CN111580339A - 表膜构件和表膜构件框体以及表膜构件的制造方法 - Google Patents
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Abstract
具备利用一对长边部(10a)和一对短边部(10b)形成为大致矩形的框状的表膜构件框体(10)和铺展支承在该表膜构件框体(10)上的表膜(11)，上述边部的长边宽度/长边长度的比例为0.3％以上2.2％以下，上述边部的短边宽度/短边长度的比例为0.3％以上3.8％以下，长边部(10a)和短边部(10b)中的至少一边部向表膜构件框体(10)的外侧鼓出。而且，在该鼓出的边部朝向表膜构件框体(10)的内侧发生了弹性变形的状态下，表膜(11)粘贴在表膜构件框体(10)上。
Description
本申请是申请日为2013年3月21日，申请号为201380015496.3，发明名称为“表膜构件和表膜构件框体以及表膜构件的制造方法”的申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及表膜构件和表膜构件框体以及表膜构件的制造方法，上述表膜构件用于防止在制造构成LSI、液晶显示器(LCD)的薄膜晶体管(TFT)、滤色片(CF)等时的光刻工序中所使用的光掩膜、中间掩膜(reticle)等曝光用基盘上附着异物。
背景技术
例如，在制造半导体装置、液晶显示器等的电路图案时的光刻工序中，出于防止在光掩模、中间掩模等曝光用基盘上附着异物的目的，在曝光用基盘上安装通常被称作表膜构件的防尘罩。
该表膜构件通常是这样形成的：在形状与曝光用基盘的形状相匹配的、厚度为几毫米左右的表膜构件框体的上边缘面上铺展并粘接厚度为10μm以下的由硝酸纤维素或者纤维素衍生物(cellulose derivative)或者氟系聚合物等透明的高分子材料构成的膜(以下称作“表膜”)，且在该表膜构件框体的下边缘面上涂敷粘合材料，并且以规定的粘接力在该粘合材料表面粘接保护薄膜。
上述粘合材料用于将表膜构件粘着在曝光用基盘上，另外，保护薄膜用于保护粘合材料的粘接面，以在粘合材料被使用之前维持粘合材料的粘接力。
然而，在具有安装有表膜构件的曝光用基盘的曝光装置中，为了进行高尺寸精度的曝光处理，需要抑制光所通过的表膜因自重而产生挠曲。特别是，近年来，为了实现液晶面板的大型化、提高液晶面板的生产率而使曝光用基盘的尺寸大型化，与此同时，表膜的面积也以5000cm2、10000cm2、15000cm2逐年增大，因此，挠曲量相应地变大，表膜的挠曲逐渐成为较大的问题。
作为能够应用于在大型的TFTLCD(薄膜晶体管液晶显示器)等的光刻工序中所使用的大型的光掩模、中间掩模的表膜构件的框体，通常是具有长边和短边的矩形形状的构件。若在该框体上粘贴表膜，则框体的边因该表膜的张力而朝向内侧变形，该变形有时使光掩模、中间掩模的有效曝光区域减小，随着表膜的铺展面积变大(表膜变大)，上述的有效曝光区域减小的现象越加明显。针对这样的现象，在极力维持住表膜构件的框体的内侧面积(以下称作有效面积)的状态下提高表膜构件框体的刚性，能够防止上述现象发生(例如参照专利文献1～4)。
此外，近年来，对于液晶进行了这样的研究：对一张较大的面板进行多单元化，从而能够自一张较大的面板获得多个面积较小的画面的图案(pattern)，如个人计算机、移动电话等的画面的图案。因此，迫切期望使有效曝光面积比以往大。但是，由于装置自身使用以往的结构，因此，产生以下这样的新课题，即不变更表膜构件的外尺寸地使有效曝光面积比以往大。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2001－109135号公报
专利文献2：日本特开2001－42507号公报
专利文献3：日本特开2002－296763号公报
专利文献4：日本特开2006－56544号公报
发明内容
发明要解决的问题
表膜构件当如上所述那样粘贴表膜时，则框体的边因该表膜的张力而朝向内侧变形，但通过采用在上述文献等中所记载的技术，表膜构件框体的变形量小于由表膜的张力引起的变形量，从而能够保持平衡。
但是，若为了应对新课题而使表膜构件框体宽度变小并进行以往那样的制作，则表膜构件框体的变形量大于由表膜的张力引起的变形量。因此，在切割表膜时，表膜构件框体不仅只朝向内侧变形，表膜构件框体还上下变形，表膜构件框体的角部也发生变形。此外，由于表膜构件框体的刚性较小，与表膜的张力进行平衡的力变小，因此，无法维持表膜的张力，会导致膜起皱，而且，由于膜张力减小，因此会产生以下这样的新问题，即在处理时膜会鼓起而难以进行处理。
特别是，在表膜构件面积大于3000cm2、6000cm2、甚至是8000cm2这样的，最大为30000cm2以内的大型表膜构件中，尤其成为问题。
本发明的目的在于，提供使用以往并未预想在市场上使用的窄幅的表膜构件框体而不影响曝光的表膜构件、表膜构件框体以及表膜构件的制造方法。
用于解决问题的方案
本申请发明人等经深入研究结果发现：对窄幅的至少一对边部向表膜构件框体的外侧鼓出的大致矩形的表膜构件框体向框体内侧施加应力而使其处于挠曲状态，在此基础上，通过粘贴铺展表膜，出乎意料的是，膜张力和框体应力在框体成为矩形的状态下保持平衡。而且还发现：迄今为止是通过将框体切成向框体外部突出的鼓形状(日文：太鼓状)并在该框体上铺展表膜，使框体以大致矩形的形状保持平衡，但在使用窄幅的大致矩形的表膜构件框体的情况下，为了在表膜铺展之后使框体形成为大致矩形形状，预先对表膜构件框体向框体内部施加应力而使其处于挠曲状态的做法尤为重要。
本发明基于这样的见解解决上述课题。
即，本发明的表膜构件框体利用四个边部形成为大致矩形的框状，而铺展支承表膜，其中，边部的长边宽度/长边长度的比例为0.3％以上2.2％以下，边部的短边宽度/短边长度的比例为0.3％以上3.8％以下，至少一对边部向表膜构件框体的外侧鼓出。
采用本发明的表膜构件框体，通过缩窄为边部的长边宽度/长边长度的比例为0.3％以上2.2％以下，短边宽度/短边长度的比例为0.3％以上3.8％以下，从而能够不变更表膜构件的外尺寸地使有效曝光面积比以往大。而且，即使这样缩窄边部的宽度，由于至少一对边部向表膜构件框体的外侧鼓出，因此，在该鼓出的边部朝向表膜构件框体的内侧发生了弹性变形的状态下，在表膜构件框体上粘贴表膜，也能够使表膜构件框体的恢复力和表膜的张力保持平衡。其结果，能够抑制表膜起皱。
此外，在本发明的表膜构件框体中，能够将边部的长边长度设为400mm以上、2000mm以下，将边部的短边长度设为200mm以上、1800mm以下，但特别是在表膜构件面积为20000cm2以上30000cm2以下且长边的长度为1500mm以上的情况下，从防止表膜起皱和确保曝光面积的方面考虑，边部的长边宽度优选为8mm以上15mm以下，更优选为9mm以上14.5mm以下，进一步优选为10mm以上14mm以下，边部的短边宽度优选为7mm以上15mm以下，更优选为8mm以上14.5mm以下，进一步优选为9mm以上14mm以下。此外，在表膜构件面积为12000cm2以上20000cm2以下且长边的长度为1200mm以上1500mm以下的情况下，边部的长边宽度优选为5mm以上11mm以下，更优选为6mm以上11mm以下，进一步优选为7mm以上10.5mm以下，边部的短边宽度为4mm以上11mm以下，优选为5mm以上10.5mm以下，进一步优选为6mm以上10mm以下。此外，在表膜构件面积为5000cm2以上12000cm2以下且长边的长度为700mm以上1400mm以下的情况下，边部的长边宽度优选为4mm以上10mm以下，更优选为5mm以上9.5mm以下，进一步优选为5.5mm以上9mm以下，边部的短边宽度优选为3mm以上10mm以下，更优选为4mm以上9mm以下，进一步优选为5mm以上8mm以下。
此外，本发明的表膜构件框体优选的是，边部的一对长边部向表膜构件框体的外侧鼓出，该一对长边部的鼓出量为3mm以上、20mm以下。由此，在该鼓出的边部朝向表膜构件框体的内侧发生了弹性变形的状态下，在表膜构件框体上粘贴表膜时，容易使表膜构件框体的恢复力和表膜的张力保持平衡，因此，能够更有效地抑制表膜起皱。
此外，本发明的表膜构件框体能够由杨氏模量为1GPa以上80GPa以下的材料形成。这样，通过由杨氏模量为1GPa以上80GPa以下的材料形成表膜构件框体，在将利用通常的材料制成的表膜粘贴于表膜构件框体时，能够在表膜构件框体成为大致矩形形状的状态下，适当地使表膜构件框体的恢复力和表膜的膜张力保持平衡。
本发明的表膜构件具有上述表膜构件框体和铺展支承在表膜构件框体上的表膜，其中，在至少是鼓出的边部朝向表膜构件框体的内侧发生了弹性变形的状态下，表膜粘贴在表膜构件框体上。
采用本发明的表膜构件，能够不变更表膜构件的外尺寸地使有效曝光面积比以往大，而且，能够使表膜构件框体的恢复力和表膜的张力保持平衡，因此，能够抑制表膜起皱。
此外，本发明的表膜构件能够设为鼓出的边部利用该边部的恢复力和表膜的膜张力之间的平衡形成为大致直线状。这样，通过利用边部的恢复力和表膜的膜张力之间的平衡将边部形成为大致直线状，能够确保有效曝光面积并且适当地使表膜构件框体的恢复力和表膜的膜张力保持平衡。
此外，本发明的表膜构件优选的是，对表膜赋予膜张力，膜张力的大小满足以下的条件A、条件B以及条件C中的所有条件。
条件A：在将表膜构件配置为表膜为大致水平的状态下，在表膜上的第1基准点上载置有10.6g的重物的情况下，该第1基准点的下沉量为0.4mm以上、2.4mm以下，该第1基准点在俯视时自表膜构件框体的边部的长边部内边缘的中央点向与该长边部的内边缘正交的方向离开30mm。
条件B：在将表膜构件配置为表膜为大致水平的状态下，在表膜上的第2基准点上载置有10.6g的重物的情况下，该第2基准点的下沉量为0.3mm以上、2.3mm以下，该第2基准点在俯视时自表膜构件框体的边部的短边部内边缘的中央点向与该短边部正交的方向离开30mm。
条件C：第1基准点的上述下沉量和第2基准点的上述下沉量之差的绝对值为0.4mm以下。
这样，通过对表膜赋予满足条件A、条件B以及条件C这样的大小的膜张力，能够确保有效曝光面积较大并且更有效地抑制表膜起皱。
若第1基准点处的上述下沉量和第2基准点处的上述下沉量处于以上述条件A～条件C规定的范围内，则能够有效地抑制表膜松弛，因此，能够有效地抑制表膜在长边部和短边部附近起皱，因此较为理想，而且，能够抑制对表膜赋予的膜张力过大所导致薄膜因微小的振动等而发生破损，因此较为理想。
由于表膜构件框体的角部的刚性相对较大，因此，可以想象表膜的膜张力沿着引自角部的对角线上相对地变大。因而，可以认为即使在使用窄幅的表膜构件框体的情况下，也能够较大地维持对角线上的表膜的膜张力。但是，与此相对比，在框体的中央部附近，框体屈服于表膜的膜张力而使其边易于发生挠曲，因此，框体的中央部分附近的表膜的膜张力变小，从而在将表膜粘贴于表膜构件框体的情况下表膜易于起皱、或者在表膜构件的处理时表膜易于起皱。因此，本发明人等发现：若第1基准点处的上述下沉量和第2基准点处的上述下沉量处于以上述条件A～条件C规定的范围内，则表膜在作为表膜构件框体的长边侧中央部分附近的第1基准点处的膜张力变大，表膜在作为表膜构件框体的短边侧中央部分附近的第2基准点处的膜张力变大，并且能够使表膜在第1基准点和第2基准点处的膜张力保持平衡，因此，能够制作表膜整体的张力平衡变佳，且可以使用窄幅的表膜构件框体的表膜构件。
本发明的表膜构件的制造方法包括以下的工序：(a)将形成在基板之上的由高分子材料构成的表膜以覆盖开口部的方式粘贴在具有该开口部的框体上；(b)将粘贴在框体上的表膜自基板剥离；(c)准备表膜构件框体，该表膜构件框体利用四个边部形成为大致矩形的框状，至少一对边部向表膜构件框体的外侧鼓出，边部的长边宽度/长边长度的比例为0.3％以上2.2％以下，边部的短边宽度/短边长度的比例为0.3％以上3.8％以下；(d)通过对表膜构件框体的上述至少一对上述边部施加外力，使该至少一对边部弹性变形，以使得该至少一对边部成为大致直线状；(e)在工序(d)之后，在上述至少一对边部弹性变形成大致直线状的状态下的表膜构件框体上，以覆盖该表膜构件框体的开口部的方式粘贴已被粘贴在框体上的表膜；(f)在工序(e)之后，通过取消对上述至少一对边部施加的上述外力，利用表膜构件框体铺展支承表膜；以及(g)在工序(e)之后，去除表膜的剩余部分和框体。另外，工序(d)中的大致直线状是指自鼓出P向图9中的外侧稍稍靠近L直线的状态，具体地讲，优选的是，自P向L直线靠近0.5mm以上。另一方面，经过了工序(e)之后的表膜构件为大致矩形形状，但该形状是指不妨碍向曝光装置安装的程度的矩形形状。
采用本发明的表膜构件的制造方法，在工序(c)中，准备边部的长边宽度/长边长度的比例为0.3％以上2.2％以下，边部的短边宽度/短边长度的比例为0.3％以上3.8％以下的表膜构件框体，因此，能够得到有效曝光面积比以往大的表膜构件。在此基础之上，在工序(d)中，使上述至少一对边部弹性变形，以使得上述至少一对边部成为大致直线状，在工序(e)中，在该状态的表膜构件框体上粘贴表膜，因此，能够使表膜构件框体的恢复力和表膜的张力保持平衡。其结果，能够抑制表膜起皱。
发明的效果
本发明能够提供这样的表膜构件和该表膜构件的制造方法：即便使用以往并未预想在市场上使用的窄幅的表膜构件框体，曝光也没有问题，能够扩大有效曝光面积，且膜不会起皱，即使较细也能够确保足够的膜张力，而且在处理上也没有问题。
附图说明
图1是表膜构件的立体图。
图2是表膜构件的纵剖视图。
图3是框体的形状的说明图。
图4是表示表膜构件的制造工艺的说明图。
图5是表膜构件框体的形状的说明图。
图6是表示表膜构件的另一制造工艺的说明图。
图7是用于说明长边侧的膜下沉量和短边侧的膜下沉量的测量方法的示意性的立体图。
图8是用于说明长边侧的膜下沉量和短边侧的膜下沉量的测量方法的示意性的剖视图。
图9是表示鼓出量的定义的说明图。
图10是表示实施例和比较例的评价结果的图。
具体实施方式
说明本发明的实施方式。另外，以下说明的实施方式是本发明的结构的例子，本发明并不限定于以下的实施方式。此外，在本说明书和附图中，对实质上具有相同的功能结构的结构要素标注相同的附图标记而省略重复说明。
图1和图2中表示表膜构件1。表膜构件1包括：表膜构件框体10，其为例如矩形的框状，具有开口部F；表膜11，其以覆盖表膜构件框体10的开口部F的方式粘贴在该表膜构件框体10的上表面，而铺展支承在表膜构件框体10上；粘合剂12，其涂敷在表膜构件框体10的下表面；以及保护薄膜13，其覆盖该粘合剂12的表面。
表膜11由硝酸纤维素、纤维素衍生物、环烯系树脂、氟系高分子等透明的高分子膜构成，膜厚优选为1μm以上10μm以下，更优选为2μm以上8μm以下，进一步优选为2.5μm以上7μm以下。此外，表膜构件框体10的开口部F的开口面积例如为1000cm2以上，本实施方式的表膜构件1是所谓的大型表膜构件。在表膜构件框体10的开口部F的开口面积为1000cm2以上的情况下，在表膜构件制造工序内的处理时，若膜张力较小，则有可能由表膜构件框体的自重导致膜起皱、或者膜脱离处理治具，但通过采用本实施方式，能够抑制在处理时突然发生的膜起皱、膜脱离处理治具这样的可能性。特别是，能够在表膜构件面积大于3000cm2、甚至是6000cm2这样的大型表膜构件的情况下发挥作用。
然而，若制作在较细的表膜构件框体10上铺展有表膜11的表膜构件1，则表膜构件框体10的刚性屈服于表膜11的膜张力而导致表膜构件框体10较大程度地变形。因此，先使表膜构件框体10带有应力，在带有该应力的表膜构件框体10上粘贴表膜11，使表膜11的膜张力和表膜构件框体10的应力保持平衡是尤为重要的。如后所述那样，在将表膜11粘贴于表膜构件框体10之前将表膜11粘贴于框体，但为了进一步提高表膜11的膜张力，也可以预先提高在该框体上的膜张力。通过这样做，能够制作既具有膜张力又能够确保有效曝光面积的表膜构件。
首先，说明提高在框体上的膜张力的方法。表膜构件1的制造是使用图3所示的框体20进行的。框体20形成为大致矩形的框状，其具有由相对的一对长边部20a和相对的一对短边部20b构成的4边部。该框体20可以使用例如像图3(A)那样4边部为直线状的构件、像图3(B)那样形成为成对的长边部20a以向框体20的外侧凸出的方式弯曲鼓出而成的鼓形状的构件、像图3(C)那样形成为成对的短边部20b以向框体20的外侧凸出的方式弯曲鼓出而成的鼓形状的构件、像图3(D)那样形成为全部边部，即一对长边部20a和一对短边部20b以向框体20的外侧凸出的方式弯曲鼓出而成的鼓形状的构件。作为向外侧凸出的形状，既可以从1个角部到相邻的角部地形成为鼓形状，也可以仅是长边部20a和一对短边部20b的中央附近平缓地成为凸形状。
图4是表示表膜构件1的制造方法的一个例子的概要的说明图。如图4(A)所示，首先准备具有开口部G的框体20。其次，如图4(B)所示，使用治具等将框体20的一对长边部20a和一对短边部20b的中央附近向内侧按压。由此，从外侧向内侧施加外力，框体20的一对长边部20a和一对短边部20b朝向内侧弹性变形。
此外，准备利用CVD、溅镀等成膜技术形成有表膜11的基板30。然后，在一对长边部20a和一对短边部20b向内侧弹性变形的状态下的框体20上以覆盖其开口部G的方式粘贴形成在基板30上的表膜11。此时利用涂敷在框体20上的粘接材料将表膜11和框体20粘接在一起。之后，取消使框体20的一对长边部20a和一对短边部20b弹性变形的外力。另外，在图4(B)中，为了进行说明而将框体20向内侧的变形量描画得较大，但就实际上的框体20的按压量而言，只要是在框体材料的弹性变形区域，就能够以任意的力按压。此外，如图3(B)、图3(C)、图3(D)所示那样，在边部以向外侧凸出的方式弯曲鼓出的框体20的情况下，也可以通过从外侧按压而使边部弹性变形成大致直线状。
作为框体20的材料，例如能够列举出铝、铝合金(5000系、6000系、7000系等)等金属、陶瓷(SiC、AlN、Al2O3等)、陶瓷和金属的复合材料(Al－SiC、Al－AlN、Al－Al2O3等)、树脂等，其中优选能够列举出铝和铝合金，更具体地讲，优选为铝和镁的合金、铝和镁以及硅的合金、铝和锌以及镁的合金等，能够引起弹性变形的材料。
接着，如图4(C)所示，将粘贴有框体20的表膜11自基板30剥离。此时，通过取消维持着框体20的弹性变形的力，框体20的一对长边部20a和一对短边部20b在弹性恢复力(膨张力)的作用下欲恢复为原本形状而向外侧位移。由此，对表膜11作用朝向4边的外侧方向的拉伸力，膜张力上升。
接着，如图4(D)所示，准备表膜构件框体10。在表膜构件框体10的上表面涂敷有粘接剂。接着，如图4(E)所示，在表膜构件框体10的上表面以覆盖其开口部F的方式粘贴粘贴有框体20的表膜11。由此，表膜11在维持着膜张力的状态下粘贴在表膜构件框体10上。之后，去除连着框体20在内的表膜11的剩余部分。
采用本实施方式，由于不赋予温度变化就能够提高由高分子材料构成的表膜11的膜张力，因此，能够防止表膜11的物理性质发生变化，能够适当地进行利用该表膜构件1的曝光处理。此外，表膜构件框体10、粘合剂12、表膜11等的材料不必使用经得住温度变化的材料，材料的选择自由度扩大。此外，不需要赋予温度变化、不需要进行随着温度变化的空气调节的昂贵设备，其控制工艺变容易。而且，由于不暴露在高温或者低温中，因此，不会由热量引起粘合剂12等的劣化，能够确保表膜构件1的平坦性、尺寸精度，能够进行高精度的曝光处理。
此外，在本实施方式中记载的表膜构件1是表膜构件框体10的开口部F的开口面积为1000cm2以上的大型表膜构件，但由于能够提高膜张力，因此，能够抑制由大型化导致表膜11因自重而产生的挠曲变得明显。因而，即使是大型表膜构件，也能够实现高精度的曝光处理。此外，也能够抑制在安装于曝光用基盘时卷入周围气氛气体而导致表膜11鼓起。由此，直到该表膜11的鼓起消失为止的等待时间减少，能够缩短制造时间。
而且，如图3(B)～图3(D)所示，在框体20中的至少1边部具有以向外侧凸出的方式弯曲鼓出而成的初始形状的情况下，能够较大地确保框体20的边部向内侧的变形量，也能够相应地较大地确保借助弹性恢复力(膨张力)复原时的变形量。因而，能够更强有力地拉伸表膜11，能够进一步提高膜张力。
另外，在本实施方式中，在粘贴表膜11时，既可以使框体20的一对长边部20a和一对短边部20b全部向内侧弹性变形，也可以使4边部中的任意的边部向内侧弹性变形。由此，能够仅在表膜11的长边方向或者短边方向的需要表现张力的方向上增加膜张力，在表膜11为长方形的情况等时，能够在长边方向上赋予较大的张力等而谋求4方向上的张力平衡的均等化。特别是，在表膜构件框体10的刚性较高的情况下，优选为预先使框体20的任意的边部向内侧弹性变形。在此，高刚性的范围是杨氏模量为90～450的范围。具体地讲，是精制陶瓷(例如氧化铝、碳化硅等)、铁、SUS、钛等。
此外，在本实施方式中，在框体20上粘贴表膜11之后且是在使表膜11自基板30脱离之前去除使框体20的一对长边部20a和一对短边部20b变形的外力，但也可以在使表膜11自基板30脱离之后且是在将表膜11粘贴于表膜构件框体10之前去除。此外，也可以在将表膜11粘贴于表膜构件框体10之后去除该外力。
在上述实施方式中，在粘贴表膜11时使框体20弹性变形，但也可以使表膜构件框体10弹性变形。
图5表示在该例子中使用的表膜构件框体10的形状。如图5所示，表膜构件框体10形成为大致矩形的框状，其具有由相对的一对长边部10a和相对的一对短边部10b构成的4边部。该表膜构件框体10可以使用例如像图5(B)那样形成为成对的长边部10a以向表膜构件框体10的外侧凸出的方式弯曲鼓出而成的鼓形状的构件、像图5(C)那样形成为成对的短边部10b以向表膜构件框体10的外侧凸出的方式弯曲鼓出而成的鼓形状的构件、像图5(D)那样形成为全部边部，即一对长边部10a和一对短边部10b以向表膜构件框体10的外侧凸出的方式弯曲鼓出而成的鼓形状的构件。
表膜构件框体10的材料只要是杨氏模量为1GPa以上80GPa以下，就可以是任意的材料。若使该杨氏模量小于1GPa，则存在膜的张力过大，无法利用框体的恢复力这样的问题。另一方面，若使该杨氏模量大于80GPa，则刚性较高，因此，存在难以进行弹性变形，而且不能期待较高的恢复力这样的问题。因此，通过将该杨氏模量设为1GPa以上80GPa以下，具有能够利用与膜张力平衡的适度的恢复力这样的优点。只要是例如铝、铝合金、或者陶瓷、树脂等这样的，表膜构件框体通常所采用的材料即可。若考虑到由大型化引起的自重增加，则表膜构件框体10的材料优选为轻量且具有刚性的材料，优选为铝、铝合金。
表膜构件框体10的厚度(长边部10a和短边部10b的厚度)为2.5mm以上10mm以下，优选为3.0mm以上8mm以下，更优选为4.0mm以上7.0mm以下。其原因在于，若该厚度处于该范围，则即使在异物附着于表膜11的情况下，不仅该异物和曝光用基盘的图案不会被描画为实质上相同的图像，而且也不会实质上降低表膜11的透射率。此外，对于表膜构件框体10的宽度而言(长边部10a和短边部10b的宽度)，长边宽度/长边长度的比例为0.3％以上2.2％以下，优选为0.5％以上2.2％以下，更优选为0.55％以上2.1％以下，进一步优选为0.6％以上2.0％以下，该比例的其他优选的例子为0.4％以上2.1％以下，更优选为0.5％以上2.0％以下，进一步优选为0.9％以下，更进一步优选为0.8％以下。此外，短边宽度/短边长度的比例为0.3％以上3.8％以下，优选为0.5％以上3.8％以下，更优选为0.55％以上3.5％以下，进一步优选为0.6％以上3.0％以下，该比例的其他优选的例子为0.3％以上2.2％以下，更优选为0.4％以上2.1％以下，进一步优选为0.5％以上2.0％以下，更进一步优选为1.0％以下，再进一步优选为0.9％以下。
另外，长边长度的意思是指表膜构件框体10的长边部10a的外尺寸，短边长度的意思是指表膜构件框体10的短边部10b的外尺寸。
表膜构件框体10的长边长度例如为400mm以上、2000mm以下，优选为700mm以上、1800mm以下，更优选为900mm以上、1600mm以下，特别优选为1200mm以上、1400mm以下，表膜构件框体10的短边长度例如为200mm以上、1800mm以下，优选为500mm以上、1600mm以下，更优选为700mm以上、1200mm以下。
表膜构件框体10的长边宽度(长边部10a的宽度)例如能够设为5mm以上、15mm以下，表膜构件框体10的短边宽度(短边部10b的宽度)例如能够设为4mm以上、15mm以下。
图6是表示该例子的表膜构件1的制造方法的概要的说明图。如图6(A)所示，首先准备表膜构件框体10。在表膜构件框体10的上表面涂敷有粘接剂。其次，如图6(B)所示，使用治具等按压表膜构件框体10的一对长边部10a和一对短边部10b的中央附近。由此，从外侧向内侧施加外力，表膜构件框体10的一对长边部10a和一对短边部10b朝向内侧弹性变形。在该状态下，在表膜构件框体10的上表面上以覆盖其开口部F的方式粘贴已被粘贴在框体20上的表膜11。像上述实施方式那样，该表膜11起初形成在基板30上，接着粘贴在框体20上，之后基板30被拆下。另外，在本实施方式中，不必像上述实施方式那样施加外力而使框体20弹性变形。此外，在图6中，为了进行说明，将表膜构件框体10向内侧的变形量描画得较大，但就实际上的表膜构件框体10的按压量而言，只要是在框体材料的弹性变形区域，就能够以任意的力按压。此外，如图5(B)、图5(C)、图5(D)所示，在边部以向外侧凸出的方式弯曲鼓出而成的表膜构件框体10的情况下，也可以通过从外侧按压而使边部弹性变形成大致直线状。
接着，如图6(C)所示，取消对表膜构件框体10施加的外力。于是，表膜构件框体10的一对长边部10a和一对短边部10b借助弹性恢复力(膨张力)欲恢复为原本形状而向外侧位移。由此，对表膜11作用朝向4边的外侧方向的拉伸力，膜张力上升。之后，去除表膜11的剩余部分。
这样，通过对表膜构件框体10施加与对表膜11赋予的张力的方向相反方向的力，表膜11的张力上升。另外，当缩细表膜构件框体10时，则其变形量较大，因此，膜也欲较大程度地变形，但实际上膜无法无限地变形，因此，如上所述那样，利用表膜构件框体10的恢复力(膨张力)使表膜11的张力上升。
在使用窄幅的表膜构件框体制作表膜构件的情况下，若表膜的膜张力较小，则在制作、处理表膜构件时等情况下表膜有可能起皱。若将这样的状态下的表膜构件粘贴在掩模上而使用，则表膜构件挠曲而与异物检查装置等接触、或者在处理带表膜构件的掩模时表膜与外壳接触的可能性升高、或者产生曝光时的曝光光的光路折射而无法正常地曝光的可能性，因此并不理想。
因此，需要将使用窄幅的表膜构件框体10构成表膜构件1的情况下的表膜11的膜张力保持为一定程度的大小。然而，由于表膜构件框体10的角部的刚性相对较强，因此，可以想象表膜11的膜张力沿着引自角部的对角线上相对地变大。因而，可以认为即使在使用窄幅的表膜构件框体10的情况下，表膜11的对角线上的膜张力也维持得比较大。但是，与此相对比，就框体20的中央部附近而言，框体20屈服于表膜11的膜张力而其边易于挠曲，因此，由于框体20的中央部分附近的表膜11的膜张力变小，在将表膜11粘贴于表膜构件框体10的情况下，表膜11易于起皱、或者在表膜构件1的处理时表膜11易于起皱。因此，本发明人等发现：若像下述那样第1基准点处的下沉量和第2基准点处的下沉量处于以下述的条件A～条件C规定的范围内，则表膜11在作为表膜构件框体10的长边侧中央部分附近的第1基准点处的膜张力变大，表膜11在作为表膜构件框体10的短边侧中央部分附近的第2基准点处的膜张力变大，并且能够使表膜11在第1基准点和第2基准点处的膜张力保持平衡，因此，能够制作表膜11整体的张力平衡变佳，且可以使用窄幅的表膜构件框体10的表膜构件1。
即，优选的是，对表膜11赋予膜张力，膜张力满足以下的条件A、条件B以及条件C中的所有条件。
条件A：在将表膜构件1配置为表膜11为大致水平的状态下，在表膜11上的第1基准点上载置有10.6g的重物的情况下，该第1基准点的下沉量(以下有时称作“长边侧的膜下沉量”)为0.4mm以上、2.4mm以下，优选为0.5mm以上、2.0mm以下，更优选为0.8mm以上、1.9mm以下，该第1基准点在俯视时自表膜构件框体10的边部的长边部10a内边缘的中央点向与该长边部10a的内边缘正交的方向离开30mm；
条件B：在将表膜构件1配置为表膜11为大致水平的状态下，在表膜11上的第2基准点上载置有10.6g的重物的情况下，该第2基准点的下沉量(以下有时称作“短边侧的膜下沉量”)为0.3mm以上、2.3mm以下，优选为0.4mm以上、1.9mm以下，更优选为0.7mm以上、1.7mm以下，该第2基准点在俯视时自表膜构件框体10的边部的短边部10b内边缘的中央点向与该短边部10b正交的方向离开30mm；
条件C：第1基准点的上述下沉量和第2基准点的上述下沉量之差(即，长边侧的膜下沉量和短边侧的膜下沉量之差)的绝对值为0.4mm以下，优选为0.3mm以下，更优选为0.25mm以下。
其原因在于，若对表膜11赋予的膜张力满足上述条件A、条件B以及条件C，则在将表膜11粘贴于表膜构件框体10之后表膜11不易发生膜起皱。其原因还在于，在掩模上粘贴有表膜构件1时，能够抑制在表膜构件1的处理时等情况下表膜11与掩模接触、或者在粘贴于表膜构件1的表膜11承受到风压力等外部压力时表膜11与掩模接触的状况。并且，本案发明人等发现：在采用窄幅的表膜构件框体的表膜构件中，短边侧的膜下沉量和长边侧的膜下沉量之差与以往的表膜构件中的差相比非常小。因此，与以往的表膜构件的情况不同，能够在矩形形状的表膜11整体中保持膜张力的平衡，因此，成为即使减小表膜构件框体的边部的宽度也能够用作表膜构件的产品。
接着，说明长边侧的膜下沉量和短边侧的膜下沉量的测量方法。图7是用于说明长边侧的膜下沉量和短边侧的膜下沉量的测量方法的示意性的立体图，图8是用于说明长边侧的膜下沉量和短边侧的膜下沉量的测量方法的示意性的剖视图。图8(A)表示表膜构件1的，在表膜构件框体10的长边部10a的长度方向上的中央点处的纵截面，图8(B)表示表膜构件1的，在表膜构件框体10的短边部10b的长度方向上的中央点处的纵截面。此外，作为表膜构件载置台50使用了表膜构件收纳容器的托盘。
在测量长边侧的膜下沉量时，首先，将带粘合剂12和保护薄膜13(在图7中未图示)的表膜构件1以表膜11为大致水平的方式静置在框上的表膜构件载置台50上。然后，在表膜11中的2处第1基准点111上以不弄破表膜11的方式轻轻地做标记。在此，第1基准点111是俯视时(从表膜11的厚度方向看)自表膜构件框体10的边部的长边部10a的内边缘的中央点10ac沿与该长边部10a的内边缘正交的方向离开30mm的点。
接着，在一个第1基准点111上放置10.6g的重物55，利用激光位移计测量以放置该重物之前为基准的表膜11的下沉量111D(长边侧的膜下沉量111D)。更具体地讲，准备环形形状等具有孔的形状的重物55，以重物55的重心点位于一个第1基准点111上的方式将重物55载置在一个第1基准点111上，利用支架61控制激光变形的传感器57而使其位于重物55的上方。然后，从传感器57经过重物55的中央部的孔向第1基准点111照射激光，测量表膜11的长边侧的膜下沉量111D的大小。控制器63向传感器57发送控制信号，利用该控制信号控制传感器57的位置、激光照射的时机等。传感器57的测量数据经由控制器63被发送到计算机65。计算机65控制控制器63，并且根据经由控制器63发送来的上述测量数据计算长边侧的膜下沉量111D的值。此外，对于另一个第1基准点111也同样地测量长边侧的膜下沉量。然后，计算一个第1基准点111处的长边侧的膜下沉量和另一个第1基准点111处的长边侧的膜下沉量的平均值，将该平均值作为长边侧的膜下沉量。
也同样地测量短边侧的膜下沉量。即，在测量短边侧的膜下沉量时，首先，将带粘合剂12和保护薄膜13(在图7中未图示)的表膜构件1以表膜11为大致水平的方式静置在框上的表膜构件载置台50上。然后，在表膜11中的2处第2基准点112上以不弄破表膜11的方式轻轻地做标记。在此，第2基准点112是俯视时(从表膜11的厚度方向看)自表膜构件框体10的边部的短边部10b的内边缘的中央点10bc沿与该短边部10b的内边缘正交的方向离开30mm的点。
接着，在一个第2基准点112上放置10.6g的重物55，利用激光位移计测量以放置该重物之前为基准的表膜11的下沉量112D(短边侧的膜下沉量112D)。更具体地讲，以重物55的重心点位于一个第2基准点112上的方式将重物55载置在一个第2基准点112上，利用支架61控制激光变形的传感器57而使其位于重物55的上方。然后，从传感器57经过重物55的中央部的孔向第2基准点112照射激光，测量表膜11的短边侧的膜下沉量112D的大小。控制器63向传感器57发送控制信号，利用该控制信号控制传感器57的位置、激光照射的时机等。传感器57的测量数据经由控制器63被发送到计算机65。计算机65控制控制器63，并且根据经由控制器63发送来的上述测量数据计算短边侧的膜下沉量112D的值。此外，对于另一个第2基准点112也同样地测量短边侧的膜下沉量。然后，计算一个第2基准点112处的短边侧的膜下沉量和另一个第2基准点112处的短边侧的膜下沉量的平均值，将该平均值作为短边侧的膜下沉量。
采用本实施方式，由于不赋予温度变化就能够提高由高分子材料构成的表膜11的膜张力，因此，能够防止表膜11的物理性质发生变化，能够适当地进行利用该表膜构件1的曝光处理。此外，表膜构件框体10、粘合剂12、表膜11等的材料不必使用经得住温度变化的材料，材料的选择自由度扩大。此外，不需要赋予温度变化、不需要进行随着温度变化的空气调节的昂贵设备，其控制工艺变容易。而且，由于不暴露在高温或者低温中，因此，不会由热量引起粘合剂12等的劣化，能够确保表膜构件1的平坦性、尺寸精度，能够进行高精度的曝光处理。
此外，采用本实施方式，由于能够提高膜张力，因此，能够抑制由表膜构件1的大型化导致表膜11因自重而产生的挠曲变得明显。因而，即使是大型表膜构件，也能够实现高精度的曝光处理。此外，也能够抑制在安装于曝光用基盘时卷入周围气氛气体而导致表膜11鼓起。由此，直到该表膜11的鼓起消失为止的等待时间减少，能够缩短制造时间。
此外，在本实施方式中，使表膜构件框体10的一对长边部10a和一对短边部10b全部向内侧弹性变形，但也可以使4边部中的至少1边部向内侧变形。而且，通过选择表膜构件框体10的向内侧变形的边部，也能够仅在表膜11的长边方向或者短边方向的需要表现张力的方向上增加膜张力，在表膜11为长方形的情况等时，能够在长边方向上赋予较大的张力等来谋求4方向上的张力平衡的均等化。
而且，如图5(B)～图5(D)所示，在表膜构件框体10中的至少1边具有以向外侧凸出的方式弯曲鼓出而成的初始形状的情况下，能够较大地确保表膜构件框体10的边部向内侧的变形量，也能够相应地较大地确保借助弹性恢复力(膨张力)复原时的变形量。因而，能够更强有力地拉伸表膜11，能够进一步提高膜张力。
此外，在图5(B)～图5(D)所示的表膜构件框体10中，通过按压以向表膜构件框体10的外侧凸出的方式弯曲鼓出而成的部分，控制表膜构件框体10向外侧的鼓出量和表膜构件框体10向内侧按压的按压量，从而能够表现任意的膜张力。而且，就按压而言，只要是在框体的弹性变形区域内，就能够以任意的力按压，使表膜构件框体10向外侧凸出的鼓出量和表膜构件框体10向内侧按压的按压量之间保持平衡，优选的是调整为在表膜构件1的成形之后一对长边部10a和一对短边部10b为大致直线状。
在以上实施方式中，具有框体20和表膜构件框体10的至少一对边部的初始形状的边部向外侧凸出的鼓出量。而且，上述一对边部可以是长边侧、短边侧中的任一者，但特别优选为在长边侧形成向外侧凸出的鼓出量。此外，也可以在4边全部形成向外侧凸出的鼓出量。作为长边侧的鼓出量，优选为3mm以上、20mm以下，更优选为3.5mm以上20mm以下，进一步优选为3.8mm以上18mm以下，更进一步优选为4.0mm以上15mm以下。此外，短边侧的初始形状的边部向外侧凸出的鼓出量优选为2.8mm以上15mm以下，更优选为2.9mm以上12mm以下，进一步优选为3.0mm以上9mm以下。特别是，作为使长边和短边各自成对同时具有向外侧凸出的鼓出量的情况下的鼓出量，优选的是，长边侧的鼓出量为2.5mm以上20mm以下且短边侧的鼓出量为0.5mm以上15mm以下，更优选的是，长边侧的鼓出量为3.0mm以上18mm以下且短边侧的鼓出量为1.0mm以上12mm以下，进一步优选的是，长边侧的鼓出量为3.5mm以上15mm以下且短边侧的鼓出量为1.5mm以上9mm以下。另外，如图9所示，该鼓出量S设为将后述的直线作为虚拟的基准线L时的，该边的外边缘上的距上述基准线最远的点P与上述基准线L之间的距离，前述的直线是将表膜构件框体10或者框体20的各边部的角部的外边缘的顶点C之间连接起来而成的。
作为初始形状，只要具有向外侧凸出的鼓出量，就可以是任何形状，但优选的是，像图9那样在中央附近具有鼓出量。既可以自顶点C逐渐向外侧凸出，也可以在自顶点C带有一定程度的直线之后向外侧凸出。
此外，表膜构件框体10的角部的外边缘的曲率半径R优选为1mm以上、5mm以下，更优选为2mm以上、5mm以下。该角部的内边缘的曲率半径R优选为1mm以上、3mm以下，最优选为2mm。其原因在于，即使在将表膜构件框体10设为窄幅的情况下，只要表膜构件框体10的角部的外边缘和内边缘的曲率半径在上述范围内，就也能够避免应力集中在该角部并且使该角部带有足够的面积。其结果，能够保持该角部的刚性，即使在使表膜构件框体10带有恢复力的情况下也能够维持该角部的形状，因此，表膜构件框体10的形状不易从矩形形状变形为平行四边形状等其他的形状，能够抑制由形状的变形引起表膜起皱。
此外，在表膜构件框体10上涂敷膜粘接剂或者掩模粘合材料的情况下，具有增加向表膜构件框体10角部的涂敷量的倾向，但只要表膜构件框体10的角部的外边缘和内边缘的曲率半径在上述范围内，就不易发生粘接剂滴下等情况，因此，能够将膜粘接剂或者掩模粘合材料均匀地涂敷在表膜构件框体10上。
此外，也可以在表膜构件框体的表面上实施黑色镀铬、黑色耐酸铝(日文：黒色アルマイト)、黑色涂装等黑化处理。
能够在框体上设置处理用的槽，存在沿着1对短边的全长设置槽的情况、在4边上局部地设置槽的情况等。在该槽上存在设有C面(日文：C面)，且为了去毛刺等而设为C0.1～0.5的情况。
在框体的膜粘接剂侧，在与外侧面和与内侧面所成的角上设有C面。与外侧面所成的角的C面为C0.1～0.5，与内侧面所成的角的C面设有C0.5～2.5。若外侧面的C面处于上述范围内，则在切割剩余的膜的情况下，切割器、治具等平滑地工作，不会因产生毛刺等而导致膜破损，因此较为理想。此外，若内侧面的C面处于上述范围内，膜粘接剂不易滴下，因此较为理想。
其中，进一步说明黑色耐酸铝处理。
作为表膜构件用的框体(支承框)通常大多使用5000系的铝合金，因此，以铝合金为例进行说明。
一般的黑色耐酸铝处理是如以下这样进行的，即在用铝合金成形表膜构件框体之后进行耐酸铝处理，利用黑化剂对因该处理而产生的微细孔进行封入处理，然后实施覆盖该微细孔的封孔处理。但是，若利用电子显微镜观察这样按照通常的方法制作成的框体的表面，则能够确认产生细小的裂纹(细微裂缝(micro-crack))。对于这样的细微裂缝，若图案的微细化发展，配线宽度变得更窄，则进入到该裂缝中的极小的异物落下也成为问题。因此，作为防止产生这样的细微裂缝的方法，优选采取如下的方法。
首先，对表膜构件框体的表面进行耐酸铝处理。在硫酸浓度10％～20％、电流密度1A/dm2～2A/dm2、电解液温度15℃～30℃、通电时间10分钟～30分钟的范围内进行该耐酸铝处理。届时，在合金的表面有规则地形成有许多个微小的孔(直径
间距
)。之后，使用该孔进行黑化处理。黑化处理是为了防止光自框反射而进行的，因此，并不限定于黑色，也包括接近黑色的茶色、深蓝色等较深的颜色。对于黑化处理，能够列举出染色、电解着色等。染色是通过浸渍在溶解有黑色染料的液体中而使染料吸附于该孔来获得色调的方法，另外，电解着色是使金属元素电析出到该孔上而获得色调的方法。染色例如在染料浓度3g/L～10g/L、染色液温度50℃～65℃的条件下进行。
接着，实施堵塞该孔的封孔处理。在该处理中使用例如加入有被称作低温封孔剂的日华化学工业(株式会社)制hardwall3(商品名称)封孔助剂6g/L～12g/L的沸水。
利用此时的封孔填埋耐酸铝膜表面的微细的孔，耐酸铝膜变致密，但若在将封孔的温度设为比100℃低一些的温度，例如70℃～95℃，优选为80℃～90℃的条件下进行封孔处理，则能够制作具有极为均匀的表面性且实质上没有细微裂缝的表膜构件框体。
另外，细微裂缝的有无的判断是在利用电子显微镜将框体表面放大1000倍而成的照片中引出10cm(实际尺寸0.1mm)的直线，计算与该直线交叉的裂缝数量。裂缝数量是对裂纹的宽度为能够在该电子显微镜照片中观察的宽度，即裂缝宽度0.1μm以上的裂缝进行计数得到的。该数值越大，则判断为以越高密度存在裂缝。
也可以根据需要在表膜构件框体的内壁面或者整个面涂敷用于补充异物的粘合材料(丙烯酸系、醋酸乙烯系、硅系、橡胶系等)、润滑脂(硅系、氟系等)。
此外，若根据需要开设将表膜构件框体的内部和外部贯通的微细的孔，使由表膜构件和光掩模形成的空间的内外的气压差消失，则能够防止膜的鼓起、凹陷。
此外，若此时在微细的孔的外侧安装异物去除过滤器，则在能够调整气压的基础之上，防止异物进入到由表膜构件和光掩模形成的空间中，因此较为理想。
在由表膜构件和光掩模形成的空间容积较大的情况下，若设置多个上述孔、过滤器，则由气压变动引起的膜的鼓起、凹陷的恢复时间变短，较为理想。
由于本实施方式的表膜构件框体能够通过满足上述要件而兼具适度的刚性和柔软性，因此，不存在因铺展表膜而引起的框体的变形，单独处理表膜构件的情况下表膜构件当然也不会挠曲，而且在之后的将该表膜构件粘贴于掩模之后的处理中该表膜构件还能追随掩模自身的挠曲。其结果，表膜构件不会起皱，并且也能够追随掩模的挠曲，因此，起到也不会产生空气路径这样的优异的效果。
本实施方式的表膜11以覆盖开口面F的方式粘贴在具有该开口部F的表膜构件框体10上，粘贴后的表膜11的张力优选为1.8gf/mm以上、6gf/mm以下，更优选为1.9gf/mm以上、5gf/mm以下，进一步优选为2.0gf/mm以上、4.5gf/mm以下。
通过将表膜11的张力调整为上述范围的下限值以上，能够在表膜构件1的处理时抑制表膜11发生膜起皱，表膜构件1的处理性得到提高。此外，通过将表膜11的张力调整为上述范围的上限值以下，能够有效地抑制表膜11的龟裂、破损。
根据表膜的材料和表膜构件框体的材料适当地选择用于将表膜和表膜构件框体粘接起来的膜粘接剂。例如，可使用环氧系、丙烯酸系、硅系、氟系等的粘接剂。
此外，粘接剂的固化方法采用适合各个粘接剂的固化方法(热固化、光固化、厌氧性固化等)。从起尘性、成本、作业性的方面考虑，优选为丙烯酸系的紫外线固化型粘接剂。
用于将表膜构件框体粘贴于光掩模的掩模粘合材料可以使用自身具有粘合力的热熔系(橡胶系、丙烯酸系)、在基材的两个面涂敷有粘合材料的带系(作为基材可以应用丙烯酸系、PVC系等的片材或者橡胶系、聚烯烃系、聚氨酯系等的成型体等，作为粘合材料可以应用橡胶系、丙烯酸系、硅系等的粘合材料)等。此外，粘合材料也可以是透明的，但从异物检查性的方面考虑，也可以是黑色。
在本实施方式的大型表膜构件中，作为掩模粘合材料，为了将表膜构件以低负荷均匀地粘贴在光掩模上，优选为比较柔软的热熔材料、成型体。在成型体的情况下，通过利用丙烯酸系、醋酸乙烯系的粘合性材料或者非粘合性材料覆盖其截面，能够防止自成型体起尘。
掩模粘合材料的厚度通常设为0.2mm以上，但为了均匀地粘贴于光掩模，其厚度优选为1mm以上。为了在直到将上述掩模粘合材料的粘合面粘贴于光掩模为止的期间内保护该粘合面，使用利用硅、氟进行了脱模处理的聚酯膜。
以上，参照附图说明了本发明的较佳的实施方式，但本发明并不限定于该例子。可明确只要是本领域技术人员，就能够在技术方案所记载的思想范畴内想到各种变更例或者修改例，这些例子当然也属于本发明的技术范围。
(实施例)
(实施例1)
作为大型表膜构件用的框体，准备材料为铝合金、厚度为8mm、长边部和短边部的宽度为20mm、内尺寸为1600mm×1600mm的构件。该框体设为以使各边部的中央附近向外侧凸出的方式弯曲鼓出而成的形状，将初始形状的向外侧的鼓出量设为3.3mm。作为大型表膜构件用的表膜构件框体，另外准备这样的构件，即材料为铝合金、厚度为5.0mm、长边部和短边部的宽度为9mm、内尺寸为1350mm×1140mm、是以各边部的中央附近向外侧凸出的方式弯曲鼓出而成的形状、初始形状的向外侧的鼓出量在长边部侧为9.0mm、在短边部侧为7.5mm。
如下这样地制造大型表膜构件。使用治具以大型表膜构件用的框体的各边部为大致直线状的方式将各边部的中央附近朝向内侧按压，并在该框体上粘接形成在基板上的纤维素酯的表膜，之后自基板剥离表膜。在自基板剥离之后，解放由治具产生的外力。在大型表膜构件用的表膜构件框体的下边缘面涂敷苯乙烯/乙烯/丁烯/苯乙烯系的掩模粘合材料。在表膜构件框体的上边缘面涂敷丙烯酸系的膜粘接剂，利用治具以表膜构件框体的各边部为大致直线状的方式治具将各边部的中央附近朝向内侧按压，并在表膜构件框体10上粘接表膜，之后切除剩余膜。
在此，评价在将表膜铺展粘接在表膜构件框体上时是否起皱。在图10中表示评价结果。在评价结果的标记中，“○”表示膜完全没有褶皱的状态，“△”表示仔细观察膜时稍微起波纹的状态，“×”表示膜稍微起皱的状态。
此外，通过利用处理治具把持一对短边部各自的一部分来实施表膜构件框体的处理。而且，在从表膜铺展、粘接于表膜构件框体之后到保管在收纳容器中为止的一连串的处理工序中评价处理性。在图10中表示评价结果。在评价结果的标记中，“○”表示在处理工序中一次也没有自治具脱落，“×”表示在处理工序中自治具脱落，即使脱落一次。
(实施例2)
作为大型表膜构件用的框体，准备材料为铝合金、厚度为8mm、长边和短边的宽度为20mm、内尺寸为1600mm×1600mm的构件。框体使用各边部是直线状的初始形状的构件。作为大型表膜构件用的表膜构件框体，另外准备这样的构件，即材料为铝合金、厚度为5.0mm、长边部和短边部的宽度为9mm、内尺寸为1350mm×1140mm、是以各边部的中央附近向外侧凸出的方式弯曲鼓出而成的形状、初始形状的向外侧的鼓出量在长边部侧为8.0mm、在短边部侧为6.5mm。
如下这样地制造大型表膜构件。在大型表膜构件用的框体上粘接形成在基板上的纤维素酯的表膜，之后自基板剥离表膜。在大型表膜构件用的表膜构件框体的下边缘面涂敷苯乙烯乙烯丁烯苯乙烯系的掩模粘合材料。在表膜构件框体的上边缘面涂敷丙烯酸系的膜粘接剂，利用治具以表膜构件框体的长边部向外侧的鼓出量为5mm的方式将长边部的中央朝向内侧按压，并在表膜构件框体上粘接表膜，之后切除剩余膜。
与实施例1同样地评价处理性和有无褶皱。在图10中表示评价结果。
(实施例3)
作为大型表膜构件用的表膜构件框体，使用内尺寸为1200mm×760mm、厚度为5mm、长边部的宽度为9mm、短边部的宽度为5mm、长边部的初始形状的向外侧的鼓出量为5.5mm的构件，利用治具以长边部向外侧的鼓出量为3mm的方式将长边部的中央附近朝向内侧按压，并在表膜构件框体上粘接表膜，之后切除剩余膜。除此之外与实施例2是同样的。
与实施例1同样地评价处理性和有无褶皱。在图10中表示评价结果。
(实施例4)
作为大型表膜构件用的框体，准备材料为铝合金、厚度为8mm、长边和短边的宽度为20mm、内尺寸为1600mm×1600mm的构件。框体使用各边部是直线状的初始形状的构件。作为大型表膜构件用的表膜构件框体，另外准备这样的构件，即材料为铝合金，厚度为5.5mm，角部设为外侧拐角(corner)R5、内侧拐角R2，长边部的宽度为6mm，短边部的宽度为12mm，内尺寸为1336mm×1128mm，是以各边部的中央附近向外侧凸出的方式弯曲鼓出而成的形状，初始形状的向外侧的鼓出量在长边部侧为13.0mm、在短边部侧为1.5mm。
如下这样地制造大型表膜构件。在大型表膜构件用的框体上粘接形成在基板上的纤维素酯的表膜，之后自基板剥离表膜。在大型表膜构件用的表膜构件框体的下边缘面涂敷苯乙烯乙烯丁烯苯乙烯系的掩模粘合材料。在表膜构件框体的上边缘面涂敷丙烯酸系的膜粘接剂，利用治具自表膜构件框体的长边部的鼓出部朝向内侧按压1.2mm(自图9中的P向L直线侧按压1.2mm的状态)，短边部的鼓出部由治具固定(在图中的P处用治具进行固定)，并在表膜构件框体上粘接表膜，之后切除剩余膜。
与实施例1同样地评价处理性和有无褶皱。在图10中表示评价结果。此外，实施例4的表膜的长边侧的膜下沉量为2.23mm，短边侧的膜下沉量为2.06mm。
(实施例5)
作为大型表膜构件用的框体，准备与实施例4同样的框体。作为大型表膜构件用的表膜构件框体，另外准备这样的构件，即材料为铝合金，厚度为5.5mm，角部设为外侧拐角R2、内侧拐角R2，长边部的宽度为7mm，短边部的宽度为6mm，内尺寸为1348mm×1126mm，是以各边部的中央附近向外侧凸出的方式弯曲鼓出而成的形状，初始形状的向外侧的鼓出量在长边部侧为9.0mm、在短边部侧为8.0mm。
如下这样地制造大型表膜构件。在大型表膜构件用的框体上粘接形成在基板上的纤维素酯的表膜，之后自基板剥离表膜。在大型表膜构件用的表膜构件框体的下边缘面涂敷苯乙烯乙烯丁烯苯乙烯系的掩模粘合材料。在表膜构件框体的上边缘面涂敷丙烯酸系的膜粘接剂，利用治具自表膜构件框体的长边部的鼓出部朝向内侧按压1.2mm，并且短边部也被治具自鼓出部朝向内侧按压1.2mm，并在表膜构件框体上粘接表膜，之后切除剩余膜。
与实施例1同样地评价处理性和有无褶皱。在图10中表示评价结果。此外，实施例5的表膜的长边侧的膜下沉量为2.15mm，短边侧的膜下沉量为1.89mm。
(实施例6)
作为大型表膜构件用的框体，准备与实施例4同样的框体。作为大型表膜构件用的表膜构件框体，另外准备这样的构件，即材料为铝合金，厚度为5.5mm，角部设为外侧拐角R3、内侧拐角R2，长边部的宽度为9mm，短边部的宽度为9mm，内尺寸为1342mm×1122mm，是以各边部的中央附近向外侧凸出的方式弯曲鼓出而成的形状，初始形状的向外侧的鼓出量在长边部侧为5.0mm、在短边部侧为4.0mm。
如下这样地制造大型表膜构件。在大型表膜构件用的框体上粘接形成在基板上的纤维素酯的表膜，之后自基板剥离表膜。在大型表膜构件用的表膜构件框体的下边缘面涂敷苯乙烯乙烯丁烯苯乙烯系的掩模粘合材料。在表膜构件框体的上边缘面涂敷丙烯酸系的膜粘接剂，表膜构件框体的短边部也被治具自鼓出部朝向内侧按压4.6mm，并且在长边部什么也没做的状态下，在表膜构件框体上粘接表膜，之后切除剩余膜。
与实施例1同样地评价处理性和有无褶皱。在图10中表示评价结果。此外，实施例6的表膜的长边侧的膜下沉量为1.41mm，短边侧的膜下沉量为1.51mm。
(实施例7)
作为大型表膜构件用的框体，准备与实施例4同样的框体。框体使用各边部是直线状的初始形状的构件。作为大型表膜构件用的表膜构件框体，另外准备这样的构件，即材料为铝合金，厚度为5.5mm，角部设为外侧拐角R5、内侧拐角R2，长边部的宽度为12mm，短边部的宽度为4mm，内尺寸为1352mm×1116mm，是以各边部的中央附近向外侧凸出的方式弯曲鼓出而成的形状，初始形状的向外侧的鼓出量在长边部侧为3.0mm、在短边部侧为12.0mm。
如下这样地制造大型表膜构件。在大型表膜构件用的框体上粘接形成在基板上的纤维素酯的表膜，之后自基板剥离表膜。在大型表膜构件用的表膜构件框体的下边缘面涂敷苯乙烯乙烯丁烯苯乙烯系的掩模粘合材料。在表膜构件框体的上边缘面涂敷丙烯酸系的膜粘接剂，利用治具固定表膜构件框体的长边部的鼓出部，而且，短边部被治具自鼓出部朝向内侧按压4.6mm，并在表膜构件框体上粘接表膜，之后切除剩余膜。
与实施例1同样地评价处理性和有无褶皱。在图10中表示评价结果。此外，实施例7的表膜的长边侧的膜下沉量为1.54mm，短边侧的膜下沉量为1.45mm。
(实施例8)
作为大型表膜构件用的框体，准备与实施例4同样的框体。作为大型表膜构件用的表膜构件框体，另外准备这样的构件，即材料为铝合金，厚度为5.5mm，角部设为外侧拐角R4、内侧拐角R2，长边部的宽度为11mm，短边部的宽度为7mm，内尺寸为1346mm×1118mm，是以各边部的中央附近向外侧凸出的方式弯曲鼓出而成的形状，初始形状的向外侧的鼓出量在长边部侧为5.0mm、在短边部侧为6.0mm。
如下这样地制造大型表膜构件。在大型表膜构件用的框体上粘接形成在基板上的纤维素酯的表膜，之后自基板剥离表膜。在大型表膜构件用的表膜构件框体的下边缘面涂敷苯乙烯乙烯丁烯苯乙烯系的掩模粘合材料。在表膜构件框体的上边缘面涂敷丙烯酸系的膜粘接剂，利用治具自表膜构件框体的长边部的鼓出部朝向内侧按压2.3mm，并且短边部也被治具自鼓出部朝向内侧按压1.2mm，并在表膜构件框体上粘接表膜，之后切除剩余膜。
与实施例1同样地评价处理性和有无褶皱。在图10中表示评价结果。此外，实施例8的表膜的长边侧的膜下沉量为1.46mm，短边侧的膜下沉量为1.76mm。
(实施例9)
作为大型表膜构件用的框体，准备与实施例4同样的框体。作为大型表膜构件用的表膜构件框体，另外准备这样的构件，即材料为铝合金，厚度为5.5mm，角部设为外侧拐角R4、内侧拐角R2，长边部的宽度为10mm，短边部的宽度为11mm，内尺寸为1338mm×1120mm，是以各边部的中央附近向外侧凸出的方式弯曲鼓出而成的形状，初始形状的向外侧的鼓出量在长边部侧为4.0mm、在短边部侧为4.0mm。
如下这样地制造大型表膜构件。在大型表膜构件用的框体上粘接形成在基板上的纤维素酯的表膜，之后自基板剥离表膜。在大型表膜构件用的表膜构件框体的下边缘面涂敷苯乙烯乙烯丁烯苯乙烯系的掩模粘合材料。在表膜构件框体的上边缘面涂敷丙烯酸系的膜粘接剂，利用治具自表膜构件框体的长边部的鼓出部朝向内侧按压1.2mm，并且短边部也被治具自鼓出部朝向内侧按压2.3mm，并在表膜构件框体上粘接表膜，之后切除剩余膜。
与实施例1同样地评价处理性和有无褶皱。在图10中表示评价结果。此外，实施例9的表膜的长边侧的膜下沉量为1.05mm，短边侧的膜下沉量为0.89mm。
(实施例10)
作为大型表膜构件用的框体，准备与实施例4同样的框体。作为大型表膜构件用的表膜构件框体，另外准备这样的构件，即材料为铝合金，厚度为5.5mm，角部设为外侧拐角R5.5、内侧拐角R2，长边部的宽度为11mm，短边部的宽度为10mm，内尺寸为1340mm×1118mm，是以各边部的中央附近向外侧凸出的方式弯曲鼓出而成的形状，初始形状的向外侧的鼓出量在长边部侧为7.5mm、在短边部侧为3.0mm。
如下这样地制造大型表膜构件。在大型表膜构件用的框体上粘接形成在基板上的纤维素酯的表膜，之后自基板剥离表膜。在大型表膜构件用的表膜构件框体的下边缘面涂敷苯乙烯乙烯丁烯苯乙烯系的掩模粘合材料。在表膜构件框体的上边缘面涂敷丙烯酸系的膜粘接剂，利用治具自表膜构件框体的长边部的鼓出部朝向内侧按压4.6mm，并且短边部也被治具自鼓出部朝向内侧按压1.2mm，并在表膜构件框体上粘接表膜，之后切除剩余膜。
与实施例1同样地评价处理性和有无褶皱。在图10中表示评价结果。此外，实施例10的表膜的长边侧的膜下沉量为1.00mm，短边侧的膜下沉量为0.95mm。
(实施例11)
作为大型表膜构件用的框体，准备与实施例4同样的框体。作为大型表膜构件用的表膜构件框体，另外准备这样的构件，即材料为铝合金，厚度为5.5mm，角部设为外侧拐角R3、内侧拐角R2，长边部的宽度为11mm，短边部的宽度为5mm，内尺寸为1350mm×1118mm，是以各边部的中央附近向外侧凸出的方式弯曲鼓出而成的形状，初始形状的向外侧的鼓出量在长边部侧为5.0mm、在短边部侧为14.0mm。
如下这样地制造大型表膜构件。在大型表膜构件用的框体上粘接形成在基板上的纤维素酯的表膜，之后自基板剥离表膜。在大型表膜构件用的表膜构件框体的下边缘面涂敷苯乙烯乙烯丁烯苯乙烯系的掩模粘合材料。在表膜构件框体的上边缘面涂敷丙烯酸系的膜粘接剂，利用治具自表膜构件框体的长边部的鼓出部朝向内侧按压2.3mm，并且短边部也被治具自鼓出部朝向内侧按压7.0mm，并在表膜构件框体上粘接表膜，之后切除剩余膜。
与实施例1同样地评价处理性和有无褶皱。在图10中表示评价结果。此外，实施例11的表膜的长边侧的膜下沉量为1.67mm，短边侧的膜下沉量为1.98mm。
(比较例1)
使用在实施例1中使用的大型表膜构件用的框体，以不按压大型表膜构件用的框体的长边部中央的方式将表膜粘接在框体上。除此之外与实施例1是同样的。其结果，成为在表膜构件框体的拐角部附近留有弯曲部的形状，角部发生了变形，因此，外观产生了不良。
与实施例1同样地评价处理性和有无褶皱。在图10中表示评价结果。
(比较例2)
使用在实施例2中使用的大型表膜构件用的框体，以不将大型表膜构件用的表膜构件框体的长边部朝向内侧按压的方式将表膜粘接在表膜构件框体上。除此之外与实施例2是同样的。其结果，成为在表膜构件框体的拐角部附近留有弯曲部的形状，角部发生了变形，因此，外观产生了不良。
与实施例1同样地评价处理性和有无褶皱。在图10中表示评价结果。
(比较例3)
使用在实施例3中使用的大型表膜构件用的框体且是将长边部的初始形状的鼓出量设为0mm的构件，以不按压大型表膜构件用的表膜构件框体的长边部的方式将表膜粘接在表膜构件框体上。除此之外与实施例3是同样的。其结果，成为在表膜构件框体的拐角部附近留有弯曲部的形状，角部发生了变形，因此，外观产生了不良。
与实施例1同样地评价处理性和有无褶皱。在图10中表示评价结果。
(比较例4)
作为大型表膜构件用的框体，准备与实施例4同样的框体。作为大型表膜构件用的表膜构件框体，另外准备这样的构件，即材料为铝合金，厚度为5.5mm，角部设为外侧拐角R9、内侧拐角R2，长边部的宽度为9mm，短边部的宽度为10mm，内尺寸为1340mm×1122mm，是以各边部的中央附近向外侧凸出的方式弯曲鼓出而成的形状，初始形状的向外侧的鼓出量在长边部侧为2.3mm、在短边部侧为1.5mm。而且，以不按压该大型表膜构件用的表膜构件框体的长边部和短边部的方式将表膜粘接在表膜构件框体上。
与实施例1同样地评价处理性和有无褶皱。在图10中表示评价结果。此外，比较例4的表膜的长边侧的膜下沉量为2.78mm，短边侧的膜下沉量为2.37mm。
(比较例5)
作为大型表膜构件用的框体，准备与实施例4同样的框体。作为大型表膜构件用的表膜构件框体，另外准备这样的构件，即材料为铝合金，厚度为5.5mm，角部设为外侧拐角R6、内侧拐角R2，长边部的宽度为4mm，短边部的宽度为4mm，内尺寸为1352mm×1132mm，是以各边部的中央附近向外侧凸出的方式弯曲鼓出而成的形状，初始形状的向外侧的鼓出量在长边部侧为30.0mm、在短边部侧为22.0mm。
如下这样地制造大型表膜构件。在大型表膜构件用的框体上粘接形成在基板上的纤维素酯的表膜，之后自基板剥离表膜。在大型表膜构件用的表膜构件框体的下边缘面涂敷苯乙烯乙烯丁烯苯乙烯系的掩模粘合材料。在表膜构件框体的上边缘面涂敷丙烯酸系的膜粘接剂，利用治具自表膜构件框体的长边部的鼓出部朝向内侧按压7.0mm，并且短边部也被治具自鼓出部朝向内侧按压7.0mm，并在表膜构件框体上粘接表膜，之后切除剩余膜。
与实施例1同样地评价处理性和有无褶皱。在图10中表示评价结果。在本比较例中，表膜构件框体并未成为大致四边形。
此外，比较例5的表膜的长边侧的膜下沉量为2.78mm，短边侧的膜下沉量为2.37mm。
(比较例6)
作为大型表膜构件用的框体，准备与实施例4同样的框体。作为大型表膜构件用的表膜构件框体，另外准备这样的构件，即材料为铝合金，厚度为5.5mm，角部设为外侧拐角R5、内侧拐角R2，长边部的宽度为9mm，短边部的宽度为7mm，内尺寸为1346mm×1122mm，是以各边部的中央附近向外侧凸出的方式弯曲鼓出而成的形状，初始形状的向外侧的鼓出量在长边部侧为8.0mm、在短边部侧为7.0mm。
如下这样地制造大型表膜构件。在大型表膜构件用的框体上粘接形成在基板上的纤维素酯的表膜，之后自基板剥离表膜。在大型表膜构件用的表膜构件框体的下边缘面涂敷苯乙烯乙烯丁烯苯乙烯系的掩模粘合材料。在表膜构件框体的上边缘面涂敷丙烯酸系的膜粘接剂，表膜构件框体的短边部也被治具自鼓出部朝向内侧按压1.2mm，并且在长边部什么也没做的状态下，在表膜构件框体上粘接表膜，之后切除剩余膜。
与实施例1同样评价处理性和有无褶皱。在图10中表示评价结果。在本比较例中，在大型表膜构件的处理时表膜发生了自重挠曲。此外，比较例6的表膜的长边侧的膜下沉量为2.53mm，短边侧的膜下沉量为2.21mm。
(比较例7)
作为大型表膜构件用的框体，准备与实施例4同样的框体。作为大型表膜构件用的表膜构件框体，另外准备这样的构件，即材料为铝合金，厚度为5.5mm，角部设为外侧拐角R6、内侧拐角R2，长边部的宽度为8mm，短边部的宽度为7mm，内尺寸为1346mm×1124mm，是以各边部的中央附近向外侧凸出的方式弯曲鼓出而成的形状，初始形状的向外侧的鼓出量在长边部侧为9.0mm、在短边部侧为8.0mm。
如下这样地制造大型表膜构件。在大型表膜构件用的框体上粘接形成在基板上的纤维素酯的表膜，之后自基板剥离表膜。在大型表膜构件用的表膜构件框体的下边缘面涂敷苯乙烯乙烯丁烯苯乙烯系的掩模粘合材料。在表膜构件框体的上边缘面涂敷丙烯酸系的膜粘接剂，利用治具自表膜构件框体的长边部的鼓出部朝向内侧按压2.3mm，并且在短边部什么也没做的状态下，在表膜构件框体上粘接表膜，之后切除剩余膜。
与实施例1同样地评价处理性和有无褶皱。在图10中表示评价结果。在本比较例中，在大型表膜构件的处理时，治具碰到表膜构件框体的短边部，在表膜的与治具所碰到的部分相邻的部分发生了起皱。此外，比较例7的表膜的长边侧的膜下沉量为1.97mm，短边侧的膜下沉量为2.35mm。
(比较例8)
作为大型表膜构件用的框体，准备与实施例4同样的框体。作为大型表膜构件用的表膜构件框体，另外准备这样的构件，即材料为铝合金，厚度为5.5mm，角部设为外侧拐角R5、内侧拐角R2，长边部的宽度为8mm，短边部的宽度为10mm，内尺寸为1340mm×1124mm，是以各边部的中央附近向外侧凸出的方式弯曲鼓出而成的形状，初始形状的向外侧的鼓出量在长边部侧为15.0mm、在短边部侧为4.0mm。
如下这样地制造大型表膜构件。在大型表膜构件用的框体上粘接形成在基板上的纤维素酯的表膜，之后自基板剥离表膜。在大型表膜构件用的表膜构件框体的下边缘面涂敷苯乙烯乙烯丁烯苯乙烯系的掩模粘合材料。在表膜构件框体的上边缘面涂敷丙烯酸系的膜粘接剂，利用治具自表膜构件框体的长边部的鼓出部朝向内侧按压7.0mm，并且在短边部什么也没做的状态下，在表膜构件框体上粘接表膜，之后切除剩余膜。
与实施例1同样地评价处理性和有无褶皱。在图10中表示评价结果。在本比较例中，表膜构件框体的短边部附近的表膜发生了起皱。此外，比较例8的表膜的长边侧的膜下沉量为1.35mm，短边侧的膜下沉量为1.8mm。
附图标记说明
1、表膜构件；10、表膜构件框体；10a、长边部；10b、短边部；11、表膜；12、粘合剂；13、保护薄膜；20、框体；20a、长边部；20b、短边部；30、基板；F、开口部；G、开口部；S、鼓出量。
Claims (9)
1.一种表膜构件框体，其利用四个边部形成为大致矩形的框状，而铺展支承表膜，其中，
上述边部的长边宽度/长边长度的比例为0.3％以上2.2％以下，上述边部的短边宽度/短边长度的比例为0.3％以上3.8％以下，
至少一对上述边部向上述表膜构件框体的外侧鼓出。
2.根据权利要求1所述的表膜构件框体，其中，
上述边部的上述长边宽度为5mm以上、15mm以下，上述边部的上述短边宽度为4mm以上、15mm以下。
3.根据权利要求1或2所述的表膜构件框体，其中，
上述边部的一对长边部向上述表膜构件框体的外侧鼓出，该一对长边部的鼓出量为3mm以上、20mm以下。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的表膜构件框体，其中，
上述边部的上述长边长度为400mm以上、2000mm以下，上述边部的上述短边长度为200mm以上、1800mm以下。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的表膜构件框体，其中，
该表膜构件框体由杨氏模量为1GPa以上80GPa以下的材料形成。
6.一种表膜构件，其具有权利要求1～5中任一项所述的表膜构件框体和铺展支承在上述表膜构件框体上的表膜，其中，
在至少是鼓出的上述边部朝向上述表膜构件框体的内侧发生了弹性变形的状态下，上述表膜粘贴在上述表膜构件框体上。
7.根据权利要求6所述的表膜构件，其中，
鼓出的上述边部利用该边部的恢复力和上述表膜的膜张力之间的平衡形成为大致直线状。
8.根据权利要求6或7所述的表膜构件，其中，
对上述表膜赋予膜张力，膜张力的大小满足以下的条件A、条件B以及条件C中的所有条件，
条件A：在将上述表膜构件配置为上述表膜为大致水平的状态下，在上述表膜上的第1基准点上载置有10.6g的重物的情况下，该第1基准点的下沉量为0.4mm以上、2.4mm以下，该第1基准点在俯视时自上述表膜构件框体的上述边部的长边部内边缘的中央点向与该长边部的内边缘正交的方向离开30mm；
条件B：在将上述表膜构件配置为上述表膜为大致水平的状态下，在上述表膜上的第2基准点上载置有10.6g的重物的情况下，该第2基准点的下沉量为0.3mm以上、2.3mm以下，该第2基准点在俯视时自上述表膜构件框体的上述边部的短边部内边缘的中央点向与该短边部正交的方向离开30mm；
条件C：上述第1基准点的上述下沉量和上述第2基准点的上述下沉量之差的绝对值为0.4mm以下。
9.一种表膜构件的制造方法，其中，
该表膜构件的制造方法包括以下的工序：
工序a，将形成在基板之上的包括高分子材料的表膜以覆盖开口部的方式粘贴在具有该开口部的框体上；
工序b，将粘贴在上述框体上的上述表膜自上述基板剥离；
工序c，准备表膜构件框体，该表膜构件框体利用四个边部形成为大致矩形的框状，至少一对上述边部向上述表膜构件框体的外侧鼓出，上述边部的长边宽度/长边长度的比例为0.3％以上2.2％以下，上述边部的短边宽度/短边长度的比例为0.3％以上3.8％以下；
工序d，通过对上述表膜构件框体的上述至少一对上述边部施加外力，使该至少一对上述边部弹性变形，以使得该至少一对上述边部成为大致直线状；
工序e，在上述工序d之后，在上述至少一对上述边部弹性变形成大致直线状的状态下的上述表膜构件框体上，以覆盖该表膜构件框体的开口部的方式粘贴已被粘贴在上述框体上的上述表膜；
工序f，在上述工序e之后，通过取消对上述至少一对上述边部施加的上述外力，利用上述表膜构件框体铺展支承上述表膜；以及
工序g，在上述工序e之后，去除上述表膜的剩余部分和上述框体。
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Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001042507A (ja) * | 1999-07-30 | 2001-02-16 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 大型ペリクル用枠体 |
| JP2001290259A (ja) * | 2000-04-10 | 2001-10-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | リソグラフィー用ペリクルおよびペリクル膜の反りの緩和方法 |
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|---|---|---|---|---|
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20200825 |
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| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |