の隅部から辺中心部にかけての断面積を連続的に変化させて構成したので、ペリクル用枠体の形状を美しくすると共に、隅部から辺中心部にかけての強度を徐々にスムーズに変化させることが出来る。
【００１５】
【発明の実施の形態】
図により本発明に係るペリクル用枠体の一実施例を具体的に説明すると、図１は本発明に係るペリクル用枠体の構成を示す斜視図、図２は図１のペリクル用枠体にペリクル膜を貼着した状態の平面図、図３は図１のペリクル用枠体の平面図及び断面説明図である。
【００１６】
図１〜図３において、１はペリクル用枠体であって、厚さ１０μｍ以下のニトロセルロースやセルロース誘導体等の透明な高分子膜で構成されるペリクル膜(以下、単に「ペリクル膜」という)２を展張して貼着支持するアルミニウムやその合金、或は鉄や鉄系合金等により構成されるペリクル用枠体(以下、単に「枠体」という)で構成されている。
【００１７】
該枠体１は、一対の長辺１ａと一対の短辺１ｂとを有しており、長辺１ａ及び短辺１ｂは、互いに異なる所定の断面寸法を夫々有して構成されている。枠体１の長辺１ａ及び短辺１ｂの一方の上面は、該枠体１の全体に亘って平坦面で構成され、ペリクル膜２を貼着するための貼着面１ａｌ、１ｂｌが形成されている。
【００１８】
前記枠体１とは２辺が交差する隅部の断面積と辺中心部の断面積とが異なる異形断面で形成されている。即ち該隅部の断面積が中心部の断面積より大きくなるように構成されている。
【００１９】
前記実施例に於いては、隅部の断面積と辺の中心部の断面積との断面積の変化率を連続的に変化させ、これによって枠体１の全体の形状を美しくし、かつ辺の中心部から隅部に向かっての強度をスムーズに変化させている。しかし、本発明は、断面積の変化率を連続的に変化させることに限定されるものではなく、この断面積の変化率を不連続に変化させて枠体１を構成することも可能である。
【００２０】
本発明に係る前記枠体１に於いては、辺の中心部の断面積よりも隅部の断面積を大きくしたので、この隅部の上面、即ちペリクル膜２の貼着面の幅（面積）を大きくすることが出来、これによってペリクル膜２を枠体１の貼着面１ａｌ、１ｂｌに貼着する際の作業を極めて容易にし、かつペリクル膜２と枠体１との接着強度を高め、ペリクル膜２をより安定した状態で枠体１に取付固定することが出来る。
【００２１】
前述のように枠体１の貼着面１ａｌ、１ｂｌにペリクル膜２を貼着支持した場合には、この枠体１は前述のように全周に亘って異形断面とされ、その枠体１の隅部の断面積が辺の中心部よりも大きくなっているので、強度の大きい隅部で辺の中心部を安定した状態で支持することが出来、これによって前記枠体１の長辺１ａ及び短辺１ｂが内側に向かって撓みが生ずることを抑制することが出来る。
【００２２】
従って、ペリクルが取付けられる図示しないフォトマスクやレティクル等の有効露光領域を確保することが出来る。前述のようにペリクル膜２を展張して貼着支持し得る本発明の枠体１は、特にＩＣ、ＬＳＩ、ＴＦＴＬＣＤ等のフォトリソグラフィー工程で使用されるフォトマスクやレティクルに使用出来るペリクルの枠体として極めて有効に利用することが出来る。
【００２３】
【発明の実施の形態】
図２及び図３に示す如く、枠体１の全周にわたり異形断面に形成された一対の長辺１ａと一対の短辺がペリクル膜２の張力により略直線状に維持される一例として、枠体１の材質としてアルミニウム合金を使用し、長辺１ａ及び短辺１ｂの断面形状が幅７ｍｍ、高さ４．３ｍｍの方形状で、一対の短辺１ｂの長さが３４８ｍｍ、一対の長辺１ａの長さが５８２ｍｍとし、ペリクル膜２の材質としてセルロース系ポリマーを使用し、その膜厚を４μｍとした場合、枠体１の貼着面１ａｌ、１ｂｌにペリクル膜２を貼着した後の該ペリクル膜２の張力により長辺１ａの中央部と短辺１ｂの中央部の最大撓み量は０．５ｍｍ以下であり、極めて良好な結果が得られた。また、ペリクル膜を展張する面積が１０００cm2以上の場合は特に有効であった。
【００２４】
【発明の効果】
本発明に於いては、ペリクル膜を展張して貼着支持し得るペリクル用枠体の２辺が交差する隅部から辺の中心部にかけての断面積に於いて、隅部の断面積が辺の中心部の断面積より大きくなるように構成したので、特に枠体の隅部の強度を著しく大きくすることが出来、これによってペリクル膜を展張して貼着支持した際に、枠体が内側に向かって撓むことを抑制することが出来る等の多大な効果を有している。
【００２５】
また、本発明に係るペリクル用枠体に於いては、隅部の断面積を大きくしたので、即ち、隅部の上面の幅を大きくしたので、該枠体にペリクル膜を貼着する作業を容易にすると共に、ペリクル膜と枠体との接着をより確実にし、かつその接着強度を強力にさせ、ペリクル膜をより安定させることが出来る効果も有している。
【００２６】
さらに、本発明に於いて、ペリクル用枠体の隅部から辺中心部にかけての断面積を連続的に変化させて構成した場合には、ペリクル用枠体の形状を美しくすると共に、隅部から辺中心部にかけての強度を徐々にスムーズに変化させることが出来る効果を有している。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るペリクル用枠体の構成を示す斜視図である。
【図２】図１のペリクル用枠体にペリクル膜を貼着した状態の平面図である。
【図３】図１のペリクル用枠体の平面図及び断面説明図である。
【符号の説明】
１ …ペリクル用枠体
１ａ …長辺
１ａｌ…貼着面
１ｂ …短辺
１ｂｌ…貼着面
２ …ペリクル膜
【発明の属する技術分野】
本発明はペリクル膜を展張して貼着支持し得るペリクル用枠体に係り、特に、ＩＣ（集積回路）、ＬＳＩ（大規模集積回路）、ＴＦＴＬＣＤ（薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ）等の半導体装置を製造する際のリソグラフィー工程で使用されるフォトマスクやレティクルに異物が付着することを防止するために用いられるペリクル用枠体であって、ペリクル膜の張力によって該ペリクル用枠体の長辺と短辺が枠体の内側に向かう撓みを抑制してフォトマスクやレティクル等の有効露光領域を確保することが出来るペリクル用枠体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、半導体回路パターンの製造においては、フォトマスクやレティクルの両面側にペリクルと称する防塵手段を配置して該フォトマスクやレティクルへの異物の付着を防止することが行われている。
【０００３】
ペリクルはフォトマスクやレティクルの形状に合わせた形状を有する厚さ数ミリ程度の枠体の一方の縁面に厚さ１０μｍ以下のニトロセルロース或はセルロース誘導体等の透明な高分子膜からなるペリクル膜を展張して接着し、且つ該枠体の他方の縁面に粘着材を介してフォトマスクやレティクルの表面に貼着される。
【０００４】
フォトマスクやレティクルの表面に異物が付着した場合、その異物が半導体ウェハ上に形成されたフォトレジスト上に結像して回路パターン欠陥の原因となるが、フォトマスクやレティクルの両面側にペリクルを配置した場合、ペリクルの表面に付着した異物はフォーカス位置のずれによって半導体ウェハ上に形成されたフォトレジスト上に結像することなく回路パターンに欠陥を生じさせないものである。
【０００５】
従来のペリクル膜を展張して貼着支持する枠体は、直径５インチ（１２７ｍｍ）の半導体ウェハに応じた大きさで方形状に形成されたものが一般である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
近年では各種のマルチメディアの普及により高画質、高精細表示が可能な大型のカラーＴＦＴＬＣＤ(薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ)のフォトリソグラフィ工程で使用される大型のフォトマスクやレティクルに適用出来る大型のペリクルが要望されている。
【０００７】
大型のＴＦＴＬＣＤ(薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ)等のフォトリソグラフィ工程で使用される大型のフォトマスクやレティクルに適用出来るペリクルの枠体としては、長辺と短辺を有する方形状のものが一般であるが、この枠体にペリクル膜を貼り付けると、該ペリクル膜の張力により枠体の辺が内側に向かって撓み易く、この撓みによってフォトマスクやレティクルの有効露光領域が小さくなってしまうという問題があり、ペリクル膜の展張面積が大きくなるにつれてその現象が顕著になる問題があった。
【０００８】
本発明に係るペリクル用枠体は、前述の従来の問題点に鑑み開発された全く新しい技術であって、一対の長辺と一対の短辺とを有するペリクル用枠体の隅部から中心部にかけての断面積を変化させることによって、各辺が枠体の内側に向かって撓むことを防止し、これによってフォトマスクやレティクル等の有効露光領域を確保することが出来るようにした全く新しい構造のペリクル用枠体の技術を提供するものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るペリクル用枠体は、前述の問題点を根本的に改善した技術であって、一対の長辺と一対の短辺とよりなるペリクル用枠体の全周にわたり異形断面に形成することによって、ペリクル膜の張力による該長辺と該短辺の枠体の内側に向かう撓みを抑制してフォトマスクやレティクル等の有効露光領域を確保することが出来るようにした技術である。
【００１０】
本発明に係るペリクル用枠体の第１発明の要旨は、ペリクル膜を展張して貼着支持するペリクル用枠体であって、前記枠体は少なくとも４辺からなり、該辺の内の２辺が交差する隅部から辺の中心部にかけての断面積に於いて、該隅部の断面積が該辺の中心部の断面積より大きく構成されていることを特徴とするペリクル用枠体である。
【００１１】
前述の第１発明に於いては、ペリクル膜を展張して貼着支持し得るペリクル用枠体の２辺が交差する隅部から辺の中心部にかけての断面積に於いて、隅部の断面積が辺の中心部の断面積より大きくなるように構成したので、特に枠体の隅部の強度を著しく大きくすることが出来、これによってペリクル膜を展張して貼着支持した際に、枠体が内側に向かって撓むことを抑制することが出来る。
【００１２】
また、本発明に係るペリクル用枠体に於いては、隅部の断面積を大きくしたので、即ち、隅部の上面の幅を大きくしたので、該枠体にペリクル膜を貼着する作業を容易にすると共に、ペリクル膜と枠体との接着をより確実にし、かつその接着強度を強力にさせ、ペリクル膜をより安定させることが出来る。
【００１３】
本発明に係るペリクル用枠体の第２発明の要旨は、前記隅部から辺中心部にかけての断面積の大きさが連続的に変化して構成されていることを特徴とする第１発明のペリクル用枠体である。
【００１４】
前述の第２発明に於いては、ペリクル用枠体の隅部から辺中心部にかけての断面積を連続的に変化させて構成したので、ペリクル用枠体の形状を美しくすると共に、隅部から辺中心部にかけての強度を徐々にスムーズに変化させることが出来る。
【００１５】
【発明の実施の形態】
図により本発明に係るペリクル用枠体の一実施例を具体的に説明すると、図１は本発明に係るペリクル用枠体の構成を示す斜視図、図２は図１のペリクル用枠体にペリクル膜を貼着した状態の平面図、図３は図１のペリクル用枠体の平面図及び断面説明図である。
【００１６】
図１〜図３において、１はペリクル用枠体であって、厚さ１０μｍ以下のニトロセルロースやセルロース誘導体等の透明な高分子膜で構成されるペリクル膜(以下、単に「ペリクル膜」という)２を展張して貼着支持するアルミニウムやその合金、或は鉄や鉄系合金等により構成されるペリクル用枠体(以下、単に「枠体」という)で構成されている。
【００１７】
該枠体１は、一対の長辺１ａと一対の短辺１ｂとを有しており、長辺１ａ及び短辺１ｂは、互いに異なる所定の断面寸法を夫々有して構成されている。枠体１の長辺１ａ及び短辺１ｂの一方の上面は、該枠体１の全体に亘って平坦面で構成され、ペリクル膜２を貼着するための貼着面１ａｌ、１ｂｌが形成されている。
【００１８】
前記枠体１とは２辺が交差する隅部の断面積と辺中心部の断面積とが異なる異形断面で形成されている。即ち該隅部の断面積が中心部の断面積より大きくなるように構成されている。
【００１９】
前記実施例に於いては、隅部の断面積と辺の中心部の断面積との断面積の変化率を連続的に変化させ、これによって枠体１の全体の形状を美しくし、かつ辺の中心部から隅部に向かっての強度をスムーズに変化させている。しかし、本発明は、断面積の変化率を連続的に変化させることに限定されるものではなく、この断面積の変化率を不連続に変化させて枠体１を構成することも可能である。
【００２０】
本発明に係る前記枠体１に於いては、辺の中心部の断面積よりも隅部の断面積を大きくしたので、この隅部の上面、即ちペリクル膜２の貼着面の幅（面積）を大きくすることが出来、これによってペリクル膜２を枠体１の貼着面１ａｌ、１ｂｌに貼着する際の作業を極めて容易にし、かつペリクル膜２と枠体１との接着強度を高め、ペリクル膜２をより安定した状態で枠体１に取付固定することが出来る。
【００２１】
前述のように枠体１の貼着面１ａｌ、１ｂｌにペリクル膜２を貼着支持した場合には、この枠体１は前述のように全周に亘って異形断面とされ、その枠体１の隅部の断面積が辺の中心部よりも大きくなっているので、強度の大きい隅部で辺の中心部を安定した状態で支持することが出来、これによって前記枠体１の長辺１ａ及び短辺１ｂが内側に向かって撓みが生ずることを抑制することが出来る。
【００２２】
従って、ペリクルが取付けられる図示しないフォトマスクやレティクル等の有効露光領域を確保することが出来る。前述のようにペリクル膜２を展張して貼着支持し得る本発明の枠体１は、特にＩＣ、ＬＳＩ、ＴＦＴＬＣＤ等のフォトリソグラフィー工程で使用されるフォトマスクやレティクルに使用出来るペリクルの枠体として極めて有効に利用することが出来る。
【００２３】
【発明の実施の形態】
図２及び図３に示す如く、枠体１の全周にわたり異形断面に形成された一対の長辺１ａと一対の短辺がペリクル膜２の張力により略直線状に維持される一例として、枠体１の材質としてアルミニウム合金を使用し、長辺１ａ及び短辺１ｂの断面形状が幅７ｍｍ、高さ４．３ｍｍの方形状で、一対の短辺１ｂの長さが３４８ｍｍ、一対の長辺１ａの長さが５８２ｍｍとし、ペリクル膜２の材質としてセルロース系ポリマーを使用し、その膜厚を４μｍとした場合、枠体１の貼着面１ａｌ、１ｂｌにペリクル膜２を貼着した後の該ペリクル膜２の張力により長辺１ａの中央部と短辺１ｂの中央部の最大撓み量は０．５ｍｍ以下であり、極めて良好な結果が得られた。また、ペリクル膜を展張する面積が１０００cm2以上の場合は特に有効であった。
【００２４】
【発明の効果】
本発明に於いては、ペリクル膜を展張して貼着支持し得るペリクル用枠体の２辺が交差する隅部から辺の中心部にかけての断面積に於いて、隅部の断面積が辺の中心部の断面積より大きくなるように構成したので、特に枠体の隅部の強度を著しく大きくすることが出来、これによってペリクル膜を展張して貼着支持した際に、枠体が内側に向かって撓むことを抑制することが出来る等の多大な効果を有している。
【００２５】
また、本発明に係るペリクル用枠体に於いては、隅部の断面積を大きくしたので、即ち、隅部の上面の幅を大きくしたので、該枠体にペリクル膜を貼着する作業を容易にすると共に、ペリクル膜と枠体との接着をより確実にし、かつその接着強度を強力にさせ、ペリクル膜をより安定させることが出来る効果も有している。
【００２６】
さらに、本発明に於いて、ペリクル用枠体の隅部から辺中心部にかけての断面積を連続的に変化させて構成した場合には、ペリクル用枠体の形状を美しくすると共に、隅部から辺中心部にかけての強度を徐々にスムーズに変化させることが出来る効果を有している。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るペリクル用枠体の構成を示す斜視図である。
【図２】図１のペリクル用枠体にペリクル膜を貼着した状態の平面図である。
【図３】図１のペリクル用枠体の平面図及び断面説明図である。
【符号の説明】
１ …ペリクル用枠体
１ａ …長辺
１ａｌ…貼着面
１ｂ …短辺
１ｂｌ…貼着面
２ …ペリクル膜
Claims (2)
- ペリクル膜を展張して貼着支持するペリクル用枠体であって、前記枠体は少なくとも４辺からなり、該辺の内の２辺が交差する隅部から辺の中心部にかけての断面積に於いて、該隅部の断面積が該辺の中心部の断面積より大きく構成されていることを特徴とするペリクル用枠体。
- 前記隅部から辺中心部にかけての断面積の大きさが連続的に変化して構成されていることを特徴とする請求項１のペリクル用枠体。
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|---|---|---|---|
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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|---|---|
| JP2002333703A JP2002333703A (ja) | 2002-11-22 |
| JP4601204B2 true JP4601204B2 (ja) | 2010-12-22 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2001141111A Expired - Fee Related JP4601204B2 (ja) | 2001-05-11 | 2001-05-11 | ペリクル用枠体 |
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| JP2000066376A (ja) * | 1998-08-19 | 2000-03-03 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル製造用治具およびこれを用いたペリクルの製造方法 |
| JP2001042507A (ja) * | 1999-07-30 | 2001-02-16 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 大型ペリクル用枠体 |
-
2001
- 2001-05-11 JP JP2001141111A patent/JP4601204B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
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| JP2001042507A (ja) * | 1999-07-30 | 2001-02-16 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 大型ペリクル用枠体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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