JP5028645B2 - カラーフィルタ用フォトスペーサ製造用のフォトマスク - Google Patents
カラーフィルタ用フォトスペーサ製造用のフォトマスク Download PDFInfo
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Description
プロキシミティ露光のギャップ(G):150μm±50μm
露光量 :100mJ/cm2〜200mJ/cm2
露光波長 :365nm
樹脂組成物:ネガ型感光性樹脂組成物
このようなメインフォトスペーサ12を形成するためには、図4(a)に示す、メインスペーサ製造用フォトマスクパターンの開口幅W1を8〜20μmとすることが望ましい。これは、図4に示すような八角形の開口パターンの場合、その幅W1が8μmよりも小さいと露光の透過強度が小さすぎ、感光性樹脂組成物の飽和感度にまで達することができないため、パターニングすることが困難だからである。
図1及び図5に示すようなメインフォトスペーサ12,51とサブフォトスペーサ13,52を有するカラーフィルタを製造する方法について、図3を参照して説明する。
一方、メインフォトスペーサより高さの低いサブフォトスペーサに対応する開口42の横幅W2を3.0μm、縦幅W3を20μmとした。これは、パターン(開口郎)の幅を狭くして集光部を2つに分散することで透過強度を減らし、高さの低いフォトスペーサを形成するためである。
露光量 :100mJ/cm2〜200mJ/cm2
露光波長 :365nm
以上の条件で露光されたフォトレジスト層30は、次いでアルカリ水溶液で現像され、図5に示すように、ブラックマトリクス上の透明導電膜面に、メインフォトスペーサ51及びサブフォトスペーサ52が形成された。
メインフォトスペーサに対応する開口41の幅W1が15μm、サブフォトスペーサに対応する開口42の横幅W2が8.0μm、縦幅W3が10.0μm、すなわち、横幅W2:縦幅W3=1:1.25であるフォトマスクを用いて、実施例1と同様にしてフォトスペーサを形成した。形成されたメインフォトスペーサ51の高さaは4.603μm、サブフォトスペーサ52の高さbは4.12μmとなり、メインフォトスペーサ51とサブフォトスペーサ52の高さの差は0.48μmとなった。
メインフォトスペーサに対応する開口41の幅W1が10μm、サブフォトスペーサに対応する開口42の横幅W2が5.0μm、縦幅W3を15.0μm、すなわち、横幅W2:縦幅W3=1:3であるフォトマスクを用いて、実施例1と同様にしてフォトスペーサを形成した。形成されたメインフォトスペーサ51の高さaは4.654μm、サブフォトスペーサ52の高さbは4.496μmとなり、メインフォトスペーサ51とサブフォトスペーサ52の高さの差は0.16μmとなった。
メインフォトスペーサに対応する開口41の幅W1が10μm、サブフォトスペーサに対応する開口42の横幅W2が2.5μm、縦幅W3を20.0μm、すなわち、横幅W2:縦幅W3=1:8であるフォトマスクを用いて、実施例1と同様にしてフォトスペーサを形成した。形成されたメインフォトスペーサ51の高さaは4.654μm、サブフォトスペーサ52の高さbは3.727μmとなり、メインフォトスペーサ51とサブフォトスペーサ52の高さの差は0.93μmとなった。
メインフォトスペーサに対応する開口41の幅W1が10μm、サブフォトスペーサに対応する開口42の横幅W2が1.0μm、縦幅W3が20.0μm、すなわち、横幅W2:縦幅W3=1:8であるフォトマスクを用いて、実施例1と同様にしてフォトスペーサを形成しようとした。その結果、メインフォトスペーサは形成することができたが、サブフォトスペーサは形成できなかった。
メインフォトスペーサに対応する開口41の幅W1が10μm、サブフォトスペーサに対応する開口42の横幅W2が8.7μm、縦幅W3が10.0μm、すなわち、横幅W2:縦幅W3=1:1.15であるフォトマスクを用いて、実施例1と同様にしてフォトスペーサを形成した。
Claims (4)
- 第1のフォトスペーサ形成用の第1の開口パターンと、この第1のフォトスペーサよりも膜厚の小さい第2のフォトスペーサ形成用の第2の開口パターンとを有するフォトマスクにおいて、前記第2の開口パターンは、横幅が2.0μm〜10.0μmの範囲内で、横幅:縦幅の比が1:1.25以上である形状を有することを特徴とするカラーフィルタ用フォトスペーサ製造用のフォトマスク。
- 前記第1の開口パターンは円形であり、その径は、前記第2の開口パターンの横幅の長さより大きいことを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ用フォトスペーサ製造用のフォトマスク。
- 前記第2の開口パターンは、横幅が3.0μm〜5.0μmであることを特徴とする請求項1又は2に記載のカラーフィルタ用フォトスペーサ製造用のフォトマスク。
- 前記第1の開口パターンは、開口幅が8〜20μmであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のカラーフィルタ用フォトスペーサ製造用のフォトマスク。
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