JP5876927B2 - ペリクル及びペリクルフレーム並びにペリクルの製造方法 - Google Patents
ペリクル及びペリクルフレーム並びにペリクルの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5876927B2 JP5876927B2 JP2014506285A JP2014506285A JP5876927B2 JP 5876927 B2 JP5876927 B2 JP 5876927B2 JP 2014506285 A JP2014506285 A JP 2014506285A JP 2014506285 A JP2014506285 A JP 2014506285A JP 5876927 B2 JP5876927 B2 JP 5876927B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- film
- frame
- pellicle frame
- pair
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 35
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 48
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 44
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 8
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 claims description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 388
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 74
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 72
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 39
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 23
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 23
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 18
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 16
- -1 etc.) Chemical compound 0.000 description 15
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 12
- 230000008569 process Effects 0.000 description 10
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 7
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 6
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 6
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 5
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 208000028382 Tympanic membrane disease Diseases 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 239000012943 hotmelt Substances 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 2
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 235000012489 doughnuts Nutrition 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000002905 metal composite material Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000037330 wrinkle prevention Effects 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
- G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Packaging Frangible Articles (AREA)
Description
(実施例)
(実施例1)
(実施例2)
(実施例3)
(実施例4)
(実施例5)
(実施例6)
(実施例7)
(実施例8)
(実施例9)
(実施例10)
(実施例11)
(比較例1)
(比較例2)
(比較例3)
(比較例4)
(比較例5)
また、比較例4におけるペリクル膜の長辺側の膜沈み量は2.78mm、短辺側の膜沈み量は2.37mmであった。
(比較例6)
(比較例7〕
(比較例8)
Claims (6)
- (a)四つの辺部により略矩形の枠状に形成されて高分子材料からなるペリクル膜を展張支持するペリクルフレームを用意する工程と、
(b)前記ペリクルフレームに前記ペリクル膜を展張支持する工程と、
を有するペリクルを製造する方法であって、以下の条件1及び条件2のうちの少なくとも一方を満たす、方法。
条件1:前記工程(a)で用意される前記ペリクルフレームにおいて、前記辺部の長辺幅/長辺長の割合が、0.3%以上0.9%以下であり、前記辺部の前記長辺幅が、5mm以上、15mm以下であり、前記辺部の一対の長辺部が前記ペリクルフレームの外側に膨出しており、当該一対の長辺部の膨出量が、3mm以上、20mm以下であり、
前記工程(b)は、少なくとも膨出された前記辺部の前記一対の長辺部が前記ペリクルフレームの内側に向けて弾性変形された状態で、前記ペリクル膜を前記ペリクルフレームに貼り付ける工程を含む。
条件2:前記工程(a)で用意される前記ペリクルフレームにおいて、前記辺部の短辺幅/短辺長の割合が0.3%以上0.9%以下であり、前記辺部の前記短辺幅が、4mm以上、15mm以下であり、前記辺部の一対の短辺部が前記ペリクルフレームの外側に膨出しており、当該一対の短辺部の膨出量が、2.8mm以上、15mm以下であり、
前記工程(b)は、少なくとも膨出された前記辺部の前記一対の短辺部が前記ペリクルフレームの内側に向けて弾性変形された状態で、前記ペリクル膜を前記ペリクルフレームに貼り付ける工程を含む。 - 前記工程(a)で用意される前記ペリクルフレームにおいて、前記辺部の前記長辺長が、400mm以上、2000mm以下であり、前記辺部の前記短辺長が、200mm以上、1800mm以下である、請求項1に記載の方法。
- 前記工程(a)で用意される前記ペリクルフレームがヤング率が1GPa以上80GPa以下の材質により形成される、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記工程(b)直後の前記ペリクルにおいて、膨出された前記辺部の前記一対の長辺部及び/又は前記一対の短辺部が、当該一対の長辺部及び/又は当該一対の短辺部の復元力と前記ペリクル膜の膜張力とのつり合いにより、略直線状に形成されている、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記工程(b)直後の前記ペリクルにおいて、前記ペリクル膜には、以下の条件A、条件B及び条件Cを全て満たすような大きさの膜張力が付与されている、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
条件A:前記ペリクル膜が略水平となるように前記ペリクルを配置した状態において、前記ペリクル膜上の第1基準点であって、平面視で前記ペリクルフレームの前記辺部の長辺部の内縁の中央点から当該長辺部の内縁と直交する方向に30mm離れた第1基準点上に10.6gの重りを載せた場合の当該第1基準点の沈み量が0.4mm以上、2.4mm以下である。
条件B:前記ペリクル膜が略水平となるように前記ペリクルを配置した状態において、前記ペリクル膜上の第2基準点であって、平面視で前記ペリクルフレームの前記辺部の短辺部の内縁の中央点から当該短辺部と直交する方向に30mm離れた第2基準点上に10.6gの重りを載せた場合の当該第2基準点の沈み量が0.3mm以上、2.3mm以下である。
条件C:前記第1基準点の前記沈み量と前記第2基準点の前記沈み量との差の絶対値が0.4mm以下である。 - (a)基板上に成膜された高分子材料からなるペリクル膜を、開口部を有する枠体に当該開口部を覆うように貼り付ける工程と、
(b)前記枠体に貼り付けられた前記ペリクル膜を、前記基板から剥離する工程と、
(c)四つの辺部により略矩形の枠状に形成されたペリクルフレームであって、少なくとも一対の前記辺部が前記ペリクルフレームの外側に膨出しているペリクルフレームを用意する工程と、
(d)前記ペリクルフレームの前記少なくとも一対の前記辺部に外力を付与することにより、当該少なくとも一対の前記辺部が略直線状になるように当該少なくとも一対の前記辺部を弾性変形させる工程と、
(e)前記工程(d)の後に、前記少なくとも一対の前記辺部が略直線状になるように弾性変形している状態の前記ペリクルフレームに、当該ペリクルフレームの開口部を覆うように前記枠体に貼り付けられた前記ペリクル膜を貼り付ける工程と、
(f)前記工程(e)の後に、前記少なくとも一対の前記辺部に付与している前記外力を取り除くことにより、前記ペリクル膜を前記ペリクルフレームによって展張支持する工程と、
(g)前記工程(e)の後に、前記ペリクル膜の余剰部分及び前記枠体を除去する工程と、
を備え、以下の条件1及び条件2のうちの少なくとも一方を満たす、ペリクルの製造方法。
条件1:前記工程(c)で用意されるペリクルフレームにおいて、前記辺部の長辺幅/長辺長の割合が、0.3%以上0.9%以下であり、前記辺部の前記長辺幅が、5mm以上、15mm以下であり、前記辺部の一対の長辺部が前記ペリクルフレームの外側に膨出しており、当該一対の長辺部の膨出量が、3mm以上、20mm以下である。
条件2:前記工程(c)で用意されるペリクルフレームにおいて、前記辺部の短辺幅/短辺長の割合が0.3%以上0.9%以下であり、前記辺部の前記短辺幅が、4mm以上、15mm以下であり、前記辺部の一対の短辺部が前記ペリクルフレームの外側に膨出しており、当該一対の短辺部の膨出量が、2.8mm以上、15mm以下である。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014506285A JP5876927B2 (ja) | 2012-03-21 | 2013-03-21 | ペリクル及びペリクルフレーム並びにペリクルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012064442 | 2012-03-21 | ||
JP2012064442 | 2012-03-21 | ||
PCT/JP2013/058173 WO2013141325A1 (ja) | 2012-03-21 | 2013-03-21 | ペリクル及びペリクルフレーム並びにペリクルの製造方法 |
JP2014506285A JP5876927B2 (ja) | 2012-03-21 | 2013-03-21 | ペリクル及びペリクルフレーム並びにペリクルの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2013141325A1 JPWO2013141325A1 (ja) | 2015-08-03 |
JP5876927B2 true JP5876927B2 (ja) | 2016-03-02 |
Family
ID=49222779
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014506285A Active JP5876927B2 (ja) | 2012-03-21 | 2013-03-21 | ペリクル及びペリクルフレーム並びにペリクルの製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5876927B2 (ja) |
KR (2) | KR101688713B1 (ja) |
CN (2) | CN111580339A (ja) |
WO (1) | WO2013141325A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI658321B (zh) | 2013-12-05 | 2019-05-01 | 荷蘭商Asml荷蘭公司 | 用於製造一表膜的裝置與方法,以及一表膜 |
JP6564846B2 (ja) * | 2015-02-19 | 2019-08-21 | 株式会社ブイ・テクノロジー | ペリクルフレーム把持装置及びペリクルフレーム把持方法 |
JP6555343B2 (ja) * | 2015-05-08 | 2019-08-07 | 日本軽金属株式会社 | ペリクル用支持枠 |
JP2018049256A (ja) * | 2016-04-05 | 2018-03-29 | 旭化成株式会社 | ペリクル |
CN108123671A (zh) * | 2017-11-29 | 2018-06-05 | 北京创昱科技有限公司 | 一种框架压缩装置及薄膜拉伸方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3386693B2 (ja) * | 1997-06-09 | 2003-03-17 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルの製造方法 |
JP4007752B2 (ja) | 1999-07-30 | 2007-11-14 | 旭化成エレクトロニクス株式会社 | 大型ペリクル用枠体及び大型ペリクル |
JP4004188B2 (ja) * | 1999-07-30 | 2007-11-07 | 旭化成エレクトロニクス株式会社 | 大型ペリクル用枠体 |
JP4082845B2 (ja) * | 2000-04-10 | 2008-04-30 | 信越化学工業株式会社 | リソグラフィー用ペリクルおよびペリクル膜の反りの緩和方法 |
JP4043232B2 (ja) * | 2001-01-26 | 2008-02-06 | 旭化成エレクトロニクス株式会社 | 大型ペリクル |
JP2004226476A (ja) | 2003-01-20 | 2004-08-12 | Asahi Glass Co Ltd | ペリクルの製造方法 |
JP2005309129A (ja) * | 2004-04-22 | 2005-11-04 | Renesas Technology Corp | ペリクル及びマスク |
JP4286194B2 (ja) * | 2004-08-18 | 2009-06-24 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム、および該フレームを用いたフォトリソグラフィー用ペリクル |
JP2006178434A (ja) * | 2004-11-25 | 2006-07-06 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 大型ペリクル |
JP2009063740A (ja) * | 2007-09-05 | 2009-03-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクルフレーム |
KR101990345B1 (ko) * | 2009-10-02 | 2019-06-18 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 펠리클의 제조 방법 |
JP4974389B2 (ja) * | 2009-10-30 | 2012-07-11 | 信越化学工業株式会社 | リソグラフィ用ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル |
JP5641602B2 (ja) * | 2010-09-07 | 2014-12-17 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | ペリクルの製造方法 |
-
2013
- 2013-03-21 WO PCT/JP2013/058173 patent/WO2013141325A1/ja active Application Filing
- 2013-03-21 KR KR1020147025813A patent/KR101688713B1/ko active IP Right Grant
- 2013-03-21 KR KR1020167019157A patent/KR20160087927A/ko active Search and Examination
- 2013-03-21 CN CN202010166075.2A patent/CN111580339A/zh active Pending
- 2013-03-21 CN CN201380015496.3A patent/CN104204943B/zh active Active
- 2013-03-21 JP JP2014506285A patent/JP5876927B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN111580339A (zh) | 2020-08-25 |
CN104204943A (zh) | 2014-12-10 |
JPWO2013141325A1 (ja) | 2015-08-03 |
WO2013141325A1 (ja) | 2013-09-26 |
CN104204943B (zh) | 2020-04-03 |
KR20140130172A (ko) | 2014-11-07 |
KR101688713B1 (ko) | 2016-12-21 |
KR20160087927A (ko) | 2016-07-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5284445B2 (ja) | ペリクル枠体、ペリクル及びペリクル枠体の使用方法 | |
JP5478463B2 (ja) | リソグラフィー用ペリクル | |
JP5876927B2 (ja) | ペリクル及びペリクルフレーム並びにペリクルの製造方法 | |
US8582077B2 (en) | Pellicle, mounting method therefor, pellicle-equipped mask, and mask | |
JP2009025562A (ja) | ペリクルフレーム | |
TWI554409B (zh) | 防塵薄膜組件的貼附方法以及使用於該方法的貼附裝置 | |
JP2011076042A (ja) | ペリクル | |
TW201819492A (zh) | 防護薄膜組件 | |
JP2016062055A (ja) | ペリクルフレームおよびペリクル | |
KR102461618B1 (ko) | 펠리클 프레임 및 이것을 사용한 펠리클 | |
JP5641602B2 (ja) | ペリクルの製造方法 | |
JP2011164259A (ja) | リソグラフィー用ペリクル | |
JP6389353B2 (ja) | ペリクル枠体及びペリクル | |
JP2011028091A (ja) | ペリクル | |
JP6018391B2 (ja) | ペリクル | |
JP5767535B2 (ja) | ペリクル枠体、ペリクル及びペリクル枠体の製造方法 | |
KR102259620B1 (ko) | 펠리클 | |
JP2015081968A (ja) | ペリクル | |
JP2011059446A (ja) | ペリクル枠体、ペリクル及びペリクル枠体の使用方法 | |
JP6975702B2 (ja) | ペリクルフレームおよびペリクル | |
JP5579545B2 (ja) | 大型ペリクル用枠体、大型ペリクル及び大型ペリクル用枠体の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150512 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150713 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150929 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151125 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160119 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160122 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5876927 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |