JP2001042507A - 大型ペリクル用枠体 - Google Patents

大型ペリクル用枠体

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    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、大型ペリクル膜を展張して貼着支
持する一対の長辺と一対の短辺とを有する大型ペリクル
用枠体であって、一対の長辺を枠体の外側に向かって突
出するように形成したことで、該長辺の枠体の内側に向
かう撓みを抑制してフォトマスクやレティクル等の露光
領域を確保することが出来る大型ペリクル用枠体を提供
することを可能にすることを目的としている。 【解決手段】 大型ペリクル膜２を展張する面積が１０
００cm2以上で且つ枠体１の一対の長辺１ａが該枠体１
の外側に向かって突出するように形成されたことを特徴
とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＩＣ（集積回
路）、ＬＳＩ（大規模集積回路）、ＴＦＴＬＣＤ（薄膜
トランジスタ液晶ディスプレイ）等の半導体装置を製造
する際のリソグラフィー工程で使用されるフォトマスク
やレティクルに異物が付着することを防止するために用
いられるペリクル用枠体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体回路パターン等の製造にお
いては、フォトマスクやレティクルの両面側にペリクル
と称する防塵手段を配置して該フォトマスクやレティク
ルへの異物の付着を防止することが行われている。
【０００３】ペリクルはフォトマスクやレティクルの形
状に合わせた形状を有する厚さ数ミリ程度の枠体の一方
の縁面に厚さ１０μｍ以下のニトロセルロース或いはセ
ルロース誘導体等の透明な高分子膜からなるペリクル膜
を展張して接着し、且つ該枠体の他方の縁面に粘着材を
介してフォトマスクやレティクルの表面に貼着される。
【０００４】フォトマスクやレティクルの表面に異物が
付着した場合、その異物が半導体ウェハ上に形成された
フォトレジスト上に結像して回路パターン欠陥の原因と
なるが、フォトマスクやレティクルの両面側にペリクル
を配置した場合、ペリクルの表面に付着した異物はフォ
ーカス位置のずれによって半導体ウェハ上に形成された
フォトレジスト上に結像することなく回路パターンに欠
陥を生じさせないものである。
【０００５】従来のペリクル膜を展張して貼着支持する
枠体は、直径５インチ（１２７mm)の半導体ウェハに応
じた大きさで方形状に形成されたものが一般である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】近年では各種のマルチ
メディアの普及により高画質、高精細表示が可能な大型
のカラーＴＦＴＬＣＤ（薄膜トランジスタ液晶ディスプ
レイ）のフォトリソグラフィ工程で使用される大型のフ
ォトマスクやレティクルに適用出来る大型ペリクルが要
望されている。
【０００７】大型のＴＦＴＬＣＤ（薄膜トランジスタ液
晶ディスプレイ）等のフォトリソグラフィ工程で使用さ
れる大型のフォトマスクやレティクルに適用出来る大型
ペリクルの枠体としては、長辺と短辺を有する方形状の
ものが一般であるが、この枠体にペリクル膜を貼り付け
ると、該ペリクル膜の張力により特に長辺が枠体の内側
に向かって撓み易く、この撓みによってフォトマスクや
レティクルの有効露光領域が小さくなってしまうという
問題があり、大型ペリクル膜の展張面積が大きくなるに
つれてその現象が顕著になる。
【０００８】本発明は前記課題を解決するものであり、
その目的とするところは、大型ペリクル膜を展張して貼
着支持する一対の長辺と一対の短辺とを有する大型ペリ
クル用枠体であって、一対の長辺を枠体の外側に向かっ
て突出するように形成したことで、該長辺の枠体の内側
に向かう撓みを抑制してフォトマスクやレティクル等の
有効露光領域を確保することが出来る大型ペリクル用枠
体を提供せんとするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
の本発明に係る大型ペリクル用枠体は、大型ペリクル膜
を展張して貼着支持する一対の長辺と一対の短辺とを有
する大型ペリクル用枠体であって、前記大型ペリクル膜
を展張する面積が１０００cm2以上で構成され、且つ前
記大型ペリクル膜が貼着される前記枠体の一対の長辺を
該枠体の外側に向かって突出するように形成したことを
特徴とする。
【００１０】本発明は、上述の如く構成したので、大型
ペリクル膜を展張する面積が１０００cm2以上であるこ
とから大型のＴＦＴＬＣＤ（薄膜トランジスタ液晶ディ
スプレイ）のフォトリソグラフィ工程で使用される大型
のフォトマスクやレティクルに適用出来る大型ペリクル
として利用することが出来る。
【００１１】また、枠体の一対の長辺を該枠体の外側に
向かって突出するように形成したことで、大型ペリクル
膜の張力による該長辺の枠体の内側に向かう撓みを抑制
してフォトマスクやレティクル等の有効露光領域を確保
することが出来る。
【００１２】また、前記枠体の一対の長辺が該枠体に貼
着された大型ペリクル膜の張力により略直線状に遷移す
るように設定された場合には、大型ペリクル膜の張力が
かかった状態で枠体の一対の長辺の突出がなくなるため
フォトマスクやレティクルのサイズを大きくせずに有効
露光面積を大きくすることが出来る。
【００１３】
【発明の実施の形態】図により本発明に係る大型ペリク
ル用枠体の一実施形態を具体的に説明する。図１は本発
明に係る大型ペリクル用枠体の構成を示す斜視図、図２
は本発明に係る大型ペリクル用枠体の構成を示す平面
図、図３は枠体に大型ペリクル膜が貼着されて長辺が略
直線状に遷移した様子を示す図である。
【００１４】図１〜図３において、１は厚さ１０μｍ以
下のニトロセルロースやセルロース誘導体等の透明な高
分子膜で構成される大型ペリクル膜（以下、単に「ペリ
クル膜」という）２を展張して貼着支持するアルミニウ
ムやその合金、或いは鉄や鉄系合金等により構成される
大型ペリクル用枠体（以下、単に「枠体」という）であ
る。
【００１５】枠体１は一対の長辺１ａと一対の短辺１ｂ
とを有しており、長辺１ａ及び短辺１ｂは所定の幅寸法
と、互いに等しい所定の高さ寸法と、互いに異なる所定
の長さ寸法とを夫々有して構成されている。枠体１の長
辺１ａ及び短辺１ｂの一方の面には該枠体１の全体に亘
って平坦面で構成され、ペリクル膜２を貼着するための
貼着面1a1，1b1が形成されている。
【００１６】枠体１のペリクル膜２を展張する面積は１
０００cm2以上で構成され、該枠体１の一対の長辺１ａ
は枠体１の外側に向かって突出するように形成されてい
る。本実施形態では、枠体１の一対の長辺１ａは所定の
曲率を有して外側に向かって湾曲突出したものである
が、楕円形状や放物線形状、或いは他の各種形状で突出
させても良い。
【００１７】このように大型ペリクル膜２を展張する面
積が１０００cm2以上であることから大型のＴＦＴＬＣ
Ｄ（薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ）のフォトリソ
グラフィ工程で使用される大型のフォトマスクやレティ
クルに適用出来る大型ペリクルとして利用することが出
来る。
【００１８】図３に示すように、枠体１の長辺１ａ及び
短辺１ｂの貼着面1a1，1b1には接着剤が塗布されてペリ
クル膜２が展張して貼着される。枠体１の貼着面1a1，1
b1に貼着されたペリクル膜２の張力は、特に長辺１ａが
枠体１の内側に向かって撓みが発生するように作用する
が、枠体１の一対の長辺１ａを該枠体１の外側に向かっ
て突出するように形成したことで、該長辺１ａの枠体１
の内側に向かう撓みを抑制して上記大型ペリクルが取り
付けられる図示しないフォトマスクやレティクル等の有
効露光領域を確保することが出来る。
【００１９】また、図３に示すように、枠体１の外側に
向かって突出するように形成された一対の長辺１ａが該
枠体１の貼着面1a1，1b1に貼着されたペリクル膜２の張
力により略直線状に遷移するように設定された場合に
は、ペリクル膜２の張力がかかった状態で枠体１の一対
の長辺１ａの突出がなくなるためフォトマスクやレティ
クルのサイズを大きくせずに有効露光面積を大きくする
ことが出来る。
【００２０】枠体１の外側に向かって突出するように形
成された一対の長辺１ａがペリクル膜２の張力により略
直線状に遷移する一例として、枠体１の材質としてアル
ミニウム合金を使用し、長辺１ａ及び短辺１ｂの断面形
状が幅７mm、高さ４．３mmの方形状で、一対の短辺１ｂ
の長さが３４８mm、一対の長辺１ａの長さが５８２mm、
該長辺１ａの中央部の突出量を１mmとし、ペリクル膜２
の材質としてセルロース系ポリマーを使用し、その膜厚
を４μｍとした場合、枠体１の貼着面1a1，1b1にペリク
ル膜２を貼着した後の該ペリクル膜２の張力により略直
線状に遷移した長辺１ａの中央部の最大突出量が０．１
〜０．２mmであった。
【００２１】
【発明の効果】本発明は、上述の如き構成と作用とを有
するので、大型ペリクル膜を展張する面積が１０００cm
2以上であることから大型のＴＦＴＬＣＤ（薄膜トラン
ジスタ液晶ディスプレイ）のフォトリソグラフィ工程で
使用される大型のフォトマスクやレティクルに適用出来
る大型ペリクルとして利用することが出来る。
【００２２】また、枠体の一対の長辺を該枠体の外側に
向かって突出するように形成したことで、大型ペリクル
膜の張力による該長辺の枠体の内側に向かう撓みを抑制
してフォトマスクやレティクル等の有効露光領域を確保
することが出来る。
【００２３】また、前記枠体の一対の長辺が該枠体に貼
着された大型ペリクル膜の張力により略直線状に遷移す
るように設定された場合には、大型ペリクル膜の張力が
かかった状態で枠体の一対の長辺の突出がなくなるため
フォトマスクやレティクルのサイズを大きくせずに有効
露光面積を大きく出来る。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る大型ペリクル用枠体の構成を示す
斜視図である。
【図２】本発明に係る大型ペリクル用枠体の構成を示す
平面図である。
【図３】枠体に大型ペリクル膜が貼着されて長辺が略直
線状に遷移した様子を示す図である。
【符号の説明】
１…枠体 １ａ…長辺 １ｂ…短辺 1a1，1b1…貼着面 ２…ペリクル膜

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 大型ペリクル膜を展張して貼着支持する
    一対の長辺と一対の短辺とを有する大型ペリクル用枠体
    であって、 前記大型ペリクル膜を展張する面積が１０００cm2以上
    で構成され、且つ前記大型ペリクル膜が貼着される前記
    枠体の一対の長辺を該枠体の外側に向かって突出するよ
    うに形成したことを特徴とする大型ペリクル用枠体。
  2. 【請求項２】 前記枠体の一対の長辺は、該枠体に貼着
    された大型ペリクル膜の張力により略直線状に遷移する
    ことを特徴とする請求項１に記載の大型ペリクル用枠
    体。
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