JP2002333703A - ペリクル用枠体 - Google Patents
ペリクル用枠体Info
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- JP2002333703A JP2002333703A JP2001141111A JP2001141111A JP2002333703A JP 2002333703 A JP2002333703 A JP 2002333703A JP 2001141111 A JP2001141111 A JP 2001141111A JP 2001141111 A JP2001141111 A JP 2001141111A JP 2002333703 A JP2002333703 A JP 2002333703A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ペリクル膜を展張して貼着支持し得るペリク
ル用枠体であって、特に前記ペリクル膜を枠体に展張し
て貼着した際に、該枠体の各辺が内側に撓むことを抑制
することが可能なペリクル用枠体を目的とする。 【解決手段】 ペリクル膜２を展張して貼着支持し得る
一対の長辺１ａと一対の短辺１ｂとより構成される枠体
１であって、その枠体１の各隅部の断面積が中心部の断
面積より連続して徐々に大きくなるように構成された枠
体１の構造である。
ル用枠体であって、特に前記ペリクル膜を枠体に展張し
て貼着した際に、該枠体の各辺が内側に撓むことを抑制
することが可能なペリクル用枠体を目的とする。 【解決手段】 ペリクル膜２を展張して貼着支持し得る
一対の長辺１ａと一対の短辺１ｂとより構成される枠体
１であって、その枠体１の各隅部の断面積が中心部の断
面積より連続して徐々に大きくなるように構成された枠
体１の構造である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はペリクル膜を展張し
て貼着支持し得るペリクル用枠体に係り、特に、ＩＣ
（集積回路）、ＬＳＩ（大規模集積回路）、ＴＦＴＬＣ
Ｄ（薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ）等の半導体装
置を製造する際のリソグラフィー工程で使用されるフォ
トマスクやレティクルに異物が付着することを防止する
ために用いられるペリクル用枠体であって、ペリクル膜
の張力によって該ペリクル用枠体の長辺と短辺が枠体の
内側に向かう撓みを抑制してフォトマスクやレティクル
等の有効露光領域を確保することが出来るペリクル用枠
体に関するものである。
て貼着支持し得るペリクル用枠体に係り、特に、ＩＣ
（集積回路）、ＬＳＩ（大規模集積回路）、ＴＦＴＬＣ
Ｄ（薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ）等の半導体装
置を製造する際のリソグラフィー工程で使用されるフォ
トマスクやレティクルに異物が付着することを防止する
ために用いられるペリクル用枠体であって、ペリクル膜
の張力によって該ペリクル用枠体の長辺と短辺が枠体の
内側に向かう撓みを抑制してフォトマスクやレティクル
等の有効露光領域を確保することが出来るペリクル用枠
体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体回路パターンの製造におい
ては、フォトマスクやレティクルの両面側にペリクルと
称する防塵手段を配置して該フォトマスクやレティクル
への異物の付着を防止することが行われている。
ては、フォトマスクやレティクルの両面側にペリクルと
称する防塵手段を配置して該フォトマスクやレティクル
への異物の付着を防止することが行われている。
【０００３】ペリクルはフォトマスクやレティクルの形
状に合わせた形状を有する厚さ数ミリ程度の枠体の一方
の縁面に厚さ１０μｍ以下のニトロセルロース或はセル
ロース誘導体等の透明な高分子膜からなるペリクル膜を
展張して接着し、且つ該枠体の他方の縁面に粘着材を介
してフォトマスクやレティクルの表面に貼着される。
状に合わせた形状を有する厚さ数ミリ程度の枠体の一方
の縁面に厚さ１０μｍ以下のニトロセルロース或はセル
ロース誘導体等の透明な高分子膜からなるペリクル膜を
展張して接着し、且つ該枠体の他方の縁面に粘着材を介
してフォトマスクやレティクルの表面に貼着される。
【０００４】フォトマスクやレティクルの表面に異物が
付着した場合、その異物が半導体ウェハ上に形成された
フォトレジスト上に結像して回路パターン欠陥の原因と
なるが、フォトマスクやレティクルの両面側にペリクル
を配置した場合、ペリクルの表面に付着した異物はフォ
ーカス位置のずれによって半導体ウェハ上に形成された
フォトレジスト上に結像することなく回路パターンに欠
陥を生じさせないものである。
付着した場合、その異物が半導体ウェハ上に形成された
フォトレジスト上に結像して回路パターン欠陥の原因と
なるが、フォトマスクやレティクルの両面側にペリクル
を配置した場合、ペリクルの表面に付着した異物はフォ
ーカス位置のずれによって半導体ウェハ上に形成された
フォトレジスト上に結像することなく回路パターンに欠
陥を生じさせないものである。
【０００５】従来のペリクル膜を展張して貼着支持する
枠体は、直径５インチ（１２７ｍｍ）の半導体ウェハに
応じた大きさで方形状に形成されたものが一般である。
枠体は、直径５インチ（１２７ｍｍ）の半導体ウェハに
応じた大きさで方形状に形成されたものが一般である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】近年では各種のマルチ
メディアの普及により高画質、高精細表示が可能な大型
のカラーＴＦＴＬＣＤ(薄膜トランジスタ液晶ディスプ
レイ)のフォトリソグラフィ工程で使用される大型のフ
ォトマスクやレティクルに適用出来る大型のペリクルが
要望されている。
メディアの普及により高画質、高精細表示が可能な大型
のカラーＴＦＴＬＣＤ(薄膜トランジスタ液晶ディスプ
レイ)のフォトリソグラフィ工程で使用される大型のフ
ォトマスクやレティクルに適用出来る大型のペリクルが
要望されている。
【０００７】大型のＴＦＴＬＣＤ(薄膜トランジスタ液
晶ディスプレイ)等のフォトリソグラフィ工程で使用さ
れる大型のフォトマスクやレティクルに適用出来るペリ
クルの枠体としては、長辺と短辺を有する方形状のもの
が一般であるが、この枠体にペリクル膜を貼り付ける
と、該ペリクル膜の張力により枠体の辺が内側に向かっ
て撓み易く、この撓みによってフォトマスクやレティク
ルの有効露光領域が小さくなってしまうという問題があ
り、ペリクル膜の展張面積が大きくなるにつれてその現
象が顕著になる問題があった。
晶ディスプレイ)等のフォトリソグラフィ工程で使用さ
れる大型のフォトマスクやレティクルに適用出来るペリ
クルの枠体としては、長辺と短辺を有する方形状のもの
が一般であるが、この枠体にペリクル膜を貼り付ける
と、該ペリクル膜の張力により枠体の辺が内側に向かっ
て撓み易く、この撓みによってフォトマスクやレティク
ルの有効露光領域が小さくなってしまうという問題があ
り、ペリクル膜の展張面積が大きくなるにつれてその現
象が顕著になる問題があった。
【０００８】本発明に係るペリクル用枠体は、前述の従
来の問題点に鑑み開発された全く新しい技術であって、
一対の長辺と一対の短辺とを有するペリクル用枠体の隅
部から中心部にかけての断面積を変化させることによっ
て、各辺が枠体の内側に向かって撓むことを防止し、こ
れによってフォトマスクやレティクル等の有効露光領域
を確保することが出来るようにした全く新しい構造のペ
リクル用枠体の技術を提供するものである。
来の問題点に鑑み開発された全く新しい技術であって、
一対の長辺と一対の短辺とを有するペリクル用枠体の隅
部から中心部にかけての断面積を変化させることによっ
て、各辺が枠体の内側に向かって撓むことを防止し、こ
れによってフォトマスクやレティクル等の有効露光領域
を確保することが出来るようにした全く新しい構造のペ
リクル用枠体の技術を提供するものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明に係るペリクル用
枠体は、前述の問題点を根本的に改善した技術であっ
て、一対の長辺と一対の短辺とよりなるペリクル用枠体
の全周にわたり異形断面に形成することによって、ペリ
クル膜の張力による該長辺と該短辺の枠体の内側に向か
う撓みを抑制してフォトマスクやレティクル等の有効露
光領域を確保することが出来るようにした技術である。
枠体は、前述の問題点を根本的に改善した技術であっ
て、一対の長辺と一対の短辺とよりなるペリクル用枠体
の全周にわたり異形断面に形成することによって、ペリ
クル膜の張力による該長辺と該短辺の枠体の内側に向か
う撓みを抑制してフォトマスクやレティクル等の有効露
光領域を確保することが出来るようにした技術である。
【００１０】本発明に係るペリクル用枠体の第１発明の
要旨は、ペリクル膜を展張して貼着支持するペリクル用
枠体であって、前記枠体は少なくとも４辺からなり、該
辺の内の２辺が交差する隅部から辺の中心部にかけての
断面積に於いて、該隅部の断面積が該辺の中心部の断面
積より大きく構成されていることを特徴とするペリクル
用枠体である。
要旨は、ペリクル膜を展張して貼着支持するペリクル用
枠体であって、前記枠体は少なくとも４辺からなり、該
辺の内の２辺が交差する隅部から辺の中心部にかけての
断面積に於いて、該隅部の断面積が該辺の中心部の断面
積より大きく構成されていることを特徴とするペリクル
用枠体である。
【００１１】前述の第１発明に於いては、ペリクル膜を
展張して貼着支持し得るペリクル用枠体の２辺が交差す
る隅部から辺の中心部にかけての断面積に於いて、隅部
の断面積が辺の中心部の断面積より大きくなるように構
成したので、特に枠体の隅部の強度を著しく大きくする
ことが出来、これによってペリクル膜を展張して貼着支
持した際に、枠体が内側に向かって撓むことを抑制する
ことが出来る。
展張して貼着支持し得るペリクル用枠体の２辺が交差す
る隅部から辺の中心部にかけての断面積に於いて、隅部
の断面積が辺の中心部の断面積より大きくなるように構
成したので、特に枠体の隅部の強度を著しく大きくする
ことが出来、これによってペリクル膜を展張して貼着支
持した際に、枠体が内側に向かって撓むことを抑制する
ことが出来る。
【００１２】また、本発明に係るペリクル用枠体に於い
ては、隅部の断面積を大きくしたので、即ち、隅部の上
面の幅を大きくしたので、該枠体にペリクル膜を貼着す
る作業を容易にすると共に、ペリクル膜と枠体との接着
をより確実にし、かつその接着強度を強力にさせ、ペリ
クル膜をより安定させることが出来る。
ては、隅部の断面積を大きくしたので、即ち、隅部の上
面の幅を大きくしたので、該枠体にペリクル膜を貼着す
る作業を容易にすると共に、ペリクル膜と枠体との接着
をより確実にし、かつその接着強度を強力にさせ、ペリ
クル膜をより安定させることが出来る。
【００１３】本発明に係るペリクル用枠体の第２発明の
要旨は、前記隅部から辺中心部にかけての断面積の大き
さが連続的に変化して構成されていることを特徴とする
第１発明のペリクル用枠体である。
要旨は、前記隅部から辺中心部にかけての断面積の大き
さが連続的に変化して構成されていることを特徴とする
第１発明のペリクル用枠体である。
【００１４】前述の第２発明に於いては、ペリクル用枠
体の隅部から辺中心部にかけての断面積を連続的に変化
させて構成したので、ペリクル用枠体の形状を美しくす
ると共に、隅部から辺中心部にかけての強度を徐々にス
ムーズに変化させることが出来る。
体の隅部から辺中心部にかけての断面積を連続的に変化
させて構成したので、ペリクル用枠体の形状を美しくす
ると共に、隅部から辺中心部にかけての強度を徐々にス
ムーズに変化させることが出来る。
【００１５】
【発明の実施の形態】図により本発明に係るペリクル用
枠体の一実施例を具体的に説明すると、図１は本発明に
係るペリクル用枠体の構成を示す斜視図、図２は図１の
ペリクル用枠体にペリクル膜を貼着した状態の平面図、
図３は図１のペリクル用枠体の平面図及び断面説明図で
ある。
枠体の一実施例を具体的に説明すると、図１は本発明に
係るペリクル用枠体の構成を示す斜視図、図２は図１の
ペリクル用枠体にペリクル膜を貼着した状態の平面図、
図３は図１のペリクル用枠体の平面図及び断面説明図で
ある。
【００１６】図１〜図３において、１はペリクル用枠体
であって、厚さ１０μｍ以下のニトロセルロースやセル
ロース誘導体等の透明な高分子膜で構成されるペリクル
膜(以下、単に「ペリクル膜」という)２を展張して貼着
支持するアルミニウムやその合金、或は鉄や鉄系合金等
により構成されるペリクル用枠体(以下、単に「枠体」
という)で構成されている。
であって、厚さ１０μｍ以下のニトロセルロースやセル
ロース誘導体等の透明な高分子膜で構成されるペリクル
膜(以下、単に「ペリクル膜」という)２を展張して貼着
支持するアルミニウムやその合金、或は鉄や鉄系合金等
により構成されるペリクル用枠体(以下、単に「枠体」
という)で構成されている。
【００１７】該枠体１は、一対の長辺１ａと一対の短辺
１ｂとを有しており、長辺１ａ及び短辺１ｂは、互いに
異なる所定の断面寸法を夫々有して構成されている。枠
体１の長辺１ａ及び短辺１ｂの一方の上面は、該枠体１
の全体に亘って平坦面で構成され、ペリクル膜２を貼着
するための貼着面１ａｌ、１ｂｌが形成されている。
１ｂとを有しており、長辺１ａ及び短辺１ｂは、互いに
異なる所定の断面寸法を夫々有して構成されている。枠
体１の長辺１ａ及び短辺１ｂの一方の上面は、該枠体１
の全体に亘って平坦面で構成され、ペリクル膜２を貼着
するための貼着面１ａｌ、１ｂｌが形成されている。
【００１８】前記枠体１とは２辺が交差する隅部の断面
積と辺中心部の断面積とが異なる異形断面で形成されて
いる。即ち該隅部の断面積が中心部の断面積より大きく
なるように構成されている。
積と辺中心部の断面積とが異なる異形断面で形成されて
いる。即ち該隅部の断面積が中心部の断面積より大きく
なるように構成されている。
【００１９】前記実施例に於いては、隅部の断面積と辺
の中心部の断面積との断面積の変化率を連続的に変化さ
せ、これによって枠体１の全体の形状を美しくし、かつ
辺の中心部から隅部に向かっての強度をスムーズに変化
させている。しかし、本発明は、断面積の変化率を連続
的に変化させることに限定されるものではなく、この断
面積の変化率を不連続に変化させて枠体１を構成するこ
とも可能である。
の中心部の断面積との断面積の変化率を連続的に変化さ
せ、これによって枠体１の全体の形状を美しくし、かつ
辺の中心部から隅部に向かっての強度をスムーズに変化
させている。しかし、本発明は、断面積の変化率を連続
的に変化させることに限定されるものではなく、この断
面積の変化率を不連続に変化させて枠体１を構成するこ
とも可能である。
【００２０】本発明に係る前記枠体１に於いては、辺の
中心部の断面積よりも隅部の断面積を大きくしたので、
この隅部の上面、即ちペリクル膜２の貼着面の幅（面
積）を大きくすることが出来、これによってペリクル膜
２を枠体１の貼着面１ａｌ、１ｂｌに貼着する際の作業
を極めて容易にし、かつペリクル膜２と枠体１との接着
強度を高め、ペリクル膜２をより安定した状態で枠体１
に取付固定することが出来る。
中心部の断面積よりも隅部の断面積を大きくしたので、
この隅部の上面、即ちペリクル膜２の貼着面の幅（面
積）を大きくすることが出来、これによってペリクル膜
２を枠体１の貼着面１ａｌ、１ｂｌに貼着する際の作業
を極めて容易にし、かつペリクル膜２と枠体１との接着
強度を高め、ペリクル膜２をより安定した状態で枠体１
に取付固定することが出来る。
【００２１】前述のように枠体１の貼着面１ａｌ、１ｂ
ｌにペリクル膜２を貼着支持した場合には、この枠体１
は前述のように全周に亘って異形断面とされ、その枠体
１の隅部の断面積が辺の中心部よりも大きくなっている
ので、強度の大きい隅部で辺の中心部を安定した状態で
支持することが出来、これによって前記枠体１の長辺１
ａ及び短辺１ｂが内側に向かって撓みが生ずることを抑
制することが出来る。
ｌにペリクル膜２を貼着支持した場合には、この枠体１
は前述のように全周に亘って異形断面とされ、その枠体
１の隅部の断面積が辺の中心部よりも大きくなっている
ので、強度の大きい隅部で辺の中心部を安定した状態で
支持することが出来、これによって前記枠体１の長辺１
ａ及び短辺１ｂが内側に向かって撓みが生ずることを抑
制することが出来る。
【００２２】従って、ペリクルが取付けられる図示しな
いフォトマスクやレティクル等の有効露光領域を確保す
ることが出来る。前述のようにペリクル膜２を展張して
貼着支持し得る本発明の枠体１は、特にＩＣ、ＬＳＩ、
ＴＦＴＬＣＤ等のフォトリソグラフィー工程で使用され
るフォトマスクやレティクルに使用出来るペリクルの枠
体として極めて有効に利用することが出来る。
いフォトマスクやレティクル等の有効露光領域を確保す
ることが出来る。前述のようにペリクル膜２を展張して
貼着支持し得る本発明の枠体１は、特にＩＣ、ＬＳＩ、
ＴＦＴＬＣＤ等のフォトリソグラフィー工程で使用され
るフォトマスクやレティクルに使用出来るペリクルの枠
体として極めて有効に利用することが出来る。
【００２３】
【発明の実施の形態】図２及び図３に示す如く、枠体１
の全周にわたり異形断面に形成された一対の長辺１ａと
一対の短辺がペリクル膜２の張力により略直線状に維持
される一例として、枠体１の材質としてアルミニウム合
金を使用し、長辺１ａ及び短辺１ｂの断面形状が幅７ｍ
ｍ、高さ４．３ｍｍの方形状で、一対の短辺１ｂの長さ
が３４８ｍｍ、一対の長辺１ａの長さが５８２ｍｍと
し、ペリクル膜２の材質としてセルロース系ポリマーを
使用し、その膜厚を４μｍとした場合、枠体１の貼着面
１ａｌ、１ｂｌにペリクル膜２を貼着した後の該ペリク
ル膜２の張力により長辺１ａの中央部と短辺１ｂの中央
部の最大撓み量は０．５ｍｍ以下であり、極めて良好な
結果が得られた。また、ペリクル膜を展張する面積が１
０００cm2以上の場合は特に有効であった。
の全周にわたり異形断面に形成された一対の長辺１ａと
一対の短辺がペリクル膜２の張力により略直線状に維持
される一例として、枠体１の材質としてアルミニウム合
金を使用し、長辺１ａ及び短辺１ｂの断面形状が幅７ｍ
ｍ、高さ４．３ｍｍの方形状で、一対の短辺１ｂの長さ
が３４８ｍｍ、一対の長辺１ａの長さが５８２ｍｍと
し、ペリクル膜２の材質としてセルロース系ポリマーを
使用し、その膜厚を４μｍとした場合、枠体１の貼着面
１ａｌ、１ｂｌにペリクル膜２を貼着した後の該ペリク
ル膜２の張力により長辺１ａの中央部と短辺１ｂの中央
部の最大撓み量は０．５ｍｍ以下であり、極めて良好な
結果が得られた。また、ペリクル膜を展張する面積が１
０００cm2以上の場合は特に有効であった。
【００２４】
【発明の効果】本発明に於いては、ペリクル膜を展張し
て貼着支持し得るペリクル用枠体の２辺が交差する隅部
から辺の中心部にかけての断面積に於いて、隅部の断面
積が辺の中心部の断面積より大きくなるように構成した
ので、特に枠体の隅部の強度を著しく大きくすることが
出来、これによってペリクル膜を展張して貼着支持した
際に、枠体が内側に向かって撓むことを抑制することが
出来る等の多大な効果を有している。
て貼着支持し得るペリクル用枠体の２辺が交差する隅部
から辺の中心部にかけての断面積に於いて、隅部の断面
積が辺の中心部の断面積より大きくなるように構成した
ので、特に枠体の隅部の強度を著しく大きくすることが
出来、これによってペリクル膜を展張して貼着支持した
際に、枠体が内側に向かって撓むことを抑制することが
出来る等の多大な効果を有している。
【００２５】また、本発明に係るペリクル用枠体に於い
ては、隅部の断面積を大きくしたので、即ち、隅部の上
面の幅を大きくしたので、該枠体にペリクル膜を貼着す
る作業を容易にすると共に、ペリクル膜と枠体との接着
をより確実にし、かつその接着強度を強力にさせ、ペリ
クル膜をより安定させることが出来る効果も有してい
る。
ては、隅部の断面積を大きくしたので、即ち、隅部の上
面の幅を大きくしたので、該枠体にペリクル膜を貼着す
る作業を容易にすると共に、ペリクル膜と枠体との接着
をより確実にし、かつその接着強度を強力にさせ、ペリ
クル膜をより安定させることが出来る効果も有してい
る。
【００２６】さらに、本発明に於いて、ペリクル用枠体
の隅部から辺中心部にかけての断面積を連続的に変化さ
せて構成した場合には、ペリクル用枠体の形状を美しく
すると共に、隅部から辺中心部にかけての強度を徐々に
スムーズに変化させることが出来る効果を有している。
の隅部から辺中心部にかけての断面積を連続的に変化さ
せて構成した場合には、ペリクル用枠体の形状を美しく
すると共に、隅部から辺中心部にかけての強度を徐々に
スムーズに変化させることが出来る効果を有している。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るペリクル用枠体の構成を示す斜視
図である。
図である。
【図２】図１のペリクル用枠体にペリクル膜を貼着した
状態の平面図である。
状態の平面図である。
【図３】図１のペリクル用枠体の平面図及び断面説明図
である。
である。
【符号の説明】 １ …ペリクル用枠体 １ａ …長辺 １ａｌ…貼着面 １ｂ …短辺 １ｂｌ…貼着面 ２ …ペリクル膜
Claims (2)
- 【請求項１】 ペリクル膜を展張して貼着支持するペリ
クル用枠体であって、前記枠体は少なくとも４辺からな
り、該辺の内の２辺が交差する隅部から辺の中心部にか
けての断面積に於いて、該隅部の断面積が該辺の中心部
の断面積より大きく構成されていることを特徴とするペ
リクル用枠体。 - 【請求項２】 前記隅部から辺中心部にかけての断面積
の大きさが連続的に変化して構成されていることを特徴
とする請求項１のペリクル用枠体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001141111A JP4601204B2 (ja) | 2001-05-11 | 2001-05-11 | ペリクル用枠体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001141111A JP4601204B2 (ja) | 2001-05-11 | 2001-05-11 | ペリクル用枠体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002333703A true JP2002333703A (ja) | 2002-11-22 |
| JP4601204B2 JP4601204B2 (ja) | 2010-12-22 |
Family
ID=18987614
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001141111A Expired - Fee Related JP4601204B2 (ja) | 2001-05-11 | 2001-05-11 | ペリクル用枠体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4601204B2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| JP2005148620A (ja) * | 2003-11-19 | 2005-06-09 | Asahi Glass Co Ltd | ペリクルおよびペリクル製品群 |
| CN100378577C (zh) * | 2003-09-29 | 2008-04-02 | 旭化成电子材料元件株式会社 | 薄片和薄片用框 |
| US7362417B2 (en) * | 2004-08-18 | 2008-04-22 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Pellicle frame and pellicle for photolithography using the same |
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| JP2001042507A (ja) * | 1999-07-30 | 2001-02-16 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 大型ペリクル用枠体 |
-
2001
- 2001-05-11 JP JP2001141111A patent/JP4601204B2/ja not_active Expired - Fee Related
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