JP6555343B2 - ペリクル用支持枠 - Google Patents
ペリクル用支持枠 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6555343B2 JP6555343B2 JP2017517627A JP2017517627A JP6555343B2 JP 6555343 B2 JP6555343 B2 JP 6555343B2 JP 2017517627 A JP2017517627 A JP 2017517627A JP 2017517627 A JP2017517627 A JP 2017517627A JP 6555343 B2 JP6555343 B2 JP 6555343B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- frame
- transparent substrate
- support frame
- pellicle
- young
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
- G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C1/00—Making non-ferrous alloys
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C21/00—Alloys based on aluminium
- C22C21/02—Alloys based on aluminium with silicon as the next major constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C21/00—Alloys based on aluminium
- C22C21/02—Alloys based on aluminium with silicon as the next major constituent
- C22C21/04—Modified aluminium-silicon alloys
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/66—Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Description
なお、ペリクルの支持枠の内周寸法を大きくして、液晶パネルの生産効率を高めることが望まれている。本発明の支持枠では、枠体の剛性が大きいため、枠体の外周寸法を抑えつつ、枠体の内周寸法を大きくすることができる。したがって、本発明では、露光装置の支持機構に合わせて支持枠の外周寸法が制限されても、支持枠の内周寸法を大きくすることができるため、液晶パネルの生産効率を高めることができる。
なお、本実施形態の各図面では、支持枠の構成を分かり易く説明するために、支持枠の各部を適宜に模式的に示している。
以下の説明において、前後左右および表裏とは、支持枠を分かり易く説明するために設定したものであり、支持枠の構成および使用状態を限定するものではない。
透明基板Mは、回路パターンが描かれるガラス製の基板であり、露光装置の支持機構によって外周部が支持される。
枠体10は、前後一対の横枠部11,11と、左右一対の縦枠部12,12と、によって構成されている。横枠部11および縦枠部12の軸断面は長方形に形成されている。
両横枠部11,11は、枠体10の長辺となる部分であり、両縦枠部12,12は、枠体10の短辺となる部分である。
これにより、高剛性の枠体10が透明基板Mを下面Ma側で支持している状態となるため、透明基板Mが自重によって撓み難くなる。
ペリクル膜2は、図2に示すように、接着層4を介して枠体10の表面10aに接着される。
したがって、本実施形態の支持枠1では、枠体10の内周寸法を大きくすることができ、ガラス基板の露光面積を大きくすることができるとともに、枠体10の高さを低くすることもできる。また、露光装置の支持機構に合わせて支持枠1の外周寸法が制限されても、支持枠1の内周寸法を大きくすることができるため、液晶パネルの生産効率を高めることができる。
本実施形態の枠体10は、Siが含まれたアルミニウム合金の材料によって形成されているが、枠体10の材料は限定されるものではない。
2 ペリクル膜
10 枠体
10a 表面
10b 裏面
11 横枠部
12 縦枠部
M 透明基板
P ペリクル
Claims (4)
- 液晶パネルの製造に用いられるフォトマスク用のペリクル用支持枠であって、
縦の寸法が250mm以上、横の寸法が350mm以上のアルミニウム合金製の枠体を有し、
前記枠体の材料は、Al、Siおよび不可避不純物からなるアルミニウム合金であり、
前記枠体の表面にペリクル膜が接着され、前記枠体の裏面に透明基板が接着され、
前記枠体の材料のヤング率が前記透明基板の材料のヤング率よりも大きいことを特徴とするペリクル用支持枠。 - 液晶パネルの製造に用いられるフォトマスク用のペリクル用支持枠であって、
縦の寸法が250mm以上、横の寸法が350mm以上のアルミニウム合金製の枠体を有し、
前記枠体の材料は、Al、Mnおよび不可避不純物からなるアルミニウム合金であり、
前記枠体の表面にペリクル膜が接着され、前記枠体の裏面に透明基板が接着され、
前記枠体の材料のヤング率が前記透明基板の材料のヤング率よりも大きいことを特徴とするペリクル用支持枠。 - 液晶パネルの製造に用いられるフォトマスク用のペリクル用支持枠であって、
縦の寸法が250mm以上、横の寸法が350mm以上のアルミニウム合金製の枠体を有し、
前記枠体の材料は、Al、SiCおよび不可避不純物からなるアルミニウム合金であり、
前記枠体の表面にペリクル膜が接着され、前記枠体の裏面に透明基板が接着され、
前記枠体の材料のヤング率が前記透明基板の材料のヤング率よりも大きいことを特徴とするペリクル用支持枠。 - 前記枠体の材料のヤング率が72GPa以上であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のペリクル用支持枠。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015095445 | 2015-05-08 | ||
JP2015095445 | 2015-05-08 | ||
PCT/JP2016/056376 WO2016181689A1 (ja) | 2015-05-08 | 2016-03-02 | ペリクル用支持枠 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2016181689A1 JPWO2016181689A1 (ja) | 2017-11-30 |
JP6555343B2 true JP6555343B2 (ja) | 2019-08-07 |
Family
ID=57248118
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017517627A Active JP6555343B2 (ja) | 2015-05-08 | 2016-03-02 | ペリクル用支持枠 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10437142B2 (ja) |
EP (1) | EP3296814B1 (ja) |
JP (1) | JP6555343B2 (ja) |
KR (1) | KR20180002658A (ja) |
CN (1) | CN107533284B (ja) |
TW (1) | TWI689778B (ja) |
WO (1) | WO2016181689A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111727664A (zh) * | 2018-02-27 | 2020-09-29 | 堺显示器制品株式会社 | 柔性oled装置的制造方法以及支承基板 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008065258A (ja) * | 2006-09-11 | 2008-03-21 | Shin Etsu Chem Co Ltd | リソグラフィー用ペリクル |
US7605908B2 (en) * | 2006-10-03 | 2009-10-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Near-field exposure mask, near-field exposure apparatus, and near-field exposure method |
JP5147328B2 (ja) * | 2006-10-03 | 2013-02-20 | キヤノン株式会社 | 近接場露光装置、近接場露光方法、レジストパターンの形成方法、デバイスの製造方法 |
JP2009025559A (ja) | 2007-07-19 | 2009-02-05 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクルフレーム |
CN102216850B (zh) | 2008-11-21 | 2013-07-31 | 旭化成电子材料株式会社 | 表膜用膜、与tft液晶面板制造用掩模一起使用的表膜、及包含该表膜的光掩模 |
JP5521464B2 (ja) * | 2009-09-29 | 2014-06-11 | 凸版印刷株式会社 | ペリクル、フォトマスク、および半導体デバイス |
CN111580339A (zh) * | 2012-03-21 | 2020-08-25 | 旭化成株式会社 | 表膜构件和表膜构件框体以及表膜构件的制造方法 |
JP5984187B2 (ja) * | 2013-04-22 | 2016-09-06 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルとフォトマスクのアセンブリ |
-
2016
- 2016-03-02 CN CN201680026254.8A patent/CN107533284B/zh active Active
- 2016-03-02 WO PCT/JP2016/056376 patent/WO2016181689A1/ja active Application Filing
- 2016-03-02 JP JP2017517627A patent/JP6555343B2/ja active Active
- 2016-03-02 EP EP16792414.1A patent/EP3296814B1/en active Active
- 2016-03-02 US US15/572,616 patent/US10437142B2/en active Active
- 2016-03-02 KR KR1020177031947A patent/KR20180002658A/ko not_active Application Discontinuation
- 2016-03-29 TW TW105109805A patent/TWI689778B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN107533284B (zh) | 2021-03-23 |
JPWO2016181689A1 (ja) | 2017-11-30 |
US20180149965A1 (en) | 2018-05-31 |
EP3296814A4 (en) | 2019-01-16 |
CN107533284A (zh) | 2018-01-02 |
TW201704853A (zh) | 2017-02-01 |
EP3296814B1 (en) | 2023-02-22 |
US10437142B2 (en) | 2019-10-08 |
KR20180002658A (ko) | 2018-01-08 |
EP3296814A1 (en) | 2018-03-21 |
TWI689778B (zh) | 2020-04-01 |
WO2016181689A1 (ja) | 2016-11-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI288728B (en) | Pellicle-frame and pellicle assembly for photolithography using the pellicle frame | |
CN101930165A (zh) | 防护膜框架及光刻用防护膜 | |
JP2011158585A (ja) | ペリクルおよびペリクルの製造方法 | |
JP4951051B2 (ja) | ペリクルフレーム及びペリクル | |
JP6519190B2 (ja) | ペリクル用支持枠 | |
JP6555343B2 (ja) | ペリクル用支持枠 | |
CN104204943B (zh) | 表膜构件和表膜构件框体以及表膜构件的制造方法 | |
JP5641602B2 (ja) | ペリクルの製造方法 | |
JP6389353B2 (ja) | ペリクル枠体及びペリクル | |
JP6018391B2 (ja) | ペリクル | |
JP6156998B2 (ja) | ペリクル | |
TWI291076B (en) | Pellicle and frame for pellicle | |
KR20160074402A (ko) | 리소그래피용 펠리클 용기 | |
JP2007003747A (ja) | ペリクル付きフォトマスク及びペリクル | |
JP2011186327A (ja) | 大型ペリクル用枠体、及び大型ペリクル | |
JP2011143649A (ja) | 印刷用コンビネーションマスク版 | |
WO2016121180A1 (ja) | ペリクル用支持枠 | |
JP5579545B2 (ja) | 大型ペリクル用枠体、大型ペリクル及び大型ペリクル用枠体の製造方法 | |
JP4601204B2 (ja) | ペリクル用枠体 | |
JP6975702B2 (ja) | ペリクルフレームおよびペリクル |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170816 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180619 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180803 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181211 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190124 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190611 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190624 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6555343 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |